RM新时代网站-首页

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線(xiàn)課程
  • 觀(guān)看技術(shù)視頻
  • 寫(xiě)文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

三星積極向唯一EUV光刻機(jī)廠(chǎng)商ASML爭(zhēng)取訂單

lhl545545 ? 來(lái)源:快科技 ? 作者:萬(wàn)南 ? 2021-03-04 09:52 ? 次閱讀

三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠(chǎng)商ASML爭(zhēng)取訂單,另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。

據(jù)報(bào)道,三星電子周二斥資430億韓元(約合2.5億)買(mǎi)入152萬(wàn)股韓國(guó)FST公司的股票,成為其第三大股東,持股占比6.9%。

FST是一家生產(chǎn)掩模/光罩保護(hù)膜和冷卻器的廠(chǎng)商,保護(hù)膜簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)就是保障光罩不受灰塵影響,冷卻器則是控制半導(dǎo)體制造過(guò)程中的溫度。

FST正在研制EUV光罩保護(hù)膜,設(shè)計(jì)目標(biāo)是全尺寸,碳化硅基質(zhì),30nm尺度,透光率90%。

目前,尚未有一家公司大規(guī)模量產(chǎn)EUV光罩保護(hù)膜FST成功后,將對(duì)產(chǎn)業(yè)以及自身收入有著積極影響。
責(zé)任編輯:pj

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀(guān)點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 三星電子
    +關(guān)注

    關(guān)注

    34

    文章

    15859

    瀏覽量

    180984
  • ASML
    +關(guān)注

    關(guān)注

    7

    文章

    718

    瀏覽量

    41228
  • EUV光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    2

    文章

    128

    瀏覽量

    15105
收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績(jī)暴雷,芯片迎來(lái)新輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)作為芯片制造過(guò)程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?2745次閱讀

    日本首臺(tái)EUV光刻機(jī)就位

    本月底完成。 Rapidus 計(jì)劃 2025 年春季使用最先進(jìn)的 2 納米工藝開(kāi)發(fā)原型芯片,于 2027 年開(kāi)始大規(guī)模生產(chǎn)芯片。 EUV 機(jī)器結(jié)合了特殊光源、鏡頭和其他技術(shù),可形成超精細(xì)電路圖案。該系統(tǒng)體積小,不易受到振動(dòng)和其他干擾。 ASML 是全球
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?46次閱讀
    日本首臺(tái)<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>就位

    今日看點(diǎn)丨 2011億元!比亞迪單季營(yíng)收首次超過(guò)特斯拉;三星將于2025年初引進(jìn)High NA EUV光刻機(jī)

    1. 三星將于2025 年初引進(jìn)High NA EUV 光刻機(jī),加快開(kāi)發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報(bào)道,三星電子正準(zhǔn)備在2025年初引入其首款High NA
    發(fā)表于 10-31 10:56 ?807次閱讀

    今日看點(diǎn)丨ASML今年將臺(tái)積電、三星和英特爾交付High-NA EUV;理想 L9 出事故司機(jī)質(zhì)疑 LCC,產(chǎn)品經(jīng)理回應(yīng)

    1. ASML 今年將臺(tái)積電、三星和英特爾交付High-NA EUV ? 根據(jù)報(bào)道,芯片制造設(shè)備商ASML今年將
    發(fā)表于 06-06 11:09 ?880次閱讀

    Rapidus對(duì)首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿(mǎn)意,未采用高NA EUV光刻機(jī)

    在全球四大先進(jìn)制程代工巨頭(包括臺(tái)積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)。
    的頭像 發(fā)表于 05-27 14:37 ?635次閱讀

    后門(mén)!ASML可遠(yuǎn)程鎖光刻機(jī)!

