為什么干法刻蝕又叫低溫等離子體刻蝕
本文介紹了為什么干法刻蝕又叫低溫等離子體刻蝕。
什么是低溫等離子體刻蝕，除了低溫難道還有高溫嗎？等離子體的溫度？
等離子體是物質(zhì)的第四態(tài)，并不是只有半導(dǎo)體制造或工業(yè)領(lǐng)域中才會有等離子體。等離子體廣泛存在于自然界中，如閃電，太陽表面都會有大量的等離子體產(chǎn)生，因為等離子體的實質(zhì)是氣體的電離。自然界的等離子體的核心溫度可以達到13500℃左右，即高溫等離子體，因此對于工業(yè)生產(chǎn)并無太大作用。 而低溫等離子體是一種人造的等離子體，通過等離子體提供能量，代替熱量，促進化學(xué)反應(yīng)的迅速發(fā)生，一般溫度從室溫到幾百攝氏度之間。 人造等離子體如何產(chǎn)生？
1，降低腔體壓力。首先使用真空泵將腔體內(nèi)的壓力降低到一定的數(shù)值，低氣壓有助于控制等離子體的穩(wěn)定性，使氣體更容易被電離。
2，引入工藝氣體。向腔體中引入特定的工藝氣體。這些氣體將成為等離子體中的主要粒子來源。
3，激發(fā)等離子體。采用電源將氣體電離，從而形成等離子體。
4，關(guān)閉等離子體并恢復(fù)到大氣壓力。 低溫等離子體在半導(dǎo)體制造中的用途？ 在干法刻蝕，PVD，CVD，ALD，離子注入，灰化，終點檢測等都有應(yīng)用。
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