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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>泛林集團(tuán)的選擇性刻蝕方法:Argos、Prevos和Selis

泛林集團(tuán)的選擇性刻蝕方法:Argos、Prevos和Selis

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在網(wǎng)是什么?

隨著信息通信技術(shù)日新月異地發(fā)展,信息社會(huì)一步步走向現(xiàn)實(shí),一種強(qiáng)調(diào)“無(wú)所不在”或“ 在”通信理念的特征正日漸清晰, “在”將是信息社會(huì)重要的特征,在網(wǎng)將成為信息社會(huì)的重要載體并已經(jīng)成為信息通信業(yè)
2019-10-10 09:12:14

選擇性發(fā)射極晶體硅太陽(yáng)電池實(shí)現(xiàn)方法分析

  所謂選擇性發(fā)射極(SE-selectiveemiter)晶體硅太陽(yáng)電池,即在金屬柵線(電極)與硅片接觸部位進(jìn)行重?fù)诫s,在電極之間位置進(jìn)行輕摻雜。這樣的結(jié)構(gòu)可降低擴(kuò)散層復(fù)合,由此可提高光線的短波
2018-09-26 09:44:54

選擇性打開(kāi)前面板

選擇性打開(kāi)前面板
2013-10-16 15:48:13

選擇性焊接的工藝流程及特點(diǎn)

焊接應(yīng)運(yùn)而生,成為經(jīng)濟(jì)而有效地完成剩余插裝件的焊接方法,而且與將來(lái)的無(wú)鉛焊接完全兼容。   選擇性焊接的工藝特點(diǎn)    &
2009-04-07 17:17:49

選擇性焊接的流程

典型的選擇性焊接的工藝流程包括:助焊劑噴涂,PCB預(yù)熱、浸焊和拖焊。 助焊劑涂布工藝 在選擇性焊接中,助焊劑涂布工序起著重要的作用。焊接加熱與焊接結(jié)束時(shí),助焊劑應(yīng)有足夠的活性防止橋接的產(chǎn)生并防止
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AOE刻蝕系統(tǒng)

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2018-09-07 15:08:00

PCB選擇性焊接工藝難點(diǎn)解析

是一種全新 的方法,徹底了解選擇性焊接工藝和設(shè)備是成功焊接所必需的。麥|斯|艾|姆|P|CB樣板貼片,麥1斯1艾1姆1科1技全國(guó)1首家P|CB樣板打板  選擇性焊接的流程  典型的選擇性焊接的工藝流程包括
2013-09-13 10:25:12

PCB選擇性焊接工藝難點(diǎn)解析

的待焊接部位,而不是整個(gè)PCB。另外選擇性焊接僅適用于插裝元件的焊接。選擇性焊接是一種全新 的方法,徹底了解選擇性焊接工藝和設(shè)備是成功焊接所必需的。
2017-10-31 13:40:44

PCB選擇性焊接技術(shù)介紹

整個(gè)PCB。另外選擇性焊接僅適用于插裝元件的焊接。選擇性焊接是一種全新的方法,徹底了解選擇性焊接工藝和設(shè)備是成功焊接所必需的。  選擇性焊接的流程   典型的選擇性焊接的工藝流程包括:助焊劑噴涂
2012-10-17 15:58:37

PCB選擇性焊接技術(shù)詳細(xì)

件的焊接方法,而且與將來(lái)的無(wú)鉛焊接完全兼容。 選擇性焊接的工藝特點(diǎn)   可通過(guò)與波峰焊的比較來(lái)了解選擇性焊接的工藝特點(diǎn)。兩者間最明顯的差異在于波峰焊中PCB的下部完全浸入液態(tài)焊料中,而在選擇性焊接中
2012-10-18 16:32:47

PCB選擇性焊接技術(shù)詳細(xì)

應(yīng)用中都可以在回流焊接之后采用選擇焊接。這將成為經(jīng)濟(jì)而有效地完成剩余插裝件的焊接方法,而且與將來(lái)的無(wú)鉛焊接完全兼容。 選擇性焊接的工藝特點(diǎn)   可通過(guò)與波峰焊的比較來(lái)了解選擇性焊接的工藝特點(diǎn)。兩者間
2012-10-18 16:26:06

