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晶亦精微科創(chuàng)板IPO成功過會,募資近13億投入半導(dǎo)體裝備研發(fā)

CHANBAEK ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2024-02-20 09:45 ? 次閱讀

上海證券交易所(上交所)近日宣布,北京晶亦精微科技股份有限公司(以下簡稱“晶亦精微”)的首次公開募股(IPO)已經(jīng)成功過會,未來該公司將在科創(chuàng)板上市。晶亦精微是一家專注于半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的公司,主要從事化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)設(shè)備及其配件的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和技術(shù)服務(wù)。

根據(jù)資料顯示,晶亦精微計(jì)劃通過此次上市募資12.9億元,資金將主要用于“高端半導(dǎo)體裝備研發(fā)項(xiàng)目”、“高端半導(dǎo)體裝備工藝提升及產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”以及“高端半導(dǎo)體裝備研發(fā)與制造中心建設(shè)項(xiàng)目”。這些項(xiàng)目的實(shí)施,將助力晶亦精微在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)更大的技術(shù)突破和市場拓展。

其中,高端半導(dǎo)體裝備研發(fā)與制造中心建設(shè)項(xiàng)目總投資額達(dá)到5.55億元。該項(xiàng)目將重點(diǎn)布局第三代半導(dǎo)體材料CMP成套工藝及設(shè)備的開發(fā),旨在攻克SiC高效全局平坦化技術(shù)難題。此外,該項(xiàng)目還將實(shí)現(xiàn)研磨液循環(huán)利用系統(tǒng)、研磨液均勻分布系統(tǒng)等在研技術(shù)的產(chǎn)品化及產(chǎn)業(yè)化落地,進(jìn)一步提升晶亦精微在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的核心競爭力。

晶亦精微的成功過會標(biāo)志著公司在科創(chuàng)板上市的道路上邁出了堅(jiān)實(shí)的一步。未來,隨著資金的到位和項(xiàng)目的實(shí)施,晶亦精微有望在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域取得更大的突破和發(fā)展,為推動我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的進(jìn)步作出重要貢獻(xiàn)。

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