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Intel制程技術節(jié)點概覽

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EUV光刻技術競爭激烈,三星7納米EUV制程已完成新思科技物理認證,臺積電緊追其后

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AMD工藝領先Intel兩代,AMD認為Intel依舊偉大

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由于在14nm上??刻?,Intel在名義制程工藝上,已經(jīng)明顯落后臺積電與三星。
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英特爾下一代酷睿處理器的工藝制程全面進軍10nm節(jié)點

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臺積電在2納米新制程節(jié)點有重大突破

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電子顯微鏡下觀察英特爾的14nm與臺積電的7nm差異

這些年在制程工藝上,Intel老是被詬病慢半拍,其實評價也不客觀,畢竟Intel制程節(jié)點的命名更嚴lao肅shi,所以才有Intel的10nm相當于甚至更優(yōu)于臺積電/三星7nm的說法。
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中芯國際的先進制程工藝再獲突破

作為中國大陸技術最先進、規(guī)模最大的晶圓代工企業(yè),中芯國際的制程工藝發(fā)展一直備受關注。歷經(jīng)20年,其制程工藝從0.18微米技術節(jié)點發(fā)展至如今的N+1工藝。
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英特爾不確定是否要在7納米制程節(jié)點上加倍使用

英特爾剛剛結(jié)束了其2020年第三季度的財報電話會議,該公司報告的收入有所下滑,即數(shù)據(jù)中心收入下降了10%。然而,英特爾首席執(zhí)行官鮑勃·斯旺(Bob Swan)關于其7納米制程節(jié)點的評論激起了我們的興趣:似乎英特爾仍不確定是否要在自己的7納米制程節(jié)點上加倍使用還是使用另一個。
2020-10-28 11:12:241405

汽車照明的發(fā)展歷史和DLP技術概覽

電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《汽車照明的發(fā)展歷史和DLP技術概覽.pdf》資料免費下載
2020-11-26 04:50:0015

Intel主動調(diào)整將部分處理器交由臺積電代工

在名義制程上,Intel已經(jīng)落后于臺積電和三星,后者早已開始5nm的代工。對于Intel來說,盡管自信技術更先進,可也必須解決當下產(chǎn)品的交付問題。
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Intel確認2023年首發(fā)7nm:會縮小與臺積電制程上的差距

Intel會在2023年上半年如期拿出7nm產(chǎn)品,而且會先用于客戶端處理器,之后才是服務器。 有犀利的分析師指出,2023年Intel首發(fā)7nm之時,臺積電已經(jīng)量產(chǎn)3nm一年時間甚至會帶來更先進的如2nm工藝,Intel怎么看待以及應對屆時的競爭態(tài)勢? 司睿博談了兩點,他表示制程工藝的確很重要,但并非
2021-01-22 16:55:251768

美光推出 1α DRAM 制程技術:內(nèi)存密度提升了 40% 節(jié)能 15%

1 月 27 日消息 內(nèi)存與存儲解決方案供應商美光科技今日宣布批量出貨基于 1α (1-alpha) 節(jié)點的 DRAM 產(chǎn)品。該制程是目前世界上最為先進的 DRAM 技術,在密度、功耗和性能等各方面
2021-01-27 13:56:031970

制程如何提升終端產(chǎn)品體驗?

對于半導體器件而言,制程工藝的進步將帶來效能提升和成本下降等多重利好,所以對于工藝制程向更小節(jié)點追求是整個行業(yè)的目標。但隨著制程節(jié)點的逐步下探,縮小到一定的尺寸后,挑戰(zhàn)并不來自于幾何約束,而進入到
2021-04-20 11:35:101702

IC 制程節(jié)點的良率與成本資料下載

電子發(fā)燒友網(wǎng)為你提供IC 制程節(jié)點的良率與成本資料下載的電子資料下載,更有其他相關的電路圖、源代碼、課件教程、中文資料、英文資料、參考設計、用戶指南、解決方案等資料,希望可以幫助到廣大的電子工程師們。
2021-04-21 08:49:0112

