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廣立微AI/ML技術(shù)迎來爆發(fā)式成長

廣立微Semitronix ? 來源:廣立微Semitronix ? 2024-08-29 11:47 ? 次閱讀

先進(jìn)半導(dǎo)體制造會(huì)議(Advanced Semiconductor Manufacturing Conference,ASMC)于2024年5月13日-16日,在美國奧爾巴尼舉行。本次會(huì)議吸引了諸多來自世界各地的半導(dǎo)體制造商、設(shè)備供應(yīng)商、材料供應(yīng)商、研究機(jī)構(gòu)和學(xué)術(shù)界的專業(yè)人士參與。

本屆ASMC聚焦人工智能,智能制造和可持續(xù)發(fā)展,廣立微(Semitronix)作為國內(nèi)企業(yè)的代表,在會(huì)議上做現(xiàn)場報(bào)告并發(fā)表會(huì)議署名文章。論文《Unsupervised Trace-SPC Anomaly Detection Solution Based on VAE Model》、《Fault Detection of Wafer Sensors Based on Representation Learning and Isolation Forest》均獲選為Oral Presentation,AI技術(shù)實(shí)力獲得全球頂尖學(xué)術(shù)會(huì)議認(rèn)可。

廣立微AI/ML技術(shù)迎來爆發(fā)式成長

半導(dǎo)體制造有著產(chǎn)業(yè)鏈長,生產(chǎn)步驟多,生產(chǎn)設(shè)備多,每一顆合格芯片的生產(chǎn)都是成百上千臺(tái)設(shè)備統(tǒng)一協(xié)作的結(jié)果。任何一臺(tái)設(shè)備參數(shù)的飄動(dòng)都有可能影響到最后芯片的良率。如何有效監(jiān)控成百上千臺(tái)不同類型設(shè)備的異常越來越成為維持芯片高良率的關(guān)鍵。每次成功的監(jiān)控都能幫客戶避免損失,帶來良率的提高。

Trace-SPC是使用人工智能算法在大量的正常數(shù)據(jù)中準(zhǔn)確甄別出異常曲線的技術(shù)。在本次會(huì)議上,廣立微介紹了在Trace-SPC上的最新成果,提供了通用的、快速的異常曲線診斷方案,幫助客戶減少Equipment Downtime。

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(左圖為異常的定義,用紅圈標(biāo)識(shí),右圖為模型結(jié)構(gòu)圖)

同時(shí)廣立微不斷優(yōu)化深度學(xué)習(xí)模型,在無監(jiān)督異常檢測領(lǐng)域取得突破進(jìn)展。學(xué)習(xí)模型對(duì)數(shù)據(jù)清洗、模型訓(xùn)練策略、異常判定規(guī)則和不同量綱數(shù)據(jù)等處理算法進(jìn)行提升,可高效處理工業(yè)生產(chǎn)線上各類數(shù)據(jù)形態(tài),實(shí)現(xiàn)對(duì)多種不同形態(tài)、不同尺度傳感器數(shù)據(jù)的異常檢測,協(xié)助客戶及時(shí)發(fā)現(xiàn)生產(chǎn)線上的各類異常情況。

目前廣立微異常檢測模型已成功部署于DE-FDC,具備覆蓋更為復(fù)雜數(shù)據(jù)場景的能力,并取得了更卓越的檢測效果。

廣立微深耕半導(dǎo)體智能制造領(lǐng)域,已經(jīng)形成以INF-AI為核心的智能解決方案,結(jié)合廣立微大數(shù)據(jù)分析平臺(tái)(DATAEXP),幫助客戶一站式解決半導(dǎo)體制造問題。其中,智能缺陷分類(Automatic Defect Classification,ADC)、晶圓圖缺陷模式分析(Wafer Pattern Analysis,WPA)、缺陷異常溯源等應(yīng)用,因其準(zhǔn)確性和可靠性,已在多個(gè)領(lǐng)先的半導(dǎo)體制造廠部署和使用,助力芯片良率提升。

未來,公司將繼續(xù)深化產(chǎn)學(xué)研合作和國際技術(shù)交流,大力推動(dòng)人工智能,智能制造領(lǐng)域的技術(shù)創(chuàng)新和實(shí)踐探索,為發(fā)展新質(zhì)生產(chǎn)力不斷賦能!

關(guān)于ASMC

先進(jìn)半導(dǎo)體制造會(huì)議(Advanced Semiconductor Manufacturing Conference,ASMC)是由國際半導(dǎo)體設(shè)備與材料協(xié)會(huì)(Semiconductor Equipment and Materials International,SEMI)主辦的專注于半導(dǎo)體制造技術(shù)和創(chuàng)新的重要會(huì)議。

關(guān)于我們

杭州廣立微電子股份有限公司(股票代碼:301095)是領(lǐng)先的集成電路EDA軟件與晶圓級(jí)電性測試設(shè)備供應(yīng)商,公司專注于芯片成品率提升和電性測試快速監(jiān)控技術(shù),是國內(nèi)外多家大型集成電路制造與設(shè)計(jì)企業(yè)的重要合作伙伴。公司提供EDA軟件、電路IP、WAT電性測試設(shè)備以及與芯片成品率提升技術(shù)相結(jié)合的整套解決方案,在集成電路設(shè)計(jì)到量產(chǎn)的整個(gè)產(chǎn)品周期內(nèi)實(shí)現(xiàn)芯片性能、成品率、穩(wěn)定性的提升,成功案例覆蓋多個(gè)集成電路工藝節(jié)點(diǎn)。

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原文標(biāo)題:廣立微技術(shù)論文入選全球頂尖學(xué)術(shù)會(huì)議ASMC,AI助力良率提升

文章出處:【微信號(hào):gh_7b79775d4829,微信公眾號(hào):廣立微Semitronix】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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