RM新时代网站-首页

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫(xiě)文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

長(zhǎng)電科技Chiplet系列工藝實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)

科技訊息 ? 來(lái)源:科技訊息 ? 作者:科技訊息 ? 2023-01-05 11:42 ? 次閱讀

1月5日,全球領(lǐng)先的集成電路制造和技術(shù)服務(wù)提供商長(zhǎng)電科技宣布,公司XDFOI Chiplet高密度多維異構(gòu)集成系列工藝已按計(jì)劃進(jìn)入穩(wěn)定量產(chǎn)階段,同步實(shí)現(xiàn)國(guó)際客戶4nm節(jié)點(diǎn)多芯片系統(tǒng)集成封裝產(chǎn)品出貨,最大封裝體面積約為1500mm2的系統(tǒng)級(jí)封裝。

隨著近年來(lái)高性能計(jì)算、人工智能5G、汽車(chē)、云端等應(yīng)用的蓬勃發(fā)展,要求芯片成品制造工藝持續(xù)革新以彌補(bǔ)摩爾定律的放緩,先進(jìn)封裝技術(shù)變得越來(lái)越重要。應(yīng)市場(chǎng)發(fā)展之需,長(zhǎng)電科技于2021年7月正式推出面向Chiplet(小芯片)的高密度多維異構(gòu)集成技術(shù)平臺(tái)XDFOI,利用協(xié)同設(shè)計(jì)理念實(shí)現(xiàn)了芯片成品集成與測(cè)試一體化,涵蓋2D、2.5D、3D Chiplet集成技術(shù)。

經(jīng)過(guò)持續(xù)研發(fā)與客戶產(chǎn)品驗(yàn)證,長(zhǎng)電科技XDFOI不斷取得突破,可有效解決后摩爾時(shí)代客戶芯片成品制造的痛點(diǎn),通過(guò)小芯片異構(gòu)集成技術(shù),在有機(jī)重布線堆疊中介層(RDL Stack Interposer, RSI)上,放置一顆或多顆邏輯芯片(CPU/GPU等),以及I/O Chiplet 和/或高帶寬內(nèi)存芯片(HBM)等,形成一顆高集成度的異構(gòu)封裝體,一方面可將高密度f(wàn)cBGA基板進(jìn)行“瘦身”,將部分布線層轉(zhuǎn)移至有機(jī)重布線堆疊中介層基板上,利用有機(jī)重布線堆疊中介層最小線寬線距2μm及多層再布線的優(yōu)勢(shì),縮小芯片互連間距,實(shí)現(xiàn)更加高效、更為靈活的系統(tǒng)集成,另一方面,也可將部分SoC上互連轉(zhuǎn)移到有機(jī)重布線堆疊中介層, 從而得以實(shí)現(xiàn)以Chiplet為基礎(chǔ)的架構(gòu)創(chuàng)新,而最終達(dá)到性能和成本的雙重優(yōu)勢(shì)。

目前,長(zhǎng)電科技XDFOI技術(shù)可將有機(jī)重布線堆疊中介層厚度控制在50μm以?xún)?nèi),微凸點(diǎn)(μBump)中心距為40μm,實(shí)現(xiàn)在更薄和更小單位面積內(nèi)進(jìn)行高密度的各種工藝集成,達(dá)到更高的集成度、更強(qiáng)的模塊功能和更小的封裝尺寸。同時(shí),還可以在封裝體背面進(jìn)行金屬沉積,在有效提高散熱效率的同時(shí),根據(jù)設(shè)計(jì)需要增強(qiáng)封裝的電磁屏蔽能力,提升芯片成品良率。

長(zhǎng)電科技充分發(fā)揮XDFOI Chiplet高密度多維異構(gòu)集成系列工藝的技術(shù)優(yōu)勢(shì),已在高性能計(jì)算、人工智能、5G、汽車(chē)電子等領(lǐng)域應(yīng)用,向客戶提供了外型更輕薄、數(shù)據(jù)傳輸速率更快、功率損耗更小的芯片成品制造解決方案,滿足日益增長(zhǎng)的終端市場(chǎng)需求。

審核編輯黃昊宇

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    455

    文章

    50714

    瀏覽量

    423136
  • 長(zhǎng)電科技
    +關(guān)注

    關(guān)注

    5

    文章

    351

    瀏覽量

    32500
收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    茂睿芯全系列車(chē)規(guī)CAN收發(fā)器均已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)出貨