PCB選擇性焊接的工藝特點(diǎn)及流程

PCB下部的待焊接部位,而不是整個(gè)PCB。另外選擇性焊接僅適用于插裝元件的焊接。選擇性焊接是一種全新 的方法,徹底了解選擇性焊接工藝和設(shè)備是成功焊接所必需的?! ?b class="flag-6" style="color: red">選擇性焊接的流程  典型的選擇性焊接
2018-09-14 11:28:22

PCB板選擇性焊接工藝

。另外選擇性焊接僅適用于插裝元件的焊接。選擇性焊接是一種全新的方法,徹底了解選擇性焊接工藝和設(shè)備是成功焊接所必需的。  選擇性焊接的流程  典型的選擇性焊接的工藝流程包括:助焊劑噴涂,PCB預(yù)熱、浸焊
2018-09-10 16:50:02

labview如何選擇性顯示圖像。

如題,比如我設(shè)計(jì)兩個(gè)函數(shù)y=2*x;y=x,只有一個(gè)xy顯示面板。如果我選擇y=2*x,就只顯示該函數(shù)圖像;如果我選擇另外一個(gè)函數(shù),圖像就變成該函數(shù)的圖像。應(yīng)該怎么做,用哪些指令,叩謝
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labview數(shù)組的選擇性排序如何做?

我會(huì)冒泡排序,但是我做選擇性排序時(shí),不知道如何將最外層for循環(huán)的每層最大值給傳遞下去,交換索引地址也出現(xiàn)了問(wèn)題
2018-03-24 14:13:24

【轉(zhuǎn)】PCB選擇性焊接技術(shù)

裝元件的焊接。選擇性焊接是一種全新的方法,徹底了解選擇性焊接工藝和設(shè)備是成功焊接所必需的。選擇性焊接的流程典型的選擇性焊接的工藝流程包括:助焊劑噴涂,PCB預(yù)熱、浸焊和拖焊。助焊劑涂布工藝在選擇性焊接
2018-06-28 21:28:53

【轉(zhuǎn)帖】干法刻蝕的優(yōu)點(diǎn)和過(guò)程

暴露于OH-離子時(shí),在刻蝕中硅表面會(huì)變粗糙。鋁膜濕法刻蝕對(duì)于鋁和鋁合金層有選擇性刻蝕溶液是居于磷酸的。遺憾的是,鋁和磷酸反應(yīng)的副產(chǎn)物是微小的氫氣泡。這些氣泡附著在晶圓表面,并阻礙刻蝕反應(yīng)。結(jié)果既可
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一文讀懂選擇性焊接的工藝特點(diǎn)及流程

選擇性焊接的流程包括哪些?選擇性焊接工藝有哪幾種?
2021-04-25 10:00:18

典型的選擇性焊接的工藝流程包括哪幾個(gè)步驟

選擇性焊接的工藝特點(diǎn)是什么典型的選擇性焊接的工藝流程包括哪幾個(gè)步驟
2021-04-25 08:59:39

前面板里的按鍵或顯示項(xiàng),可否通過(guò)程序選擇性顯示?

本帖最后由 lazybear 于 2013-1-17 19:11 編輯 前面板里的按鍵或顯示項(xiàng)目,可以通過(guò)程序選擇性顯示嗎?如題,因?yàn)榍懊姘宓陌存I太多了,看起來(lái)比較亂。又因?yàn)橛行┌存I是相關(guān)
2013-01-17 19:10:26

如何才能實(shí)現(xiàn)將采集到的數(shù)據(jù)進(jìn)行選擇性保存,一般是讀取數(shù)據(jù)后加保存,可不可以用一個(gè)按鈕選擇保存?

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2017-05-04 09:21:47

怎么對(duì)labview的數(shù)據(jù)庫(kù)中的數(shù)據(jù),按時(shí)間選擇性讀取啊

怎么對(duì)labview的數(shù)據(jù)庫(kù)中的數(shù)據(jù),按時(shí)間選擇性讀取啊
2016-01-25 13:03:07

怎么對(duì)兩個(gè)寄存器的數(shù)據(jù)進(jìn)行有選擇性的合并,大致電路框圖怎么實(shí)現(xiàn)?

