，而光刻工藝又是精密電子元器件制造的關鍵流程，這使得光刻膠在整個電子元器件加工產(chǎn)業(yè)，都有著至關重要的地位。 本文簡要介紹幾種代表性光刻膠的成分和機理，重點是光刻膠的新技術應用，以及國產(chǎn)化機會。 ? 光刻膠主要成分 ?
2022-04-25 17:35:22
9350 
關鍵詞：氧氣、微氣泡、光刻膠、高劑量離子注入、氣水界面 介紹? ??? 微氣泡是一種很有前途的環(huán)保光刻膠去除方法的候選方法。已經(jīng)證明，臭氧微氣泡可以去除硅片上的光刻劑，即使被高劑量的離子注入破壞
2022-01-10 11:37:131396 
光刻膠為何要謀求國產(chǎn)替代？中國國產(chǎn)光刻膠企業(yè)的市場發(fā)展機會和挑戰(zhàn)如何？光刻膠企業(yè)發(fā)展要具備哪些核心競爭力？在南京半導體大會期間，徐州博康公司董事長傅志偉和研發(fā)總監(jiān)潘新剛給我們帶來前沿觀點和獨家分析。
2022-08-29 15:02:235918 
波長不同，可分為g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm），ArF（193nm）以及EUV光刻膠，其中KrF、ArF和EUV光刻膠被認為是高端光刻膠，目前國內(nèi)幾乎空白。 ? 日本壟斷全球光刻膠大部分市場份額，全球排名前四的光刻膠廠商都來自日本，包括合成橡膠
2021-07-03 07:47:0023642 ，增幅11.11%。 ? 截圖自企查查 ? 光刻膠是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的重要材料，目前主要被日美把控，國內(nèi)在光刻膠方面投入研制的廠商主要晶瑞股份、南大光電、上海新陽、徐州博康、北京科華等，那么華為投資的徐州博康在光刻膠方面有何優(yōu)勢，國內(nèi)廠商在光
2021-08-12 07:49:005380 電子發(fā)燒友原創(chuàng) 章鷹 ? 近日，全球半導體市場規(guī)模增長帶動了上游半導體材料旺盛需求，“光刻膠”的突破也成為國內(nèi)關注焦點。正當日本光刻膠企業(yè)JSR、東京應化和美國Lam Research在EUV光刻膠
2022-08-31 07:45:002718 介紹了高速高精度國產(chǎn)化DA轉換器的實際應用
2016-11-28 23:28:43
介紹了國產(chǎn)化DA轉換器的使用方法及實際應用舉例
2016-11-28 23:22:46
一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類型：正性光刻和負性光刻，區(qū)別如下
2021-01-12 10:17:47
:1倍的在硅片上直接分步重復曝光系統(tǒng)?！」庵驴刮g劑 簡稱光刻膠或抗蝕劑，指光照后能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類。①正性光致抗蝕劑：受光照部分發(fā)生降解反應而能為顯影液所溶解。留下的非
2012-01-12 10:51:59
越好，NA越大越好，這樣光刻機分辨率就越高，制程工藝越先進。） 最初的浸入式光刻就是很簡單的在晶圓光刻膠上加1mm厚的水，水可以把193nm的光波長折射成134nm，后來不斷改進高NA鏡片、多光照
2020-07-07 14:22:55
/㎝2條件下進行曝光。曝光結束后，選擇合適的烘烤溫度及時間。將晶片在顯影液中浸漬顯影，隨后用氮氣吹干。AZ光刻膠AZ光刻膠刻蝕厚度從1μm到150μm以及更厚。高感光度,高產(chǎn)出率；高附著性,特別為濕法刻蝕工藝
2018-07-12 11:57:08
（電子科技大學 微電子與固體電子學院，成都 610054）摘 要：光刻膠技術是曝光技術中重要的組成部分,高性能的曝光工具需要有與之相配套的高性能的光刻膠才能真正獲得高分辨率的加工能力。主要圍繞光刻膠
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負膠之分。正膠經(jīng)過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過顯影后被
2019-11-07 09:00:18
這是我的版圖一部分，然后生成了圖案是這樣的： 感覺間距小的地方全都有殘留，間距大的地方?jīng)]有殘留；工藝參數(shù)：s9920光刻膠， evg 620‘未進行蒸汽底漆層涂覆，前烘：100攝氏度，90s
