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電子發(fā)燒友網(wǎng)>存儲(chǔ)技術(shù)>KLA推出全新突破性的電子束缺陷檢測(cè)系統(tǒng)

KLA推出全新突破性的電子束缺陷檢測(cè)系統(tǒng)

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來(lái)源:國(guó)家自然科學(xué)基金委員會(huì)MIT Technology Review2020年“十大突破性技術(shù)”解讀[編者按] 2020年2月26日,MIT Technology Review一年...
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檢測(cè)內(nèi)容包括:1、表面檢測(cè):污點(diǎn),劃痕,淺坑,淺瘤,邊緣缺陷,圖案缺陷等。2、尺寸測(cè)量:內(nèi)圈直徑,外圈直徑,偏心度,高度,厚度等。在快速,準(zhǔn)確,有效地分析缺陷類(lèi)型的基礎(chǔ)上,還克服了人眼的疲勞、準(zhǔn)確
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labview玻璃缺陷檢測(cè)

有沒(méi)有大神做過(guò)labview玻璃缺陷檢測(cè)方面的項(xiàng)目?有償求項(xiàng)目資源,有償求缺陷玻璃圖片!
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,我們的電子束焊接項(xiàng)目欲用arm架構(gòu)的開(kāi)發(fā)板進(jìn)行試驗(yàn),由于項(xiàng)目有一定的機(jī)密,故不便在網(wǎng)上展出設(shè)計(jì)原理,望電話詳談。
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2023-09-05 11:58:27

聚焦離子應(yīng)用介紹

, Ga),因?yàn)殒壴鼐哂械腿埸c(diǎn)、低蒸氣壓、及良好的抗氧化力;典型的離子顯微鏡包括液相金屬離子源、電透鏡、掃描電極、二次粒子偵測(cè)器、5-6軸向移動(dòng)的試片基座、真空系統(tǒng)、抗振動(dòng)和磁場(chǎng)的裝置、電子
2020-02-05 15:13:29

聚焦離子顯微鏡(FIB-SEM)

缺陷清晰明了,給客戶和供應(yīng)商解決爭(zhēng)論焦點(diǎn),減少?gòu)?fù)測(cè)次數(shù)與支出。 (4)FIB其他領(lǐng)域定點(diǎn)、圖形化切割 3. 誘導(dǎo)沉積材料利用電子束或離子將金屬有機(jī)氣體化合物分解,從而可在樣品的特定區(qū)域進(jìn)行材料
2020-01-16 22:02:26

薄膜瑕疵在線檢測(cè)系統(tǒng) 保護(hù)膜遮光膜缺陷污點(diǎn)檢測(cè)機(jī)

,Smart Vision薄膜表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)能在線對(duì)生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的表面缺陷瑕疵進(jìn)行高速、精確的檢測(cè),顯示和識(shí)別薄膜表面上的所有表面缺陷。能檢測(cè)分別出極小尺寸的臟污點(diǎn)、條紋、破損、邊緣裂縫、皺折、暗斑、亮斑
2021-12-16 10:37:28

表面檢測(cè)市場(chǎng)案例,SMT缺陷檢測(cè)

工廠項(xiàng)目。上期文章推薦了二十個(gè)表面檢測(cè)應(yīng)用案例,幫助智能工廠設(shè)備制造商和系統(tǒng)集成商選型,快速導(dǎo)入表面檢測(cè)智能。本期重點(diǎn)介紹機(jī)器視覺(jué):電子電路表面組裝(SMT缺陷類(lèi))檢測(cè)案例。 01 SMT缺陷檢測(cè)
2022-11-08 14:28:45

豪威科技OmniVision推出突破性夜鷹Nyxel?

高科技處理工藝成功提高量子效率從而實(shí)現(xiàn)更好圖像質(zhì)量,長(zhǎng)距離圖像捕獲,減少光源功耗需求。此項(xiàng)技術(shù)成功使用新型硅半導(dǎo)體架構(gòu)和工藝解決了目前圖像傳感器近紅外檢測(cè)領(lǐng)域面臨的挑戰(zhàn)。
2020-08-19 06:39:34

資料下載:MIT發(fā)布2018年10大突破性技術(shù),3項(xiàng)與嵌入式工程師相關(guān)!