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2017-10-09 19:41:52

求助labview實(shí)現(xiàn)“選擇性粘貼”的方法

目前手上有個(gè)應(yīng)用程序,生成的數(shù)據(jù)可以復(fù)制到剪貼板中,在Excel中選擇選擇性粘貼”-》“粘貼鏈接”功能后,excel中顯示的數(shù)據(jù)是前面那個(gè)軟件的實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)?,F(xiàn)在我想把這個(gè)功能在labview里實(shí)現(xiàn),請(qǐng)大俠們指點(diǎn)。
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深度解析PCB選擇性焊接工藝難點(diǎn)

是一種全新 的方法,徹底了解選擇性焊接工藝和設(shè)備是成功焊接所必需的。麥|斯|艾|姆|P|CB樣板貼片,麥1斯1艾1姆1科1技全國(guó)1首家P|CB樣板打板  選擇性焊接的流程  典型的選擇性焊接的工藝流程
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2019-09-17 16:18:462163

PCB板選擇性焊接的工藝流程解析

可通過(guò)與波峰焊的比較來(lái)了解選擇性焊接的工藝特點(diǎn)。兩者間最明顯的差異在于波峰焊中PCB的下部完全浸入液態(tài)焊料中,而在選擇性焊接中,僅有部分特定區(qū)域與焊錫波接觸。
2020-04-10 16:52:581174

選擇性焊接與波峰焊:優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)

在 PCB 組裝過(guò)程中,很多時(shí)候,由于一種或多種原因,更傳統(tǒng)的工具或方法(例如波峰焊)并非總是最佳選擇。組裝技術(shù)人員可能會(huì)花費(fèi)大量時(shí)間來(lái)嘗試使這些傳統(tǒng)過(guò)程正常運(yùn)行。或者,他們可以使用專門(mén)針對(duì)當(dāng)前
2020-09-23 20:39:176748

GaN材料干法刻蝕工藝在器件工藝中有著廣泛的應(yīng)用

摘要:對(duì)比了RIE,ECR,ICP等幾種GaN7干法刻蝕方法的特點(diǎn)?;仡櫫耍牵幔危狈?b class="flag-6" style="color: red">刻蝕領(lǐng)域的研究進(jìn)展。以ICP刻蝕GaN和AIGaN材料為例,通過(guò)工藝參數(shù)的優(yōu)化,得到了高刻蝕速率和理想的選擇比及
2020-12-29 14:39:292909

干法刻蝕之鋁刻蝕的介紹,它的原理是怎樣的

在集成電路的制造過(guò)程中,刻蝕就是利用化學(xué)或物理方法選擇性地從硅片表面去除不需要的材料的過(guò)程。從工藝上區(qū)分,刻蝕可以分為濕法刻蝕和干法刻蝕。前者的主要特點(diǎn)是各向同性刻蝕;后者是利用等離子體來(lái)進(jìn)行
2020-12-29 14:42:588547

頻率選擇性表面仿真方法

頻率選擇性表面(FSS)功能上就是對(duì)空間中傳播的平面波的“濾波器”,物理上多通過(guò)周期結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn),屬于典型的電磁散射問(wèn)題。
2021-06-07 10:21:405

LiNbO3選擇性刻蝕的研究

引言 隨著制造技術(shù)的不斷進(jìn)步,特別是基于納米或微米結(jié)構(gòu)的制造,已經(jīng)研究出了具有強(qiáng)光學(xué)限制的各種制造工藝.兩種最廣泛使用的基于擴(kuò)散的制造波導(dǎo)的方法已經(jīng)在超導(dǎo)材料中得到了很好的確立,即鈦熱擴(kuò)散和質(zhì)子交換
2021-12-24 16:24:52400

基于 KOH 的 AIN 和 GaN 體的選擇性濕化學(xué)蝕刻

我們?nèi)A林科納開(kāi)發(fā)了一種可控、平滑的氫氧化鉀基濕法刻蝕技術(shù),AlN和AlxGa1xN之間的高選擇性被發(fā)現(xiàn)對(duì)于基于AlGaN的深紫外發(fā)光二極管實(shí)現(xiàn)有效的襯底減薄或去除至關(guān)重要,從而提高光提取效率
2022-01-05 16:10:51564