2016-11-29 14:59:18
我從國外買了2根飛利浦5000K全色譜熒光燈管，這種燈管專門用于對色燈箱，我把它當成室內(nèi)照明進行使用，效果很好，看物體感覺很舒服，顯色指數(shù)達到98，但我在國內(nèi)市場上找不到這種性能的燈管，現(xiàn)在LED
2016-03-28 15:34:09
、 軟硬件集成測試、功能安全技術等。目前，國內(nèi)缺口最大的就是BMS相關核心芯片。然而，BMS芯片市場長期被TI、ADI、NXP等歐美企業(yè)壟斷。不管是消費級、工業(yè)級還是車規(guī)級，90%多為進口，國產(chǎn)化率不高
2022-09-23 09:45:09
100μm并具有極高的分辨率。 NR5 系列 NR5-系列負性光刻膠，用于深度離子蝕刻（RIE）中的厚膜掩膜工藝。 PR1 系列 正性光刻膠，用于光刻，蝕刻和高溫制程。 IC1/DC5 系列 作為
2010-04-21 10:57:46
環(huán)境濕度太大，使膠與玻璃表面粘附不良。因此，得注意做好玻璃表面清潔處理和操作的環(huán)境的溫，濕度及清潔工作。2）光刻膠配制有誤或膠陳舊不純，膠的光化學反應性能不好，使膠與ITO層成健能力差，或者膠膜不均勻
2018-11-22 16:04:49
%的國產(chǎn)化，而高折射率國產(chǎn)封裝膠也已經(jīng)占據(jù)國內(nèi)市場份額的60%左右。2016年，因為化工原材料價格的上漲和LED行業(yè)的趨穩(wěn)回暖，LED封裝膠價格在下半年開始止跌，市場規(guī)模開始逐漸提高，但是因為國內(nèi)涉及
2018-09-27 12:03:58
SU 8光刻膠系列產(chǎn)品簡介：新型的化學增幅型負像 SU- 8 膠是一種負性、環(huán)氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導致的深寬比不足的問題，十分適合于制備高深寬比微結構。SU- 8
2018-07-04 14:42:34
高科技領域，大型設備備件仍然長期依賴進口，不僅價格昂貴，而且訂貨周期長，再加上國外備件更新速度快，國內(nèi)企業(yè)無法跟上或買到，企業(yè)的生產(chǎn)經(jīng)營將受到嚴重制約。由此可知引進設備備件必須走國產(chǎn)化之路，降低維修成本。那么
2014-04-28 14:40:53
lithography是一種平板印刷技術，在平面光波回路的制作中一直發(fā)揮著重要的作用。具體過程如下：首先在二氧化硅為主要成分的芯層材料上面，淀積一層光刻膠；使用掩模版對光刻膠曝光固化，并在
2018-08-24 16:39:21
請問各位，誰知道這個芯片有什么國產(chǎn)化替代方案嗎
2022-06-27 10:38:38
://www.wetsemi.com/index.html 關鍵詞：光刻膠附著力，砷化鎵，濕蝕刻，表面處理，輪廓 概要報告了幾個旨在修復 InGaP/GaAs NPN HBT 噴霧濕法化學蝕刻期間光刻膠粘附失效
2021-07-06 09:39:22
項目名稱：儀器國產(chǎn)化替代試用計劃：我們的儀器現(xiàn)在購買國外的器件交期越來越長，國產(chǎn)替代迫在眉睫。需要替換的器件有AD DA 運放FPGA
2020-07-16 10:27:27
`在今年4月份，F(xiàn)irefly推出了基于RK3399的全國產(chǎn)化核心板后，引起了業(yè)界的廣泛關注。為了更好地推進國內(nèi)科技產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，F(xiàn)irefly繼續(xù)深入開發(fā)穩(wěn)定的國產(chǎn)化平臺，形成了國產(chǎn)化系列。目前已在
2021-06-15 10:21:22
。正性光刻膠在半導體制造中使用得最多，因其可以達到更高的分辨率，從而讓它成為光刻階段更好的選擇?，F(xiàn)在世界上有不少公司生產(chǎn)用于半導體制造的光刻膠。 光刻光刻在芯片制造過程中至關重要，因為它決定了芯片上的晶體管
2022-04-08 15:12:41
光刻技術中,涂有光刻膠的硅片與掩膜版直接接觸.由于光刻膠和掩膜版之間緊密接觸,因此可以得到比較高的分辨率.接觸式暴光的主要問題是容易損傷掩膜版和光刻膠.當掩膜版與硅片接觸和對準時,硅片上很小的灰塵