    茂睿芯全系列車(chē)規(guī)CAN收發(fā)器產(chǎn)品目前均已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)出貨,包括:MCAN1042-Q1、MCAN1044-Q1、MCAN1043-Q1、MCAN1145-Q1,新款集成信號(hào)改善技術(shù)的CAN FD SIC收發(fā)器MCAN1462-Q1、MCAN1463-Q1、MCAN1465-Q
    的頭像 發(fā)表于 12-10 13:41 ?139次閱讀
    茂睿芯全<b class='flag-5'>系列</b>車(chē)規(guī)CAN收發(fā)器均已<b class='flag-5'>實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)</b>出貨

    臺(tái)積美國(guó)廠預(yù)計(jì)2025年初量產(chǎn)4nm制程

    臺(tái)積在美國(guó)亞利桑那州的布局正逐步展開(kāi),其位于該地的一廠即將迎來(lái)重大進(jìn)展。據(jù)悉,該廠將開(kāi)始生產(chǎn)4nm制程芯片,并預(yù)計(jì)在2025年初正式實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。這一里程碑式的進(jìn)展標(biāo)志著臺(tái)積在美國(guó)的生產(chǎn)能力得到了顯著提升,月產(chǎn)能有望達(dá)到2-3萬(wàn)
    的頭像 發(fā)表于 11-12 16:31 ?445次閱讀

    聯(lián)合電子首款800V高壓平臺(tái)逆變磚產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)交付

    近日,聯(lián)合電子首款800V高壓平臺(tái)逆變磚產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)交付,標(biāo)志著聯(lián)合電子在新能源汽車(chē)電控領(lǐng)域的又一突破。
    的頭像 發(fā)表于 10-27 11:19 ?556次閱讀

    格科微:5000萬(wàn)像素圖像傳感器實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)出貨

    格科微于10月13日發(fā)布公告,宣布其5,000萬(wàn)像素圖像傳感器產(chǎn)品已成功實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)出貨。該產(chǎn)品建立在格科微已量產(chǎn)的3,200萬(wàn)像素圖像傳感器技術(shù)基礎(chǔ)上,采用了先進(jìn)的單芯片高像素CIS架構(gòu)。通過(guò)運(yùn)用獨(dú)特
    的頭像 發(fā)表于 10-14 16:09 ?492次閱讀

    哪些PCB表面處理工藝適合量產(chǎn)

    哪些PCB表面處理工藝適合量產(chǎn)
    的頭像 發(fā)表于 09-30 15:52 ?323次閱讀

    臺(tái)積2納米工藝生產(chǎn)設(shè)備提前部署完成

    2025年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),并帶動(dòng)該年度資本支出激增至370億美元。這一舉措不僅彰顯了臺(tái)積在技術(shù)研發(fā)與產(chǎn)能布局上的強(qiáng)大實(shí)力,也預(yù)示著全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局的新一輪變革。
    的頭像 發(fā)表于 07-04 09:32 ?494次閱讀

    三星與新思科技攜手,備戰(zhàn)2nm工藝量產(chǎn)

    在全球半導(dǎo)體行業(yè)邁向更高精度和更小尺寸的征途上,三星與新思科技近日宣布了一項(xiàng)重要的合作。這一合作旨在確保三星的2nm制造工藝能夠順利實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),并在市場(chǎng)中占據(jù)領(lǐng)先地位。
    的頭像 發(fā)表于 06-20 09:22 ?490次閱讀

    臺(tái)積延緩中科二期用地1.4nm廠建設(shè),因2nm需求強(qiáng)勁,預(yù)計(jì)明年量產(chǎn)

    對(duì)于此事,臺(tái)積回應(yīng)稱(chēng),將繼續(xù)配合相關(guān)部門(mén)處理廠房用地問(wèn)題。值得注意的是,臺(tái)積曾在北美技術(shù)論壇上強(qiáng)調(diào),2nm需求強(qiáng)勁,預(yù)計(jì)明年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn);而最新的A16制程(1.6nm)則預(yù)計(jì)在2026年實(shí)現(xiàn)
    的頭像 發(fā)表于 04-30 16:20 ?481次閱讀

