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電子發(fā)燒友網(wǎng)>電子資料下載>電子資料>如何分析微波暗室性能的低頻三維電磁

如何分析微波暗室性能的低頻三維電磁

2020-09-01 | pdf | 0.74 MB | 次下載 | 1積分

資料介紹

  眾所周知,微波暗室與室外場(chǎng)相比在進(jìn)行天線測(cè)量時(shí)具有安全、無輻射干擾及不受天氣因素影響的優(yōu)點(diǎn)。典型的微波暗室包括內(nèi)表面覆蓋有吸波材料的屏蔽體,源天線及被測(cè)體(DUT)和可通過旋轉(zhuǎn)以獲得被測(cè)體(DUT)天線方向圖的轉(zhuǎn)臺(tái)系統(tǒng)。屏蔽殼體尺寸大小主要是取決于最低工作頻率,當(dāng)暗室工作在VHF和UHF頻段時(shí)其所需尺寸顯著增大,因而增加了暗室結(jié)構(gòu)和所需吸波材料的費(fèi)用,暗室的最低工作頻率到VHF和UHF頻段時(shí)同室外場(chǎng)相比其優(yōu)點(diǎn)就喪失了。在這種情況下人們關(guān)注的是暗室結(jié)構(gòu)實(shí)際上真正的需求,而選擇了通過減小暗室尺寸降低造價(jià)和增加暗室尺寸以保證最起碼的性能水平的一個(gè)折衷,為了保證天線測(cè)量精度的最小水平,DUT測(cè)試區(qū)中照射波質(zhì)量和暗室內(nèi)各處反射都需達(dá)標(biāo),這就特別需要暗室供應(yīng)商能夠精確分析暗室性能,使設(shè)計(jì)的暗室性價(jià)比最高。長(zhǎng)期以來暗室的工程分析一直是采用射線跟蹤法,但在最低工作頻率時(shí)暗室尺寸僅幾個(gè)波長(zhǎng),因而精度很差,造成精度差的因素有以下幾點(diǎn):

  ● 鏡像區(qū)的反射足以影響DUT測(cè)試區(qū)的品質(zhì),而鏡像區(qū)的特性尺寸有幾個(gè)波長(zhǎng),其表面覆蓋的吸波材料在VHF和UHF頻段時(shí)它的尺寸甚至超過暗室側(cè)墻、頂棚和地面的特性尺寸。

  ● 有效鏡區(qū)面積較大,在使用射線跟蹤法時(shí)難以確定鏡像的準(zhǔn)確入射角。

  ● 在低頻時(shí)難以精確地預(yù)判或預(yù)測(cè)墻面吸波材料在偏離垂直投射時(shí)的反射系數(shù)。

  ● 難以精確測(cè)量吸波材料的反射系數(shù)的相位。因而僅能計(jì)算DUT測(cè)試區(qū)場(chǎng)的有效值(RMS)及和的平方根值(RSS),如此只能提供近似值。

  ● 在VHF和UHF頻段,許多情況都是基于吸波材料在2GHz以上斜入射時(shí)反射系數(shù)的遞減曲線來近似的,這種外推法對(duì)許多暗室就相當(dāng)不精確。

  最有效的常用的對(duì)射線跟蹤法的改進(jìn)是口徑積分法,即從側(cè)墻反射進(jìn)入測(cè)試區(qū)的反射場(chǎng)是用整個(gè)口徑的基爾霍夫(Kirchhoff)積分計(jì)算(包括側(cè)墻、頂棚或地面),測(cè)試區(qū)內(nèi)場(chǎng)是反射場(chǎng)與源天線輻射場(chǎng)的疊加。雖然這種方法比較好的適用于暗室的分析,但所得到的精度仍受到限制,這是由于所用的吸波材料垂直和斜投射時(shí)反射系數(shù)的信息(兩個(gè)交叉極化的幅度和相位)的限制。如前所述,對(duì)UHF和VHF頻段就更成問題了。此外,無論口徑積分法還是射線跟蹤法對(duì)此頻段的暗室內(nèi)多重反射都是無法計(jì)算,但這又是很重要的。

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