作為全球最為著名的技術(shù)榜單之一,《麻省理工科技評(píng)論》全球十大突破性技術(shù)具備極大的全球影響力和權(quán)威,至今已經(jīng)舉辦了18年。每年上榜的技術(shù)突破,有的已經(jīng)在現(xiàn)實(shí)中得以應(yīng)用,有...
2021-07-05 07:25:43

資料下載:MIT發(fā)布2018年全球10大突破性技術(shù)!

來(lái)源: 數(shù)字化企業(yè)作為全球最為著名的技術(shù)榜單之一,《麻省理工科技評(píng)論》全球十大突破性技術(shù)具備極大的全球影響力和權(quán)威,至今已經(jīng)舉辦了18年。每年上榜的技術(shù)突破,有的已經(jīng)在...
2021-07-05 07:35:37

電子束線的電聚焦與磁聚焦

實(shí)驗(yàn) 電子束線的電聚焦與磁聚焦【實(shí)驗(yàn)?zāi)康摹?.研究帶電粒子在電場(chǎng)和磁場(chǎng)中聚焦的規(guī)律。2.了解電子束線管的結(jié)構(gòu)和原理。3.掌握測(cè)量電子荷質(zhì)比的一種方法。
2009-02-03 13:57:4939

基于KingView 6.03 的電子束單晶爐熔煉監(jiān)控系統(tǒng)

本文簡(jiǎn)單介紹了組態(tài)王6.03的新特點(diǎn),設(shè)計(jì)了電子束單晶爐監(jiān)控系統(tǒng)的硬件和軟件,并用VB擴(kuò)展了組態(tài)王的數(shù)據(jù)庫(kù)功能。關(guān)鍵詞: 組態(tài)王6.03 電子束單晶熔爐 PLC VB DDE 監(jiān)控系統(tǒng)App
2009-05-25 11:06:1713

三菱FX 型PLC 在電子束焊機(jī)中的應(yīng)用Applicatio

根據(jù)電子束焊機(jī)的控制系統(tǒng)的要求,提出用三菱公司的FX 系列的可編程邏輯控制器對(duì)電子束焊機(jī)進(jìn)行數(shù)字量控制和模擬量控制。結(jié)合電子束焊機(jī)焊接工藝需要,分別對(duì)控制軟件的
2009-05-26 11:04:2348

電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 E-beam

價(jià)格貨期電議電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 E-beam Evaporation System電子束蒸發(fā)與熱蒸發(fā)對(duì)比, 能夠在非常高的溫度下熔化材料, 如鎢, 石墨 ... 等等. 結(jié)合石英震蕩片的反饋信號(hào), 可
2022-11-04 11:01:13

超高真空電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 UHV E-beam

價(jià)格貨期電議超高真空電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 UHV E-beam Evaporation System超高真空環(huán)境的特征為其真空壓力低于 10-8至10-12 Torr, 在化學(xué)物理和工程領(lǐng)域十分
2022-11-04 11:21:50

上海伯東剝離成形電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 Lift-Off

因產(chǎn)品配置不同, 價(jià)格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)剝離成形電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 Lift-Off  E-beam Evaporation
2022-11-04 11:28:04

ADS42B49IRGCT:突破性能邊界的高速模數(shù)轉(zhuǎn)換器

ADS42B49IRGCT:突破性能邊界的高速模數(shù)轉(zhuǎn)換器在當(dāng)今高速、高精度的信號(hào)處理領(lǐng)域,一款出色的模數(shù)轉(zhuǎn)換器(ADC)往往能夠成為系統(tǒng)性能的決定性因素。德州儀器(Texas Instruments
2024-02-16 16:49:18

