近五年來,英特爾在高級芯片制造領(lǐng)域落后于臺積電和三星。如今,為重新贏得領(lǐng)先地位,英特爾正大膽而冒險地引入兩項全新技術(shù),即新型晶體管技術(shù)和首創(chuàng)的電源交付系統(tǒng),這兩項技術(shù)將被應(yīng)用在計劃于2024年底發(fā)布的桌面和筆記本電腦的Arrow Lake處理器中。
"在過去的二十年中,英特爾在晶體管架構(gòu)改革方面一直處于領(lǐng)先地位。"英特爾技術(shù)發(fā)展副總裁兼先進(jìn)晶體管發(fā)展主任Chris Auth說。然而,英特爾的芯片生產(chǎn)歷程并非一直順利:2018年,英特爾未能按時交付其首款10納米CPU,芯片的生產(chǎn)被推遲了一年,導(dǎo)致其14納米技術(shù)CPU短缺。2020年,7納米工藝節(jié)點(被英特爾重新命名為英特爾4)再次延誤。公司自此一直在努力趕上進(jìn)度。
英特爾的RibbonFET納米片晶體管將取代當(dāng)前的FinFET技術(shù)。FinFET晶體管通過將晶體管的門圍繞在其通道區(qū)域的三個側(cè)面而不僅僅是一個側(cè)面,為CPU提供了低功耗和更大的邏輯電路密度。然而,隨著FinFETs的規(guī)??s小,這些設(shè)備已經(jīng)接近了他們能夠控制電流的門的極限。納米片晶體管,如三星的多橋通道FET,由于其門完全包圍通道區(qū)域,因此提供了更好的控制。英特爾預(yù)計,當(dāng)RibbonFET在即將到來的英特爾20A處理節(jié)點(即公司最新的半導(dǎo)體制程技術(shù))中引入時,能夠提高高達(dá)15%的能源效率。
為抑制電源干擾并提升處理器性能,英特爾還推出了一種被稱為PowerVia的全新電源輸送系統(tǒng)。英特爾電源交付系統(tǒng)是面向未來的創(chuàng)新,這是制造商首次利用芯片背面電源傳輸,將電源與處理器徹底獨立隔離,為電源線和信號線采用了有別于以往的優(yōu)化方式。
另一方面,英特爾決定同時引導(dǎo)這兩項技術(shù),這一決定甚至在5年前,即英特爾在競爭中失掉領(lǐng)先地位的時候就已經(jīng)確定。這兩種技術(shù)視作是英特爾2025年力爭在處理技術(shù)領(lǐng)域重新奪回領(lǐng)先地位的關(guān)鍵。然而,雙線并行的技術(shù)實現(xiàn)方式存在風(fēng)險,"這是一種嘗試在同一時間實現(xiàn)兩項重大技術(shù)變革的冒險行動," TechInsights的副主席Dan Hutcheson評論說。
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