背景介紹
作為一種動態(tài)可編程光學(xué)元件,液晶空間光調(diào)制器(LC-SLM)在波前整形和光束控制等精密光學(xué)調(diào)控應(yīng)用中發(fā)揮著非常重要的作用。典型的純相位SLM工作原理是通過加載的電壓控制在每個液晶像素處誘導(dǎo)相位延遲,實現(xiàn)對入射光波波前的調(diào)控。
隨著光場調(diào)控技術(shù)朝著精細(xì)化方向發(fā)展,對相位型LC-SLM的調(diào)制精度提出了更高的要求。如:在超快智能加工領(lǐng)域需求相位型SLM實現(xiàn)高相位調(diào)制精度的波前精細(xì)調(diào)控;在顯微成像領(lǐng)域需求相位型SLM實現(xiàn)高信噪比、高分辨率的成像;在無接觸光學(xué)微操縱領(lǐng)域需求相位型SLM實現(xiàn)高精度、高效的微粒捕獲等。然而, 通常商用SLM會出現(xiàn)相位失真,導(dǎo)致LCOS器件在波前控制實際應(yīng)用中存在諸多問題:如光利用效率低、調(diào)制精度差,最終無法實現(xiàn)相應(yīng)的功能。
追其本源,相位失真主要由SLM物理結(jié)構(gòu)和環(huán)境條件的相位調(diào)制非線性和不均勻性引起,具體可歸因于兩個因素:
1)施加在液晶(LC)上的錯誤驅(qū)動電信號;
圖1 動態(tài)調(diào)制LUT調(diào)制誤差
2) SLM襯底或背板曲率和LC層厚度不均勻引起的畸變;
圖2 SLM硬件引入畸變
前者屬于驅(qū)動模塊控制誤差導(dǎo)致動態(tài)相位響應(yīng)誤差,可通過LUT來實現(xiàn)修正;而后者屬于產(chǎn)品器件的固有特性,會影響效率和波前質(zhì)量,調(diào)制的相位輪廓的精度相對較低,直接影響了相位調(diào)制的精度。為了解決這一問題,需要對SLM的硬件(光閥)進(jìn)行面型測量及修正。
SLM面型測試和校準(zhǔn)原理
為了響應(yīng)基于高精度相位調(diào)制的應(yīng)用需求,同時提升SLM產(chǎn)品性能,中科微星基于泰曼-格林干涉法開發(fā)了測量SLM的靜態(tài)波面誤差和修正技術(shù),系統(tǒng)光路示意如圖3所示,具體工作原理:在激光光束擴束和準(zhǔn)直之后形成平面波,經(jīng)分束器(BS)分成兩個光束,一束光經(jīng)BS透射照射到SLM,并經(jīng)SLM調(diào)制后反射;另一束光經(jīng)BS反射照射到參考鏡,并經(jīng)參考鏡反射,經(jīng)SLM調(diào)制后的反射光與經(jīng)平面鏡(M)反射的光通過BS時發(fā)生干涉,然后CCD可通過其前端配置的4f系統(tǒng)對干涉條紋進(jìn)行采集和記錄。
圖3 泰曼格林干涉測量光路
將SLM置于圖3中所示的位置,通過光路系統(tǒng)中CCD采集干涉條紋,圖4為測得的SLM干涉條紋。
圖4 采集的干涉條紋圖
然后通過干涉條紋處理算法可得到SLM初始面型圖像和數(shù)據(jù);通過面型修正算法可得到SLM修正后面型數(shù)據(jù)和圖像,并用常用的面型評價指標(biāo)PV、RMS進(jìn)行量化表征。下表1列舉的為測試和修正的3種SLM的測試和修正面型圖像和數(shù)據(jù)。
表1 不同類型SLM初始及修正后面型
從上表可得到:修正后面型相較于初始面型,面型基本趨于平坦度,面型精度RMS基本可達(dá)1/35λ@632.8nm。
面型校準(zhǔn)對調(diào)制效果的影響
為了更好對比面型修正前后SLM的調(diào)制性能,通過搭建實際光場測試系統(tǒng)測試了3種常用光束(高斯光束、艾里光束、渦旋光束)修正前后調(diào)制效果。
表2 SLM面型修正前后對實際光場調(diào)試結(jié)果
從上述測試結(jié)果可以得到,修正后的SLM調(diào)制效果會更完美,更接近于理論效果。
產(chǎn)品推出
公司最新3.0軟件已經(jīng)預(yù)留面型補償接口,支持相位型SLM(針對532nm和635nm)面型檢測和修正標(biāo)定,根據(jù)不同工作波長配置相應(yīng)的面型修正文件,并通過配套軟件實現(xiàn)面型修正的補償。
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