泛林集團(tuán)推出開(kāi)創(chuàng)性的選擇性刻蝕設(shè)備組合,以加速芯片制造商的3D路線圖

北京時(shí)間2022年2月10日,泛林集團(tuán) (NASDAQ: LRCX) 宣布推出一系列新的選擇性刻蝕產(chǎn)品,這些產(chǎn)品應(yīng)用突破性的晶圓制造技術(shù)和創(chuàng)新的化學(xué)成分,以支持芯片制造商開(kāi)發(fā)環(huán)柵 (GAA) 晶體管結(jié)構(gòu)。
2022-02-10 14:45:401102

關(guān)于微技術(shù)中硅反應(yīng)離子刻蝕的研究

等離子體輔助刻蝕的基礎(chǔ)簡(jiǎn)單;使用氣體輝光放電來(lái)離解和離子化相對(duì)穩(wěn)定的分子,形成化學(xué)反應(yīng)性和離子性物質(zhì),并選擇化學(xué)物質(zhì),使得這些物質(zhì)與待蝕刻的固體反應(yīng),形成揮發(fā)性產(chǎn)物。等離子體蝕刻可分為單晶片和分批
2022-02-14 15:22:071612

碳化硅和二氧化硅之間穩(wěn)定性的刻蝕選擇性

磷酸(H3PO4) -水(H2O)混合物在高溫下已被使用多年來(lái)蝕刻對(duì)二氧化硅(二氧化硅)層有選擇性的氮化硅(Si3N4)。生產(chǎn)需要完全去除Si3N4,同時(shí)保持二氧化硅損失最小。批量晶片清洗的挑戰(zhàn)是如何保持Si3N4對(duì)二氧化硅的高蝕刻選擇性,以獲得更長(zhǎng)的槽壽命。
2022-02-15 11:25:592557

泛林集團(tuán)推開(kāi)創(chuàng)性的選擇性刻蝕解決方案 加速實(shí)現(xiàn)3D

通過(guò)與客戶、技術(shù)專家和產(chǎn)品團(tuán)隊(duì)的合作,他們已經(jīng)在選擇性刻蝕創(chuàng)新方面實(shí)現(xiàn)突破,這將使世界領(lǐng)先的芯片制造商得以提供下一代3D邏輯和存儲(chǔ)設(shè)備。
2022-03-22 09:26:071836

泛林集團(tuán)推三款開(kāi)創(chuàng)性的選擇性刻蝕產(chǎn)品 此前宣布季度股息1.5美元每股

推出三款開(kāi)創(chuàng)性的選擇性刻蝕產(chǎn)品:Argos?、Prevos?和Selis?。這些突破性產(chǎn)品旨在補(bǔ)充和擴(kuò)展泛林集團(tuán)行業(yè)領(lǐng)先的刻蝕解決方案組合,使芯片制造商能夠以超高的選擇性和埃米級(jí)的精度刻蝕和修改薄膜,以實(shí)現(xiàn)最先進(jìn)的集成電路(IC)性能
2022-03-22 14:35:592667

TMAH溶液對(duì)硅得選擇性刻蝕研究

我們?nèi)A林科納研究了TMAH溶液中摩擦誘導(dǎo)選擇性蝕刻的性能受蝕刻溫度、刻蝕時(shí)間和刮刻載荷的影響,通過(guò)對(duì)比試驗(yàn),評(píng)價(jià)了硅摩擦誘導(dǎo)的選擇性蝕刻的機(jī)理,各種表面圖案的制造被證明與控制尖端痕跡劃傷。 蝕刻時(shí)間
2022-05-20 16:37:451683

半導(dǎo)體之選擇性外延工藝介紹

通過(guò)圖形化硅氧化或氮化硅掩蔽薄膜生長(zhǎng),可以在掩蔽膜和硅暴露的位置生長(zhǎng)外延層。這個(gè)過(guò)程稱為選擇性外延生長(zhǎng)(SEG)。
2022-09-30 15:00:385893

