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優(yōu)化方阻分布:晶體硅電池基于陶瓷輥式擴(kuò)散(CRID)的高均勻磷發(fā)射極均勻性研究

美能光伏 ? 2024-11-02 08:08 ? 次閱讀

晶體硅太陽能電池作為市場上的主流產(chǎn)品,其效率提升對降低成本和提高市場競爭力至關(guān)重要。在晶體硅太陽能電池的生產(chǎn)過程中,發(fā)射極的方阻均勻性對電池性能有顯著影響。方阻不均勻會導(dǎo)致電池內(nèi)部電場分布不均,影響載流子的收集效率,從而降低電池的整體性能。通過探索新的擴(kuò)散技術(shù)和理論模擬方法,來解決傳統(tǒng)工藝中存在的方阻不均勻性問題。

電池制備

9be436a2-98ae-11ef-8084-92fbcf53809c.png超聲霧化器(左邊)和霧化硅片(右邊)

工業(yè)級 p 型電阻率為 1.1–1.8 Ω·cm,厚度為 180±20 μm 的 156mm×156mm尺寸直拉單晶硅片通過產(chǎn)線濕化學(xué)方法進(jìn)行表面織構(gòu)化,隨后放入 KOHH2O = 1100 溶液中去尖2分鐘。將含 5% H3PO4 的去離子水溶液超聲霧化至制絨后的硅片表面以完成預(yù)沉積過程。

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CRID 電池和 TD 電池工藝流程

采用 PECVD 方法在擴(kuò)散面沉積一層 70nm 厚的 SiNx 減反射層,溫度為400℃,隨后進(jìn)行絲網(wǎng)印刷,其中正面為銀柵線,背面為鋁背場,經(jīng)燒結(jié)爐中共燒最終完成電池制造。

改進(jìn)的CRID 擴(kuò)散爐

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CRID 爐體結(jié)構(gòu)示意圖

CRID擴(kuò)散爐由預(yù)熱區(qū)、高溫區(qū)和冷卻區(qū)組成,使用自旋的Al2O3陶瓷輥軸代替?zhèn)鹘y(tǒng)的金屬網(wǎng)帶,以減少金屬污染。

發(fā)射極特點(diǎn)

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不同擴(kuò)散溫度的方阻

由圖可知,擴(kuò)散溫度為 810°C 時,平均方阻最高約 132Ω/sq,擴(kuò)散溫度為 870°C 時, 平均方阻約 44Ω/sq。可見,在相同的擴(kuò)散時間條件下,隨著擴(kuò)散溫度的增加,方阻不斷降低。

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不同擴(kuò)散溫度的 ECV 分布

根據(jù)襯底的電阻率為 1.1–1.8 Ω·cm 可知, 結(jié)深位置大約在 1E16cm?3濃度附近,由圖可知,810°C 工藝的結(jié)深約為 0.16 μm,870°C工藝的結(jié)深為 0.37μm。隨著溫度升高,結(jié)深不斷加深

電池的方阻分布

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TD 和 CRID 電池的方阻分布

方塊電阻標(biāo)準(zhǔn)差是反映方塊電阻分布均勻性的重要參數(shù)。圖中顯示了 CRID 和 TD 硅片的方阻標(biāo)準(zhǔn)差分別為 2.1Ω/sq4Ω/sq,表明 CRID電池在目標(biāo)方阻70 Ω/sq 時方阻分布要比 TD電池以 75 Ω/sq 為目標(biāo)方阻時分布得更為均勻。

CRID工藝在方阻均勻性方面表現(xiàn)出優(yōu)勢,這可能使其成為制造高效率太陽能電池的更優(yōu)選擇。

TD和CRID的電性能比較

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TD 與 CEID 電池性能

CRID 電池性能低于 TD 電池,在方塊電阻相近的情況下,開路電壓相差過大,主要是 CRID 的復(fù)合過于嚴(yán)重,并聯(lián)電阻過小造成的。而 CRID 短路電流更低,主要反映的是光譜響應(yīng)過差。

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TD 電池和 CRID 電池外量子效率

CRID 電池的短波響應(yīng)遠(yuǎn)低于 TD 電池,說明 CRID 電池的表面復(fù)合更為嚴(yán)重,限制開路電壓和短路電流,進(jìn)而使得轉(zhuǎn)換效率偏低。經(jīng)四探針方阻測試,CRID 經(jīng)去 PSG 后,表面方阻變化不明顯,約 72Ω/sq,而 TD 去完 PSG 后從 75Ω/sq 至升至 85Ω/sq 左右,方阻標(biāo)準(zhǔn)差為 5.65Ω/sq。

