上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司11月28日公開(kāi)了本公司最新的***相關(guān)專利。據(jù)天眼查顯示,上海微電子公開(kāi)的專利名稱為“投影物鏡光學(xué)系統(tǒng)及***”,申請(qǐng)?zhí)枮閏n117130226a。
該專利摘要顯示,本發(fā)明提供了一種投影物鏡光學(xué)系統(tǒng)及***,所述投影物鏡光學(xué)系統(tǒng)沿其光軸方向從物面到像面依次包括:第一透鏡組、第二透鏡組、光闌、第三透鏡組與第四透鏡組。其中所述第三透鏡組與所述第二透鏡組關(guān)于所述光闌對(duì)稱,所述第四透鏡組與所述第一透鏡組關(guān)于所述光闌對(duì)稱,所述投影物鏡光學(xué)系統(tǒng)是對(duì)稱結(jié)構(gòu),且所述投影物鏡光學(xué)系統(tǒng)中所有的透鏡組均具有正光焦度,以此可以在提高成像質(zhì)量的基礎(chǔ)上,可以增加曝光系統(tǒng)的場(chǎng)地大小,提高生產(chǎn)效率。
上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司成立于2002年3月,由于法定代表人干頻,經(jīng)營(yíng)范圍包括含有半導(dǎo)體設(shè)備等的開(kāi)發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售及技術(shù)服務(wù)等是上海電氣控股集團(tuán)有限公司(42.3%)、上海科技創(chuàng)業(yè)投資有限公司(14.21%)等共同投資股份。
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透鏡
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光學(xué)系統(tǒng)
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光刻機(jī)
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