    來(lái)源:國(guó)芯網(wǎng),謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據(jù)外媒報(bào)道,臺(tái)積電從ASML購(gòu)買(mǎi)的EUV極紫外光刻機(jī),暗藏后門(mén),可以在必要的時(shí)候執(zhí)行遠(yuǎn)程鎖定! 據(jù)《聯(lián)合早報(bào)》報(bào)道,荷蘭方面在
    的頭像 發(fā)表于 05-24 09:35 ?564次閱讀

    荷蘭阿斯麥稱(chēng)可遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)積電光刻機(jī)

    disable)臺(tái)積電相應(yīng)機(jī)器,而且還可以包括最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)EUV)。 這就意味著阿斯麥(ASML)留了后門(mén),隨時(shí)有能力去遠(yuǎn)程癱瘓制造芯片的光刻機(jī)。 要知道我國(guó)大陸市場(chǎng)已經(jīng)連
    的頭像 發(fā)表于 05-22 11:29 ?5756次閱讀

    臺(tái)積電A16制程采用EUV光刻機(jī),2026年下半年量產(chǎn)

    據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星
    的頭像 發(fā)表于 05-17 17:21 ?975次閱讀

    ASML發(fā)貨第二臺(tái)High NA EUV光刻機(jī),已成功印刷10nm線(xiàn)寬圖案

    ASML公司近日宣布發(fā)貨了第二臺(tái)High NA EUV光刻機(jī),并且已成功印刷出10納米線(xiàn)寬圖案,這重大突破標(biāo)志著半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的技術(shù)革新向前邁進(jìn)了
    的頭像 發(fā)表于 04-29 10:44 ?806次閱讀

    英特爾突破技術(shù)壁壘:首臺(tái)商用High NA EUV光刻機(jī)成功組裝

    英特爾的研發(fā)團(tuán)隊(duì)正致力于對(duì)這臺(tái)先進(jìn)的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行細(xì)致的校準(zhǔn)工作,以確保其能夠順利融入未來(lái)的生產(chǎn)線(xiàn)。
    的頭像 發(fā)表于 04-22 15:52 ?916次閱讀

    光刻機(jī)巨頭阿斯麥業(yè)績(jī)爆雷 ASML公司季度訂單下滑

    光刻機(jī)巨頭阿斯麥業(yè)績(jī)爆雷 ASML公司季度訂單下滑 光刻機(jī)巨頭阿斯麥業(yè)績(jī)爆雷了,阿斯麥(ASML
    的頭像 發(fā)表于 04-18 16:43 ?1222次閱讀

    ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    3 月 13 日消息,光刻機(jī)制造商 ASML 宣布其首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機(jī)型將帶來(lái)更高的生產(chǎn)效率。 ▲
    的頭像 發(fā)表于 03-14 08:42 ?544次閱讀
    <b class='flag-5'>ASML</b> 首臺(tái)新款 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b> Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    光刻機(jī)巨頭ASML要搬離荷蘭?

    據(jù)荷蘭《電訊報(bào)》3月6日?qǐng)?bào)道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)正計(jì)劃搬離荷蘭。
    的頭像 發(fā)表于 03-08 14:02 ?1174次閱讀

    三星清空ASML股份,11年盈利超16倍

    根據(jù)資料顯示,在2012年,為了支持ASML EUV光刻機(jī)的研發(fā)與商用,并獲得EUV光刻機(jī)的優(yōu)先供應(yīng),在2012年,英特爾、臺(tái)積電、
    的頭像 發(fā)表于 02-23 17:27 ?1020次閱讀

    ASML 2023年Q4 財(cái)報(bào)發(fā)布,光刻機(jī)訂單大增

    來(lái)源:AIot工業(yè)檢測(cè),謝謝 編輯:感知芯視界 Link 隨著芯片需求的不斷增長(zhǎng),芯片制造商正加大采購(gòu)晶圓廠(chǎng)設(shè)備的力度,以提高產(chǎn)能。作為EUV光刻機(jī)制造商,ASML受益于這趨勢(shì),其2
    的頭像 發(fā)表于 01-26 09:20 ?813次閱讀
    RM新时代网站-首页