2012-01-12 10:56:23
我從國外買了2根飛利浦5000K全色譜熒光燈管，這種燈管專門用于對色燈箱，我把它當成室內(nèi)照明進行使用，效果很好，看物體感覺很舒服，顯色指數(shù)達到98，但我在國內(nèi)市場上找不到這種性能的燈管，現(xiàn)在LED
2016-03-24 14:22:15
封裝測試所有環(huán)節(jié)的純國產(chǎn)化和自主化，并已成功量產(chǎn)，標志著國內(nèi)SLCNANDFlash產(chǎn)品正式邁入24nm先進制程工藝時代。該創(chuàng)新技術產(chǎn)品有助于進一步豐富兆易創(chuàng)新的存儲類產(chǎn)品線，為客戶提供更優(yōu)化的大容量代碼存儲解決方案。
2020-11-26 06:29:11
兆易創(chuàng)新推出全國產(chǎn)化24nm SPI NAND Flash
2021-01-07 06:34:47
了滿足客戶對國產(chǎn)化的需求，飛凌也做了很大的努力。二、飛凌在國產(chǎn)化道路上做的努力1、積極引入國產(chǎn)化平臺，與國產(chǎn)芯片企業(yè)共同成長在國產(chǎn)化大潮涌動的嵌入式市場中，飛凌嵌入式積極主動地和各個國產(chǎn)芯片廠家合作，引入
2022-09-16 14:32:37
半導體材料市場構成：在半導體材料市場構成方面，大硅片占比最大，占比為32.9%。其次為氣體，占比為14.1%，光掩膜排名第三，占比 為12.6%，其后：分別為拋光液和拋光墊、光刻膠配套試劑、光刻膠、濕化學品、建設靶材，比分別為7.2%、6.9%、 6.1%、4%和3%。
2021-01-22 10:48:36
壓力變感器，尤其是差壓變送器在我國石化行業(yè)大量使用。變送器來源的絕大多數(shù)依靠進口，不僅價格昂貴，而且，由于不具有自主知識產(chǎn)權，很有可能暗藏潛在威脅。能源安全關乎國家安全，因此傳感器國產(chǎn)化迫在眉睫。
2019-10-08 06:50:15
噴膠機是現(xiàn)代光電子產(chǎn)業(yè)中光刻膠涂布的重要設備?？蓪Σ煌叽绾托螤畹幕M行涂膠，最大涂膠尺寸達8寸，得到厚度均勻的光刻膠層，同時可對大深寬比結構的側壁進行均勻涂膠；通過計算機系統(tǒng)控制器進行工藝參數(shù)的編輯和操作。
2020-03-23 09:00:57
５０ ｓ。用金相顯微鏡測試了在優(yōu)化工藝參數(shù)條件下制作的光刻膠圖形的分辨率，同時對圖形反轉機理進行了討論。關鍵詞：光刻；ＡＺ?５２１４；剝離工藝；圖形反轉；斷面模擬
2009-10-06 10:05:30
國產(chǎn)FPGA正在面臨挑戰(zhàn)如何選擇國產(chǎn)化替代FPGA產(chǎn)品
2021-03-02 06:30:14
怎樣去學習FMG0國產(chǎn)化復旦微開發(fā)板呢？
2021-10-27 06:28:28
的解決，工業(yè)自動化系統(tǒng)市場在近若干年仍將由外國產(chǎn)品占主要地位。據(jù)了解，世界工業(yè)500強中的工業(yè)自動化跨國公司都已進入國內(nèi)市場，在提供產(chǎn)品、技術、服務給國內(nèi)用戶的過程中，占據(jù)了很大的市場份額。
2021-07-01 10:58:19
本人是菜鳥 需要在玻璃上光刻普通的差值電極 以前一直在硅片上面光刻 用的光刻膠是AZ5214E 正膠 同樣的工藝和參數(shù)在玻璃上附著力差了很多 懇請哪位高人指點一下PS 插值電極的距離為25微米 小女子這廂謝過了
2010-12-02 20:40:41
涂敷光刻膠 光刻制造過程中，往往需采用20-30道光刻工序，現(xiàn)在技術主要采有紫外線(包括遠紫外線)為光源的光刻技術。光刻工序包括翻版圖形掩膜制造，硅基片表面光刻膠的涂敷、預烘、曝光、顯影、后烘、腐蝕
2019-08-16 11:11:34
本帖最后由 Tronlong創(chuàng)龍科技 于 2023-6-15 16:57 編輯
創(chuàng)龍科技RK3568J核心板獲得“100%國產(chǎn)化”認證
日前，創(chuàng)龍科技“國產(chǎn)化率100%認證”的核心板再添一員
2023-06-15 16:56:01
151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
