RM新时代网站-首页

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

ASML一共出貨了100臺EUV光刻機左右

電子工程師 ? 來源:TSMC ? 作者:TSMC ? 2021-01-08 11:37 ? 次閱讀

眾所周知,在芯片制造的過程中,***是最重要的一種設(shè)備,在芯片制造的幾百道工序中,***的成本占到了20%,光刻占用的工時達到了30%多,可以說是至關(guān)重要了。

而7nm及以下芯片的生產(chǎn),需要用到EUV***,7nm以上的***主要用DUV***,全球目前僅有ASML一家廠商能夠生產(chǎn)EUV***。

所以只要是想實現(xiàn)7nm及以下工藝的芯片生產(chǎn)廠商,就必須找ASML購買EUV***,買不到就沒辦法實現(xiàn)7nm。

而EUV***產(chǎn)能有限,所以像臺積電、三星intel們都要靠搶,誰能買到更多的***,誰在7nm及以下的工藝時,產(chǎn)能就能夠更大。

2020年ASML大概有35臺出貨量,而2021年大約是45-50臺的出貨量,而截止至2020年底,ASML一共出貨了100臺EUV***左右。

而這100臺EUV的***中,臺積電一家企業(yè)就拿下了60臺左右,占比高達60%,其它的全部被intel和三星拿走了。

而2018年中芯與ASML簽訂了一項EUV***購買協(xié)議,以1.2億美元購買一臺***,但直到現(xiàn)在都沒有交貨,因為沒有拿到出口許可證。

而隨著中芯被美國列入實體清單,10nm及以下的設(shè)備進口更是受阻,想必這臺EUV***想要買到就更難了。

芯片制程跟隨摩爾定律持續(xù)微縮,EUV光刻技術(shù)成為關(guān)鍵。目前臺積電及三星5nm工藝已量產(chǎn),而intel今年也將實現(xiàn)7nm。

格芯、聯(lián)電已放棄10nm及以下工藝了,只有中芯還在努力向10nm以下工藝進發(fā),而EUV***是關(guān)鍵,所以要想中國芯有所突破,在10nm及以下工藝上不被卡脖子,一定要發(fā)展自己的***才行。

責(zé)任編輯:lq

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    455

    文章

    50714

    瀏覽量

    423138
  • ASML
    +關(guān)注

    關(guān)注

    7

    文章

    718

    瀏覽量

    41228
  • EUV光刻機
    +關(guān)注

    關(guān)注

    2

    文章

    128

    瀏覽量

    15105

原文標(biāo)題:ASML賣出100臺EUV光刻機,臺積電60臺,中芯沒有1臺

文章出處:【微信號:TenOne_TSMC,微信公眾號:芯片半導(dǎo)體】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏

    評論

    相關(guān)推薦

    光刻機巨頭ASML業(yè)績暴雷,芯片迎來新輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設(shè)備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?2746次閱讀

    日本首臺EUV光刻機就位

    本月底完成。 Rapidus 計劃 2025 年春季使用最先進的 2 納米工藝開發(fā)原型芯片,于 2027 年開始大規(guī)模生產(chǎn)芯片。 EUV 機器結(jié)合特殊光源、鏡頭和其他技術(shù),可形成超精細電路圖案。該系統(tǒng)體積小,不易受到振動和其他干擾。
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?46次閱讀
    日本首臺<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機</b>就位

    后門!ASML可遠程鎖光刻機!

