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發(fā)布了文章 2024-12-20 16:03
半導(dǎo)體濕法和干法刻蝕
什么是刻蝕?刻蝕是指通過物理或化學(xué)方法對材料進(jìn)行選擇性的去除,從而實(shí)現(xiàn)設(shè)計(jì)的結(jié)構(gòu)圖形的一種技術(shù)。蝕刻是半導(dǎo)體制造及微納加工工藝中相當(dāng)重要的步驟,自1948年發(fā)明晶體管到現(xiàn)在,在微電子學(xué)和半導(dǎo)體領(lǐng)域中,蝕刻技術(shù)的發(fā)展伴隨著整個(gè)集成電路技術(shù)和化合物半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)步。在器件制造過程中需要各種類型的蝕刻工藝,涉及到幾乎所有相關(guān)材料,如介質(zhì)薄膜、硅、金屬、有機(jī)物、II -
發(fā)布了文章 2024-12-20 11:49
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