6 月 26 日消息,據(jù)日本經(jīng)濟新聞報道,日本經(jīng)產(chǎn)省與荷蘭經(jīng)濟事務和氣候政策部在東京簽署了半導體合作備忘錄。二者將共同推進欲量產(chǎn) 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭***巨頭 ASML 的合作,并聯(lián)手進行技術開發(fā)。
▲ 圖源:ASML
報道稱,ASML 量產(chǎn)尖端半導體工藝所需的 EUV ***。Rapidus 計劃利用經(jīng)產(chǎn)省提供的補貼,采購 EUV 光刻設備。IT之家注意到,EUV ***在全球范圍內較為短缺,面臨著臺積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報道指出,如果 Rapidus 和 ASML 展開合作,有望強化供應鏈。
出席簽約儀式的日本經(jīng)產(chǎn)相西村康稔以 Rapidus 為先例,表示“希望加強半導體領域的政府間合作”。此前,荷蘭與日本先后追隨美國的腳步,加強半導體出口管制。日本 7 月起將半導體制造設備等 23 項產(chǎn)品加入出口管制名單,荷蘭也將于本周對 ASML 的 5 nm 級 DUV *** NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i 加強出口管制。
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原文標題:日本與荷蘭簽署半導體合作備忘錄:采購 ASML 光刻機,加強技術合作
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