隨著科技的飛速發(fā)展,濺射靶材作為薄膜材料制備的關(guān)鍵材料,其需求量正持續(xù)增長(zhǎng)。中國(guó)企業(yè)超卓航科憑借領(lǐng)先的冷噴涂技術(shù),成功制造出高純度、高密度、高性能的濺射靶材,為我國(guó)高端濺射靶材產(chǎn)業(yè)的發(fā)展注入了強(qiáng)大動(dòng)力。
濺射靶材是制備半導(dǎo)體晶圓、顯示面板、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的核心材料。其純度、致密度和成分均勻性等性能對(duì)下游客戶的鍍膜質(zhì)量具有直接影響。超卓航科所采用的冷噴涂技術(shù),作為一種頗具前景的固態(tài)粉末沉積方法,具備沉積效率高、材料致密幾乎無(wú)缺陷、性能優(yōu)越等優(yōu)勢(shì)。這種技術(shù)在制造高密度、高純度的濺射靶材方面具有巨大潛力,能夠滿足日益嚴(yán)格的性能要求。
圖:超卓航科在靶材背襯上噴涂成大尺寸、高純度的銀靶材材料
超卓航科成功應(yīng)用冷噴涂技術(shù)制造出Zn、Al、Cu、Ag、Ti、Nb、Ta等多種金屬與合金靶材。這些靶材不僅直接成型生產(chǎn)效率高,與背襯的結(jié)合強(qiáng)度也超過(guò)80 MPa,晶粒更細(xì)小,氧含量低,均質(zhì)穩(wěn)定,大幅提升了靶材壽命。此外,這些靶材的致密度高,幾乎沒(méi)有氣孔,濺射過(guò)程中不會(huì)出現(xiàn)異常放電現(xiàn)象,具有良好的表面質(zhì)量。
隨著顯示行業(yè)的回暖,平面顯示器市場(chǎng)持續(xù)擴(kuò)大,其中以液晶顯示(LCD)為主導(dǎo)。濺射靶材作為薄膜制備的主流工藝,其需求量將進(jìn)一步增長(zhǎng)。超卓航科的濺射靶材產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于平面顯示器、集成電路半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池、信息存儲(chǔ)、光學(xué)鍍膜、電子器件等領(lǐng)域。其中,集成電路用靶材在全球市場(chǎng)中占據(jù)重要地位,薄膜太陽(yáng)能電池的背電極環(huán)節(jié)以及異質(zhì)結(jié)電池的導(dǎo)體層也大量使用濺射靶材。
值得一提的是,異質(zhì)結(jié)電池作為下一代主流電池片技術(shù),具有能量轉(zhuǎn)化高和成本降低空間大的優(yōu)勢(shì)。隨著異質(zhì)結(jié)電池產(chǎn)能的快速擴(kuò)張,太陽(yáng)能電池用靶材的需求將有望進(jìn)一步增長(zhǎng)。尤其是ITO靶材(氧化銦錫膜),作為異質(zhì)結(jié)電池的透明導(dǎo)電膜,其需求量將大幅增加。
此外,隨著信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展,記錄介質(zhì)用靶材的需求量也在不斷增長(zhǎng)。硬盤(pán)、磁頭、光盤(pán)等數(shù)據(jù)存儲(chǔ)產(chǎn)品的制造都需要使用高品質(zhì)的濺射靶材。在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中,常用的靶材包括鈷、鉻、碳、鎳、鐵、貴金屬、稀有金屬和介質(zhì)材料等。
超卓航科憑借先進(jìn)的冷噴涂技術(shù),成功打破了國(guó)外技術(shù)壟斷,填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)高端濺射靶材市場(chǎng)的空白。這一突破不僅提升了我國(guó)在高端濺射靶材領(lǐng)域的國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力,也為先進(jìn)制造業(yè)的高質(zhì)量發(fā)展注入了強(qiáng)大動(dòng)力。
超卓航科表示將繼續(xù)深耕高端濺射靶材產(chǎn)業(yè),加大研發(fā)投入,推動(dòng)技術(shù)創(chuàng)新,不斷提升產(chǎn)品性能和品質(zhì)。同時(shí),該公司還將積極拓展應(yīng)用領(lǐng)域,深化與各行業(yè)的合作,共同推動(dòng)我國(guó)高端濺射靶材產(chǎn)業(yè)的繁榮發(fā)展。
審核編輯 黃宇
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