富磷層及其去除方法

富磷層的形成增加了電池的表面復(fù)合,限制了開路電壓和短路電流,進(jìn)而影響轉(zhuǎn)換效率。為了去除富磷層,采用了1% KOH溶液進(jìn)行刻蝕處理。通過不同時間的刻蝕實(shí)驗(yàn),研究了刻蝕時間對方塊電阻的影響,以及對電池性能的影響。9cd2595e-98ae-11ef-8084-92fbcf53809c.png

不同刻蝕時間的方阻分布

由圖可知,隨著刻蝕時間的增加,平均方塊電阻從 71.1Ω/sq 增加至 115.6Ω/sq,與此同時,方塊電阻標(biāo)準(zhǔn)差也從 2.1Ω/sq 增加至5.2 Ω/sq。隨著刻蝕時間的增加,富磷層厚度在不斷降低,至于刻蝕多長時間可最大程度甚至完全將富磷層去降干凈,而表面不被過度刻蝕,主要依賴不同刻蝕時間后的電性能參數(shù)。

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不同擴(kuò)散工藝的電池效率分布及相應(yīng)的結(jié)深

實(shí)線代表的是不同擴(kuò)散溫度下獲得的結(jié)深,散點(diǎn)圖代表的是不同刻蝕時間獲得的效率。由圖可知,CRID 電池在 850℃,刻蝕時間為 200s 時,電池效率最高,這意味著 850℃是最適合當(dāng)前產(chǎn)線技術(shù)的工藝參數(shù),并且富磷層已被盡可能去除了。

電池性能

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CRID 電池去富磷層前后與 TD 電池的電性能參數(shù)對比

對比了CRID和TD電池的性能,發(fā)現(xiàn)CRID電池在去除富磷層后,開路電壓、短路電流、填充因子和效率都有顯著提升。

硼發(fā)射極方阻標(biāo)準(zhǔn)差

以 81Ω/sq 為目標(biāo)方阻,通過管式擴(kuò)散完成硼發(fā)射極制備,分析了方阻標(biāo)準(zhǔn)差分別為 4.66Ω/sq、4.37Ω/sq 和 4.75Ω/sq 的電池性能。

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三樣品的方塊方阻分布

上圖展示了方阻在硅片上的分布情況,顏色深淺或等高線密度可以表示方阻的大小,從而直觀地顯示方阻的均勻性。方阻均值提供了樣品整體方阻水平的信息,而標(biāo)準(zhǔn)差則反映了方阻分布的離散程度,即方阻的均勻性。

方阻標(biāo)準(zhǔn)差對電性能影響

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樣品 1、2 和 3 的 JV 曲線

方阻分布的均勻性對電池的電性能顯著影響。方阻分布越均勻,電池的Voc、Jsc、FF和Eff通常越高。

通過調(diào)節(jié)擴(kuò)散溫度,使用CRID工藝成功實(shí)現(xiàn)了寬范圍的方塊電阻調(diào)節(jié),同時獲得了較淺的結(jié)深。CRID電池在適當(dāng)?shù)墓に嚄l件下,具有獲得更高效率的潛力,并且能更好地適應(yīng)多主柵設(shè)計。通過對比不同方阻偏差的電池性能,研究發(fā)現(xiàn)方阻越均勻電池性能越好。

美能在線方阻測試儀

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美能在線方阻測試儀是專為光伏工藝監(jiān)控設(shè)計的在線四探針方阻儀,可以對最大230mm×230mm的樣品進(jìn)行快速、自動的掃描,獲得樣品不同位置的方阻/電阻率分布信息。

  • 測量范圍:1mΩ~100MΩ
  • 測量點(diǎn)數(shù)支持5點(diǎn)、9點(diǎn)測量,同時測試5點(diǎn)滿足≤5秒,同時測試9點(diǎn)滿足≤10秒

測量精度:保證同種型號測量的精準(zhǔn)度不同測試儀器間測試誤差在±1%

通過實(shí)驗(yàn)和模擬深入分析了方阻均勻性對太陽能電池性能的影響,美能在線方阻測試儀的集成應(yīng)用,為我們提供了一個高效、精確的方阻測量解決方案。

原文出處:《晶體硅太陽能電池?fù)诫s與金屬化工藝研究》 黃志平 博士論文 2021

*特別聲明:「美能光伏」公眾號所發(fā)布的原創(chuàng)及轉(zhuǎn)載文章,僅用于學(xué)術(shù)分享和傳遞光伏行業(yè)相關(guān)信息。未經(jīng)授權(quán),不得抄襲、篡改、引用、轉(zhuǎn)載等侵犯本公眾號相關(guān)權(quán)益的行為。內(nèi)容僅供參考,若有侵權(quán),請及時聯(lián)系我司進(jìn)行刪除。

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