電子束

電子束
2006-04-16 23:34:541842

CSR推出采用SiRFaware技術(shù)的突破性SIRFstar

CSR推出采用SiRFaware技術(shù)的突破性SIRFstarIV定位架構(gòu) CSR推出突破性SiRFstarIV 定位架構(gòu),結(jié)合了獨(dú)特的自助式SiRFaware及微電源GPS技術(shù),使消費(fèi)設(shè)備在沒(méi)有消耗電池和網(wǎng)絡(luò)輔助
2009-08-05 09:26:34612

ADI 推出用于4G 蜂窩基站的突破性射頻電路

ADI 推出用于4G 蜂窩基站的突破性射頻電路   -- 新型高集成度 RF 混頻器和調(diào)制器可實(shí)現(xiàn)高密度射頻卡,提升 LTE 和 4G 基站的
2009-10-15 11:07:29503

突破性照明級(jí)LED將取代低效燈泡

突破性照明級(jí)LED將取代低效燈泡  cree 司日前宣布推出了一款新的突破性照明級(jí) LED,可徹底淘汰低能效燈泡。XLamp MPL EasyWhite LED 具有高性能、色彩一致和流明密度大等
2010-02-25 10:22:53411

Cree公司推出一款新的突破性照明級(jí)LED

Cree公司推出一款新的突破性照明級(jí)LED Cree 公司日前宣布推出了一款新的突破性照明級(jí) LED,可徹底淘汰低能效燈泡。XLamp® MPL EasyWhite LED 具有高性能、色彩一致和流明
2010-02-26 10:49:17703

市場(chǎng)研究調(diào)查認(rèn)定的 一項(xiàng)突破性數(shù)位設(shè)計(jì)分析技術(shù)

市場(chǎng)研究調(diào)查認(rèn)定的 一項(xiàng)突破性數(shù)位設(shè)計(jì)分析技術(shù) Tektronix 已經(jīng)開(kāi)始一項(xiàng)創(chuàng)新的機(jī)種,以新的概念及生產(chǎn)系列以
2010-08-06 08:30:35344

電子束加工原理

電子束加工原理和應(yīng)用以及電子束加工特點(diǎn)。
2011-05-22 12:46:1122201

硅芯光電推出突破性LED面板技術(shù)

領(lǐng)先的半導(dǎo)體技術(shù)供應(yīng)商硅芯光電科技有限公司(Silicon Core Technology)推出用于室內(nèi)應(yīng)用的突破性1.9mm點(diǎn)距LED顯示面板技術(shù)。
2011-12-22 10:03:41656

科銳推出突破性的XLamp XB-D LED

科銳公司(Nasdaq: CREE)日前宣布推出突破性的XLamp XB-D LED,加速推動(dòng)新一代主流LED照明的普及。XLamp XB-D LED是第一款采用最新科銳創(chuàng)新技術(shù)平臺(tái)的LED,將照明級(jí)LED帶入性價(jià)比的新紀(jì)元。
2012-01-16 09:24:071730

應(yīng)用材料公司推出兆位元時(shí)代的突破性蝕刻技術(shù)

  應(yīng)用材料公司推出先進(jìn)的蝕刻技術(shù) ─ Applied Centura Avatar介電層蝕刻系統(tǒng),這項(xiàng)突破性系統(tǒng)是解決建立3D記憶體架構(gòu)的嚴(yán)峻挑戰(zhàn);3D記憶體架構(gòu)可提供高密度兆位元儲(chǔ)存容量,為未來(lái)
2012-06-29 09:13:24850

KLA-Tencor 以全新測(cè)量系統(tǒng)擴(kuò)充其 5D 圖型控制方案

今天,KLA-Tencor Corporation(納斯達(dá)克股票代碼:KLAC)推出兩款先進(jìn)的量測(cè)系統(tǒng),可支持 16 納米及以下尺寸集成電路器件的開(kāi)發(fā)和生產(chǎn):Archer? 500LCM 和 SpectraFilm? LD10。
2015-03-06 13:48:492546