、恩智浦、英飛凌、德州儀器、微芯科技、意法半導體等國際大廠，市場占有率合計超95%，國內(nèi)市場同樣如此，國產(chǎn)化率不足5%。與商規(guī)、工規(guī)相比，車規(guī)級MCU的要求極為嚴苛，壽命要達到15年以上，且要支持-40
2023-02-03 13:49:45
本帖最后由 火調(diào)王工 于 2015-1-23 11:56 編輯
BOM見圖，手邊一個芯片國產(chǎn)化項目，其中我努力找了部分，但是關鍵的電源部分還是沒有找到特別合適的替換途徑，我記得有那么一個專門
2015-01-04 13:51:20
◆ 全國產(chǎn)化設計，2盤位組Raid 0，對外提供多路的高速數(shù)據(jù)接口；◆ 采用豐科NVME存儲架構，可通過千兆/萬兆網(wǎng)口提供FTP或網(wǎng)盤訪問功能；◆ 具有全國產(chǎn)、低功耗、小尺寸，提供標準eXFAT文件系統(tǒng)的特性，可廣泛應用相關領域的數(shù)據(jù)采集記錄存儲及數(shù)據(jù)管理；
2022-08-24 10:33:55
PMT-2離線光刻膠微粒子計數(shù)器是一款新型液體顆粒監(jiān)測儀器。采用激光光散或光阻原理的顆粒檢測傳感器，可以對超純水、自來水、飲用水、去離子水、礦泉水、蒸餾水、無機化學品、有機化學品、有機溶劑、清洗劑
2022-12-14 10:44:24
PMT-2在線光刻膠液體粒子計數(shù)器，采用英國普洛帝核心技術創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測傳感器，雙精準流量控制-精密計量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng)，可以對清洗劑、半導體、超純水
2023-01-03 15:54:49
光刻膠與光刻工藝技術 微電路的制造需要把在數(shù)量上精確控制的雜質(zhì)引入到硅襯底上的微小 區(qū)域內(nèi),然后把這些區(qū)域連起來以形成器件和VLSI電路.確定這些區(qū)域圖形 的工藝是由光刻來完成的,也就是說,首先在硅片上旋轉涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
0 這是一種老式的旋轉涂膠機，將芯片上涂上光刻膠然后將芯片放到上邊，可以通過機器的旋轉的力度將光刻膠均勻分布到芯片表面，光刻膠只有均勻涂抹在芯片表面，才能保證光刻的成功。
2018-05-17 14:39:3718498 默克與中電彩虹的創(chuàng)新合作項目光刻膠國產(chǎn)化項目于 7 月 17 日在陜西咸陽正式竣工。
2018-07-19 09:09:387064 在國家政策與市場的雙重驅(qū)動下，近年來，國內(nèi)企業(yè)逐步向面板、半導體光刻膠發(fā)力……
2019-04-23 16:15:3612831 
從經(jīng)開區(qū)企業(yè)北京欣奕華科技有限公司（以下簡稱“欣奕華”）了解到，經(jīng)過多年的行業(yè)累積和技術迭代，欣奕華在平板顯示用負性光刻膠領域?qū)崿F(xiàn)了量產(chǎn)，預計今年將有1000噸的光刻膠交付用戶，約占國內(nèi)市場的8%。
2019-10-28 16:38:493761 隨著電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展的突飛猛進，光刻膠市場總需求不斷提升。2019年全球光刻膠市場規(guī)模預計接近90億美元，自2010年至今CAGR約5.4%，預計未來3年仍以年均5%的速度增長，預計至2022年全球光刻膠市場規(guī)模將超過100億美元。
2020-03-01 19:02:484098 在國際半導體領域，我國雖已成為半導體生產(chǎn)大國，但整個半導體產(chǎn)業(yè)鏈仍比較落后。特別是由于國內(nèi)光刻膠廠布局較晚，半導體光刻膠技術相較于海外先進技術差距較大，國產(chǎn)化不足5%。在這種條件下，國內(nèi)半導體廠商積極開展研究，如晶瑞股份的KrF光刻膠，南大光電的ArF光刻膠均取得較好的研究效果。
2020-03-06 15:40:564165 與ASML一臺售價媲美一架F35 戰(zhàn)斗機，達到1億以上歐元的NXE3400B EVU設備比較起來，全球市場規(guī)模只有90億美元的光刻膠就要不顯眼許多。