常見(jiàn)的各向同性濕法刻蝕的實(shí)際應(yīng)用

(也稱為 HNA 腐蝕劑);對(duì)硅的刻蝕速率和對(duì)掩模材料的刻蝕選擇性可通過(guò)各組分比例的不同來(lái)調(diào)節(jié)。目前,各向同性濕法刻蝕的實(shí)際應(yīng)用較少。
2022-10-08 09:16:323581

選擇性波峰焊介紹

選擇性波峰焊的出現(xiàn)主要是為了替代傳統(tǒng)的手工焊接,主要用于PCB板其他元器件組裝完成后對(duì)個(gè)別插腳元器件進(jìn)行焊接。選擇性波峰焊的優(yōu)點(diǎn)是它的適用性很強(qiáng),可以點(diǎn)焊、線焊和雙面焊接,可以很好的焊接不同位
2022-10-18 15:52:093882

嵌入式源漏選擇性外延(Embedded Source and Drain Selective Epitaxy)

源漏選擇性外延一般采用氮化硅或二氧化硅作為硬掩模遮蔽層,利用刻蝕氣體抑制遮蔽層上的外延生長(zhǎng),僅在曝露出硅的源漏極區(qū)域?qū)崿F(xiàn)外延生長(zhǎng)。
2022-11-29 16:05:151708

純化學(xué)刻蝕、純物理刻蝕及反應(yīng)式離子刻蝕介紹

刻蝕有三種:純化學(xué)刻蝕、純物理刻蝕,以及介于兩者之間的反應(yīng)式離子刻蝕(ReactiveIonEtch,RIE)。
2023-02-20 09:45:072586

碳化硅薄膜的選擇性刻蝕

摘要 一種用非金屬掩模層蝕刻碳化硅的方法。該方法包括提供碳化硅基底;通過(guò)在基底上施加一層材料來(lái)形成非金屬掩模層;形成掩模層以暴露基底的底層區(qū)域;并以第一速率用等離子體蝕刻基底的底層區(qū)域,同時(shí)以低于
2023-02-20 15:57:343

半導(dǎo)體刻蝕工藝簡(jiǎn)述(3)

對(duì)于濕法刻蝕,大部分刻蝕的終點(diǎn)都取決于時(shí)間,而時(shí)間又取決于預(yù)先設(shè)定的刻蝕速率和所需的刻蝕厚度。由于缺少自動(dòng)監(jiān)測(cè)終點(diǎn)的方法,所以通常由操作員目測(cè)終點(diǎn)。濕法刻蝕速率很容易受刻蝕劑溫度與濃度的影響,這種影響對(duì)不同工作站和不同批量均有差異,因此單獨(dú)用時(shí)間決定刻蝕終點(diǎn)很困難,一般釆用操作員目測(cè)的方式。
2023-03-06 13:56:031773

半導(dǎo)體行業(yè)之刻蝕工藝介紹

壓力主要控制刻蝕均勻性和刻蝕輪廓,同時(shí)也能影響刻蝕速率和選擇性。改變壓力會(huì)改變電子和離子的平均自由程(MFP),進(jìn)而影響等離子體和刻蝕速率的均勻性。
2023-04-17 10:36:431922

金屬濕法刻蝕

但是,HCl為基體的刻蝕溶液,會(huì)嚴(yán)重地侵蝕Ni(Pt)Si或Ni(Pt)SiGe,使金屬硅化物阻值升高。這就要求有一種刻蝕劑是無(wú)氯基體,而且對(duì)Ni(Pt)Si或Ni(Pt)SiGe無(wú)傷害、對(duì)金屬選擇性又高。這就是目前常用的高溫硫酸和雙氧水混合液
2023-05-29 10:48:271462

晶片濕法刻蝕方法

刻蝕硅,硅的均勻剝離,同時(shí)帶走表面顆粒。隨著器件尺寸縮減會(huì)引入很多新材料(如高介電常數(shù)和金屬柵極),那么在后柵極制程,多晶硅的去除常用氫氧化氨或四甲基羥胺(TMAH)溶液,制程關(guān)鍵是控制溶液的溫度和濃度,以調(diào)整刻蝕對(duì)多晶硅和其他材料的選擇比。
2023-06-05 15:10:011598