淺析英特爾加速制程工藝和封裝技術創(chuàng)新

新聞重點 1. 英特爾制程工藝和封裝技術創(chuàng)新路線圖,為從現(xiàn)在到2025年乃至更遠未來的下一波產(chǎn)品注入動力。 2. 兩項突破性制程技術:英特爾近十多年來推出的首個全新晶體管架構(gòu)RibbonFET,以及
2021-08-09 10:47:231726

英特爾的Intel 4工藝詳述

Intel 4 很好但很奇怪,真的很奇怪。在時間方面,英特爾預計這一制程將在今年晚些時候加速——這意味著會是明年產(chǎn)品使用的工藝。如果一切按計劃進行,Intel 4 的繼任者“Intel 3”將在幾乎整整一年之后(2023 年底開始升級)。這應該開始讓您了解英特爾如何看待這個制程。
2022-06-22 14:42:074577

三星電子GAA制程工藝節(jié)點芯片開始初步生產(chǎn)

2022年6月30日,作為先進的半導體技術廠商之一的三星電子今日宣布, 基于3nm全環(huán)繞柵極(Gate-All-AroundT,簡稱 GAA)制程工藝節(jié)點的芯片已經(jīng)開始初步生產(chǎn)。
2022-06-30 10:15:591884

EF3器件概覽

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2022-09-27 09:13:170

Eagle器件概覽

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2022-09-27 09:22:002

SALEAGLE FPGA器件概覽

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2022-09-27 09:16:470

SALELF 2系列FPGA器件概覽

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2022-09-26 15:08:101

美光出貨全球最先進的1β技術節(jié)點DRAM

有限公司,納斯達克股票代碼:MU)今日宣布,其采用全球最先進技術節(jié)點的1β DRAM產(chǎn)品已開始向部分智能手機制造商和芯片平臺合作伙伴送樣以進行驗證,并做好了量產(chǎn)準備。美光率先在低功耗LPDDR5X移動內(nèi)存上采用該新一代制程技術,其最高速率可達每秒8.5Gb。該節(jié)點在性能、密度和能效方面都有
2022-11-02 11:31:27494

美光正式出貨全球最先進的 1β技術節(jié)點DRAM

的 1β DRAM 產(chǎn)品已開始向部分智能手機制造商和芯片平臺合作伙伴送樣以進行驗證,并做好了量產(chǎn)準備。美光率先在低功耗 LPDDR5X 移動內(nèi)存上采用該新一代制程技術,其最高速率可達每秒 8.5Gb。該節(jié)點在性能、密度和能效方面都有顯著提升,將為市場帶來巨大收益。除了移動應用,基于 1β 節(jié)點
2022-11-02 11:50:51578

模擬輸出及架構(gòu)概覽

模擬輸出及架構(gòu)概覽
2022-11-04 09:52:103

英特爾硬碰臺積電,Intel 20A、Intel 18A 工藝研發(fā)已獲突破

全球半導體龍頭寶座,重鑄往日榮光,備受外界矚目。 據(jù)臺灣經(jīng)濟日報,Intel 20A、Intel 18A 已經(jīng)流片(設計定案)。這是該公司近期給出最新的 2 納米以下制程技術進展,讓市場更關注其與臺積電之間的制程技術競爭。 英特爾高級副總裁暨中國區(qū)董事長王銳近日表示,“
2023-03-08 16:57:23606

Cadence 數(shù)字、定制/模擬設計流程通過認證,Design IP 現(xiàn)已支持 Intel 16 FinFET 制程

流程現(xiàn)已通過 Intel 16 FinFET 工藝技術認證,其 Design IP 現(xiàn)可支持 Intel Foundry Services(IFS)的此工藝節(jié)點。 與此同時,Cadence 和 Intel 共同發(fā)布
2023-07-14 12:50:02381

英特爾和新思科技深化合作,提供基于英特爾先進制程節(jié)點的領先IP

技與英特爾長期的IP和EDA戰(zhàn)略合作伙伴關系之上。 英特爾和新思科技(Synopsys)宣布已經(jīng)達成最終協(xié)議,深化在半導體IP和EDA(電子設計自動化)領域的長期戰(zhàn)略合作伙伴關系,共同為英特爾代工服務的客戶開發(fā)基于Intel 3和Intel 18A制程節(jié)點的IP產(chǎn)品組合。提供基于英特爾
2023-08-26 10:20:01435