2020-03-29 17:04:003758 光刻膠按應用領域分類，大致分為LCD光刻膠、PCB光刻膠（感光油墨）與半導體光刻膠等。按照下游應用來看，目前LCD光刻膠占比26．6%，刻膠占比24．5%，半導體光刻膠占比24．1%，PCB光其他類光刻膠占比24．8%。
2020-06-12 17:13:395380 等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓殘D形從光罩（掩模版）轉移到待加工基片上。依據(jù)使用場景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。 據(jù)第三方機構智研咨詢統(tǒng)計，2019年全球光刻膠市場規(guī)模預計近90億美元，
2020-09-15 14:00:1416535 全球光刻膠市場規(guī)模從2016 年的15 億美元增長至2019年的18億美元，年復合增長率達6.3%；應用方面，光刻膠主要應用在PCB、半導體及LCD顯示等領域，各占約25%市場份額。
2020-09-21 11:28:043290 
開發(fā)行股票計劃募集資金總額不超過人民幣 120,000.00萬元，扣除發(fā)行費用后的募集資金凈額擬投入以下項目。其中，有8.5億元將會投入到新一代電子信息材料國產(chǎn)化項目-光刻膠及光刻膠配套試劑研發(fā)當中。 雅克科技于2010年在深交所中小企業(yè)板上市，主
2020-09-24 10:32:014540 
全球光刻膠市場規(guī)模從2016 年的15 億美元增長至2019年的18億美元，年復合增長率達6.3%；應用方面，光刻膠主要應用在PCB、半導體及LCD顯示等領域，各占約25%市場份額。 國內(nèi)光刻膠整體
2020-10-10 17:40:252957 光刻膠是由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成份組成的、對光敏感的混合液體。利用光化學反應，經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上的圖形轉移介質(zhì)，其中曝光是通過紫外光
2022-12-06 14:53:541238 稱，“ArF 光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”是寧波南大光電承接國家“02 專項”的一個重點攻關項目。本次產(chǎn)品的認證通過，標志著“ArF 光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項目取得了關鍵性的突破，成為國內(nèi)通過產(chǎn)品驗證的第一只國產(chǎn) ArF 光刻膠。? 此舉意味著國產(chǎn)193nm ArF 光刻膠產(chǎn)
2020-12-25 18:24:096227 近期，專注于電子材料市場研究的TECHCET發(fā)布最新統(tǒng)計和預測數(shù)據(jù)：2021年，半導體制造所需的光刻膠市場規(guī)模將同比增長11％，達到19億美元。
2021-03-22 10:51:125081 ，但關鍵在于能造是一回事，能用是另一回事，這其實也是半導體材料產(chǎn)業(yè)的核心問題所在。 01純度 無論是氟化氫、聚酰亞胺、光刻膠還是硅片，純度是其最核心的標準之一。比如對于光刻膠來說，目前國外的光刻膠阻抗可以做到10^15，國內(nèi)基本上
2021-05-11 13:46:382922 
由于KrF光刻膠產(chǎn)能受限以及全球晶圓廠積極擴產(chǎn)等，占據(jù)全球光刻膠市場份額超兩成的日本供應商信越化學已經(jīng)向中國大陸多家一線晶圓廠限制供貨KrF光刻膠，且已通知更小規(guī)模晶圓廠停止供貨KrF光刻膠
2021-06-25 16:12:28784 大漲9.72%，雅克科技大漲9.93%，強力新材、上海新陽、彤程新材等跟漲。 光刻膠板塊的大漲吸引了產(chǎn)業(yè)注意 ，國產(chǎn)光刻膠再遇發(fā)展良機？ KrF光刻膠海外供應告急 據(jù)了解，光刻膠板塊本輪異動的背后，是KrF光刻膠海外供應告急。自日本福島2月份發(fā)生強震后，光刻膠市場一度傳