半導(dǎo)體前端工藝:刻蝕——有選擇性刻蝕材料,以創(chuàng)建所需圖形

在半導(dǎo)體制程工藝中,有很多不同名稱的用于移除多余材料的工藝,如“清洗”、“刻蝕”等。如果說(shuō)“清洗”工藝是把整張晶圓上多余的不純物去除掉,“刻蝕”工藝則是在光刻膠的幫助下有選擇性地移除不需要的材料,從而創(chuàng)建所需的微細(xì)圖案。半導(dǎo)體“刻蝕”工藝所采用的氣體和設(shè)備,在其他類似工藝中也很常見(jiàn)。
2023-06-15 17:51:571181

劃片機(jī):晶圓加工第四篇—刻蝕的兩種方法

刻蝕在晶圓上完成電路圖的光刻后,就要用刻蝕工藝來(lái)去除任何多余的氧化膜且只留下半導(dǎo)體電路圖。要做到這一點(diǎn)需要利用液體、氣體或等離子體來(lái)去除選定的多余部分。刻蝕方法主要分為兩種,取決于所使用的物質(zhì)
2022-07-12 15:49:251454

干法刻蝕工藝介紹 硅的深溝槽干法刻蝕工藝方法

第一種是間歇式刻蝕方法(BOSCH),即多次交替循環(huán)刻蝕和淀積工藝,刻蝕工藝使用的是SF6氣體,淀積工藝使用的是C4F8氣體
2023-07-14 09:54:463214

刻蝕工藝主要分為哪幾種類型 刻蝕的目的是什么?

PVP可以在刻蝕過(guò)程中形成一層保護(hù)性的膜,降低刻蝕劑對(duì)所需刻蝕材料的腐蝕作用。它可以填充材料表面的裂縫、孔洞和微小空隙,并防止刻蝕劑侵入。這樣可以減少不需要的蝕刻或損傷,提高刻蝕選擇性。
2023-08-17 15:39:392859

什么是刻蝕選擇性?刻蝕選擇比怎么計(jì)算?受哪些因素的影響呢?

刻蝕(或蝕刻)是從晶圓表面去除特定區(qū)域的材料以形成相應(yīng)微結(jié)構(gòu)。但是,在目標(biāo)材料被刻蝕時(shí),通常伴隨著其他層或掩膜的刻蝕。
2023-10-07 14:19:252073

PCB選擇性焊接工藝技巧

 可通過(guò)與波峰焊的比較來(lái)了解選擇性焊接的工藝特點(diǎn)。兩者間明顯的差異在于波峰焊中PCB的下部完全浸入液態(tài)焊料中,而在選擇性焊接中,僅有部分特定區(qū)域與焊錫波接觸。由于PCB本身就是一種不良的熱傳導(dǎo)介質(zhì),因此焊接時(shí)它不會(huì)加熱熔化鄰近元器件和PCB區(qū)域的焊點(diǎn)。
2023-10-20 15:18:46256

半導(dǎo)體前端工藝(第四篇):刻蝕——有選擇性刻蝕材料,以創(chuàng)建所需圖形

半導(dǎo)體前端工藝(第四篇):刻蝕——有選擇性刻蝕材料,以創(chuàng)建所需圖形
2023-11-27 16:54:26256

電子制造業(yè)中的選擇性波峰焊有哪些優(yōu)缺點(diǎn)?

選擇性波峰焊是一種廣泛應(yīng)用于電子制造業(yè)的焊接技術(shù),它具有許多獨(dú)特的優(yōu)點(diǎn)和一些不足之處。本文將詳細(xì)介紹選擇性波峰焊的優(yōu)缺點(diǎn),幫助讀者全面了解該技術(shù)的特點(diǎn)及適用范圍。 選擇性波峰焊的優(yōu)點(diǎn)之一是高效
2024-01-15 10:41:03165

SMT加工廠用選擇性波峰焊有什么優(yōu)點(diǎn)嗎?

我們知道SMT貼片廠都能做后焊插件,后焊插件的話一般會(huì)用到波峰焊,近年來(lái)SMT加工廠用選擇性波峰焊的也越來(lái)越多了,選擇性波峰焊有什么優(yōu)點(diǎn)嗎?
2024-03-21 11:04:2890

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