英特爾新處理器曝光,先進技術Intel 7制程

目前,英特爾量產(chǎn)的最先進技術Intel 7制程,比前一代Intel 10的SuperFin制程的每瓦效能提升約10%-15%,而Meteor Lake采用Intel 4制程生產(chǎn),導入了極紫外光
2023-09-08 15:28:55750

英特爾和新思科技深化合作,提供基于英特爾先進制程節(jié)點的領先IP

合作伙伴關系。 英特爾和新思科技(Synopsys)近日宣布已經(jīng)達成最終協(xié)議,深化在半導體IP和EDA(電子設計自動化)領域的長期戰(zhàn)略合作伙伴關系,共同為英特爾代工服務的客戶開發(fā)基于Intel 3和Intel 18A制程節(jié)點的IP產(chǎn)品組合。提供基于英特爾先進制程節(jié)點的關鍵
2023-09-12 16:36:24175

英特爾宣布Intel 4已大規(guī)模量產(chǎn),“四年五個制程節(jié)點”計劃又進一步

近日,英特爾宣布已開始采用極紫外光刻(EUV)技術大規(guī)模量產(chǎn)(HVM)Intel 4制程節(jié)點Intel 4大規(guī)模量產(chǎn)的如期實現(xiàn),再次證明了英特爾正以強大的執(zhí)行力推進“四年五個制程節(jié)點”計劃,并將
2023-10-13 15:57:43214

英特爾宣布Intel 4已大規(guī)模量產(chǎn),“四年五個制程節(jié)點”計劃又進一步

近日,英特爾宣布已開始采用極紫外光刻(EUV)技術大規(guī)模量產(chǎn)(HVM)Intel 4制程節(jié)點Intel 4大規(guī)模量產(chǎn)的如期實現(xiàn),再次證明了英特爾正以強大的執(zhí)行力推進“四年五個制程節(jié)點”計劃,并將
2023-10-13 21:20:02295

FPC全制程技術講解.zip

FPC全制程技術講解
2022-12-30 09:20:066

FPC全制程技術講解 1.zip

FPC全制程技術講解1
2023-03-01 15:37:370

FPC全制程技術講解.zip

FPC全制程技術講解
2023-03-01 15:37:371

FPC全制程技術講解1.zip

FPC全制程技術講解1
2023-03-01 15:37:372

英特爾CEO:“四年五個制程節(jié)點”進展正在得到第三方肯定

近日,英特爾公司首席執(zhí)行官帕特·基辛格表示,英特爾將按計劃或提前完成其“四年五個制程節(jié)點”計劃,英特爾在制程技術方面取得的進展正在得到第三方的充分肯定。 在2021年7月,英特爾公布了“四年五個制程
2023-11-10 17:48:09238

[半導體前端工藝:第二篇] 半導體制程工藝概覽與氧化

[半導體前端工藝:第二篇] 半導體制程工藝概覽與氧化
2023-11-29 15:14:34541

英特爾:未來節(jié)點演進版性能提升預計不超過10%

Andreas Schilling指出,英特爾CEO帕特·基辛格承諾“P”和“E”兩大類型的升級版節(jié)點在PPA方面可提升5+%。至于Intel 7/4/3/20A/18A等主要制程節(jié)點,預計每步的PPA提升將達到14~15+%。
2024-02-22 15:05:38137

Cadence數(shù)字和定制/模擬流程通過Intel 18A工藝技術認證

Cadence近日宣布,其數(shù)字和定制/模擬流程在Intel的18A工藝技術上成功通過認證。這一里程碑式的成就意味著Cadence的設計IP將全面支持Intel的代工廠在這一關鍵節(jié)點上的工作,并提供制程
2024-02-27 14:02:18160

Cadence數(shù)字和定制/模擬流程在Intel 18A工藝技術上通過認證

Cadence? 設計 IP 支持 Intel 代工廠的這一節(jié)點,并提供相應的制程設計套件(PDK),用于加速一系列應用的開發(fā),包括低功耗消費電子、高性能計算(HPC)、人工智能和移動計算設計。
2024-02-27 14:21:13186

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