2021-05-28 10:34:152623 光刻膠是光刻機研發(fā)的重要材料，換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕跡，就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0011281 本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑，選擇負光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數(shù)量的影響。實驗表明，低粘度正光刻膠AZ703
2022-03-24 16:04:23756 
灰化，簡單的理解就是用氧氣把光刻膠燃燒掉，光刻膠的基本成分是碳氫有機物，在射頻或微波作用下，氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學反應，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通過泵被真空抽走，完成光刻膠的去除。
2022-07-21 11:20:174871 光刻膠產(chǎn)品說明英文版資料分享。
2022-08-12 16:17:252 南大光電最新消息顯示，國產(chǎn)193nm（ArF）光刻膠研發(fā)成功，這家公司成為通過國家“02專項”驗收的ArF光刻膠項目實施主體；徐州博康宣布，該公司已開發(fā)出數(shù)十種高端光刻膠產(chǎn)品系列，包括
2022-08-31 09:47:141285 光刻膠的組成：樹脂（resin/polymer），光刻膠中不同材料的粘合劑，給與光刻膠的機械與化學性質(zhì)（如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等）；感光劑，感光劑對光能發(fā)生光化學反應；溶劑（Solvent
2022-10-21 16:40:0415831 半導體光刻膠用光敏材料仍屬于“卡脖子”產(chǎn)品，海外進口依賴較重，不同品質(zhì)之間價 格差異大。以國內(nèi) PAG 對應的化學放大型光刻膠（主要是 KrF、ArF 光刻膠）來看，樹脂在 光刻膠中的固含量
2022-11-18 10:07:432574 光刻膠是IC制造的核心耗材，技術壁壘極高。根據(jù)TECHCET數(shù)據(jù)，預計2022年全球半導體光刻膠市場規(guī)模達到23億美元，同比增長7.5%，2025年超過25億美元。
2023-03-21 14:00:492095 來源：欣奕華材料 據(jù)欣奕華材料官微消息，近日，國內(nèi)光刻膠龍頭企業(yè)阜陽欣奕華材料科技有限公司（以下簡稱“阜陽欣奕華”）完成超5億元人民幣 D 輪融資。 據(jù)悉，本輪融資由盛景嘉成母基金
2023-06-13 16:40:00552 芯片制造的國產(chǎn)化任重道遠，比如在EDA工具的國產(chǎn)化、光刻機等，國產(chǎn)化都還有很長的路要走。有統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示，目前階段我國在清洗、熱處理、去膠設備的國產(chǎn)化率分別達到34％、40％、90％，在涂膠顯影、刻蝕
2023-08-09 11:50:204183 光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:11571 
勻膠是光刻中比較重要的一步，而旋涂速度是勻膠中至關重要的參數(shù)，那么我們在勻膠時，是如何確定勻膠速度呢？它影響光刻膠的哪些性質(zhì)？
2023-12-15 09:35:56442 
光刻膠主要下游應用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應用，占比30%。光刻膠在半導體制造應用占比24%，是第三達應用場景。
2024-01-03 18:12:21346 
光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:18402 與正光刻膠相比，電子束負光刻膠會形成相反的圖案?；诰酆衔锏呢撔?b class="flag-6" style="color: red">光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解，而曝光的光刻膠則保留下來，從而形成負像。
2024-03-20 11:36:50200 
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