    長(zhǎng)科技致力于綠色發(fā)展,以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量企業(yè)發(fā)展

    2023年,長(zhǎng)科技繼續(xù)高度重視ESG治理的戰(zhàn)略?xún)r(jià)值,致力于實(shí)現(xiàn)企業(yè)的高質(zhì)量發(fā)展,并為封裝測(cè)試行業(yè)及社會(huì)各界作出更大貢獻(xiàn)。根據(jù)長(zhǎng)科技公布的
    的頭像 發(fā)表于 04-28 16:46 ?719次閱讀

    中興通訊車(chē)載4G通信模組在上汽大通新途V80實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)發(fā)布

    近日,上汽大通與中興通訊在深圳共同舉辦了一場(chǎng)盛大的發(fā)布會(huì),聯(lián)合宣布中興通訊車(chē)載4G通信模組在上汽大通熱銷(xiāo)車(chē)型“高價(jià)值寬體輕客”新途V80上實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)上車(chē)。此次合作不僅標(biāo)志著雙方技術(shù)合作的進(jìn)一步深化,也預(yù)示著車(chē)載通信技術(shù)在汽車(chē)行業(yè)應(yīng)用的新篇章。
    的頭像 發(fā)表于 03-14 11:43 ?853次閱讀

    上汽大通與中興通訊宣布車(chē)載4G通信模組在新途V80實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)上車(chē)

    近日,上汽大通與中興通訊在深圳舉辦發(fā)布會(huì),聯(lián)合宣布中興通訊車(chē)載4G通信模組在上汽大通暢銷(xiāo)車(chē)型“高價(jià)值寬體輕客”新途V80實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)上車(chē)。
    的頭像 發(fā)表于 03-11 11:44 ?972次閱讀

    什么是Chiplet技術(shù)?

    什么是Chiplet技術(shù)?Chiplet技術(shù)是一種在半導(dǎo)體設(shè)計(jì)和制造中將大型芯片的不同功能分解并分散實(shí)現(xiàn)在多個(gè)較小和專(zhuān)用的芯片(Chiplets)上的方法。這些較小的芯片隨后通過(guò)高速互連方式集成到一個(gè)封裝中,共同
    的頭像 發(fā)表于 01-25 10:43 ?2143次閱讀
    什么是<b class='flag-5'>Chiplet</b>技術(shù)?

    Chiplet技術(shù)對(duì)英特爾和臺(tái)積有哪些影響呢?

    Chiplet,又稱(chēng)芯片堆疊,是一種模塊化的半導(dǎo)體設(shè)計(jì)和制造方法。由于集成電路(IC)設(shè)計(jì)的復(fù)雜性不斷增加、摩爾定律的挑戰(zhàn)以及多樣化的應(yīng)用需求,Chiplet技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。
    的頭像 發(fā)表于 01-23 10:49 ?910次閱讀
    <b class='flag-5'>Chiplet</b>技術(shù)對(duì)英特爾和臺(tái)積<b class='flag-5'>電</b>有哪些影響呢?

    Chiplet成大芯片設(shè)計(jì)主流方式,開(kāi)啟IP復(fù)用新模式

    照不同的計(jì)算單元或功能單元對(duì)其進(jìn)行分解,然后每個(gè)單元選擇最適合的工藝制程進(jìn)行制造,再將這些模塊化的裸片互聯(lián)起來(lái),降低芯片設(shè)計(jì)的成本和難度。 ? Chiplet模型已經(jīng)被證明是可行的,目前AMD、英特爾、博通和Marvell等公司都已經(jīng)推出自己的
    的頭像 發(fā)表于 01-12 00:55 ?2093次閱讀

    什么是Chiplet技術(shù)?Chiplet技術(shù)有哪些優(yōu)缺點(diǎn)?

    組件。這種技術(shù)的核心思想是將大型集成電路拆分成更小、更模塊化的部分,以便更靈活地設(shè)計(jì)、制造和組裝芯片。Chiplet技術(shù)可以突破單芯片光刻面積的瓶頸,減少對(duì)先進(jìn)工藝制程的依賴(lài),提高芯片的性能并降低制造成本。
    的頭像 發(fā)表于 01-08 09:22 ?5184次閱讀
    RM新时代网站-首页