    來源:國芯網(wǎng),謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據(jù)外媒報道,積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機,暗藏后門,可以在必要的時候執(zhí)行遠程鎖定! 據(jù)《聯(lián)合早報》報道,荷蘭
    的頭像 發(fā)表于 05-24 09:35 ?564次閱讀

    荷蘭阿斯麥稱可遠程癱瘓積電光刻機

    disable)積電相應(yīng)機器,而且還可以包括最先進的極紫外光刻機EUV)。 這就意味著阿斯麥(ASML)留了后門,隨時有能力去遠程癱瘓制造芯片的
    的頭像 發(fā)表于 05-22 11:29 ?5756次閱讀

    積電A16制程采用EUV光刻機,2026年下半年量產(chǎn)

    據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露,積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機進行生產(chǎn)。相較之下,英特
    的頭像 發(fā)表于 05-17 17:21 ?975次閱讀

    積電張曉強:ASML High-NA EUV成本效益是關(guān)鍵

    據(jù)今年2月份報道,荷蘭半導(dǎo)體制造設(shè)備巨頭ASML公布High-NA Twinscan EXE光刻機的售價,高達3.5億歐元(約合27.16億元人民幣)。而現(xiàn)有EUV
    的頭像 發(fā)表于 05-15 14:42 ?626次閱讀

    ASML發(fā)貨第二High NA EUV光刻機,已成功印刷10nm線寬圖案

    ASML公司近日宣布發(fā)貨第二High NA EUV光刻機,并且已成功印刷出10納米線寬圖案,這
    的頭像 發(fā)表于 04-29 10:44 ?806次閱讀

    英特爾突破技術(shù)壁壘:首臺商用High NA EUV光刻機成功組裝

    英特爾的研發(fā)團隊正致力于對這臺先進的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機進行細致的校準(zhǔn)工作,以確保其能夠順利融入未來的生產(chǎn)線。
    的頭像 發(fā)表于 04-22 15:52 ?916次閱讀

    光刻機巨頭阿斯麥業(yè)績爆雷 ASML公司季度訂單下滑

    光刻機巨頭阿斯麥業(yè)績爆雷 ASML公司季度訂單下滑 光刻機巨頭阿斯麥業(yè)績爆雷,阿斯麥(ASML
    的頭像 發(fā)表于 04-18 16:43 ?1222次閱讀

    阿斯麥(ASML)公司首臺高數(shù)值孔徑EUV光刻機實現(xiàn)突破性成果

    )光刻機,并已經(jīng)成功印刷出首批圖案。這重要成就,不僅標(biāo)志著ASML公司技術(shù)創(chuàng)新的新高度,也為全球半導(dǎo)體制造行業(yè)的發(fā)展帶來了新的契機。目前,全球僅有兩高數(shù)值孔徑
    的頭像 發(fā)表于 04-18 11:50 ?912次閱讀
    阿斯麥(<b class='flag-5'>ASML</b>)公司首臺高數(shù)值孔徑<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機</b>實現(xiàn)突破性成果

    光刻機的發(fā)展歷程及工藝流程

    光刻機經(jīng)歷5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式
    發(fā)表于 03-21 11:31 ?6221次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的發(fā)展歷程及工藝流程

    ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    3 月 13 日消息,光刻機制造商 ASML 宣布其首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機型將帶來更高的生產(chǎn)效率。 ▲
    的頭像 發(fā)表于 03-14 08:42 ?544次閱讀
    <b class='flag-5'>ASML</b> 首臺新款 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻機</b> Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    光刻機巨頭ASML要搬離荷蘭?

    據(jù)荷蘭《電訊報》3月6日報道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機巨頭阿斯麥(ASML)正計劃搬離荷蘭。
    的頭像 發(fā)表于 03-08 14:02 ?1174次閱讀

    三星清空ASML股份,11年盈利超16倍

    根據(jù)資料顯示,在2012年,為了支持ASML EUV光刻機的研發(fā)與商用,并獲得EUV光刻機的優(yōu)先供應(yīng),在2012年,英特爾、
    的頭像 發(fā)表于 02-23 17:27 ?1020次閱讀

    佳能預(yù)計到2024年出貨納米壓印光刻機

    Takeishi向英國《金融時報》表示,公司計劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機FPA-1200NZ2C,并補充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月,該公司表示該設(shè)備的價格將比ASML
    的頭像 發(fā)表于 02-01 15:42 ?962次閱讀
    佳能預(yù)計到2024年<b class='flag-5'>出貨</b>納米壓印<b class='flag-5'>光刻機</b>
    RM新时代网站-首页