基于突破性微鏡技術(shù)的全新DLP Pico芯片組面世

。DLP技術(shù)支持全球許多產(chǎn)品的顯示,從數(shù)字影院投影機(jī)到智能手機(jī)。2014年,一種基于突破性微鏡技術(shù)的全新DLP Pico芯片組問(wèn)世,這種微鏡技術(shù)被稱(chēng)為DLP TRP。
2018-02-12 05:59:005187

KLA-Tencor推出兩款全新缺陷檢測(cè)產(chǎn)品 堪稱(chēng)黑科技

今天,KLA-Tencor公司(納斯達(dá)克股票代碼:KLAC)宣布推出兩款全新缺陷檢測(cè)產(chǎn)品,在硅晶圓和芯片制造領(lǐng)域中針對(duì)先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的邏輯和內(nèi)存元件,為設(shè)備和工藝監(jiān)控解決兩項(xiàng)關(guān)鍵挑戰(zhàn)
2018-07-14 08:24:009385

KLA-Tencor公司宣布推出兩款全新缺陷檢測(cè)產(chǎn)品

Voyager 1015圖案化晶圓缺陷檢測(cè)系統(tǒng)將新型光源、信號(hào)采集和傳感器完美結(jié)合,填補(bǔ)了業(yè)界針對(duì)顯影后檢測(cè)(ADI)方面的長(zhǎng)期空白。這一革命性的激光散射檢測(cè)系統(tǒng)在提升靈敏度的同時(shí)也可以減少噪聲信號(hào)——并且與最佳替代品相比得到檢測(cè)結(jié)果要迅速得多。
2018-07-14 10:28:357266

KLA-Tencor宣布推出Kronos 1080和ICOS F160檢測(cè)系統(tǒng):拓展IC封裝產(chǎn)品系列

KLA-Tencor公司今日宣布推出兩款全新缺陷檢測(cè)產(chǎn)品,旨在解決各類(lèi)集成電路(IC)所面臨的封裝挑戰(zhàn)。 Kronos? 1080系統(tǒng)為先進(jìn)封裝提供適合量產(chǎn)的、高靈敏度的晶圓檢測(cè),為工藝控制和材料處置提供關(guān)鍵的信息。
2018-08-31 16:01:289822

Tencor推出兩款全新缺陷檢測(cè)產(chǎn)品,可滿足各種IC封裝類(lèi)型的檢測(cè)需求

ICOS F160系統(tǒng)在晶圓切割后對(duì)封裝進(jìn)行檢查,根據(jù)關(guān)鍵缺陷的類(lèi)型進(jìn)行準(zhǔn)確快速的芯片分類(lèi),其中包括對(duì)側(cè)壁裂縫這一新缺陷類(lèi)型(影響高端封裝良率)的檢測(cè)。這兩款全新檢測(cè)系統(tǒng)加入KLA-Tencor缺陷檢測(cè)、量測(cè)和數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)的產(chǎn)品系列,將進(jìn)一步協(xié)助提高封裝良率以及芯片分類(lèi)精度。
2018-09-04 09:11:002239

2019年值得持續(xù)關(guān)注的突破性技術(shù)

國(guó)際著名科技期刊IEEE Spectrum推出12項(xiàng)2019年值得持續(xù)關(guān)注的突破性技術(shù)。
2019-04-05 10:27:002686

電子行業(yè)缺陷檢測(cè)之外觀Logo缺陷檢測(cè)說(shuō)明

可應(yīng)用在電子行業(yè)內(nèi)的缺陷檢測(cè),例如可穿戴產(chǎn)品表面缺陷檢測(cè)、平板電腦Logo缺陷檢測(cè)等,同時(shí)也可應(yīng)用在醫(yī)療器械等高亮度、鏡面缺陷檢測(cè)。 目前,主流的產(chǎn)品logo都是噴印在產(chǎn)品上的,但由于工藝的原因
2019-10-08 16:00:003022

電子束焊原理_電子束焊特點(diǎn)

本文首先闡述了電子束焊原理,其次介紹了電子束焊技術(shù)指標(biāo),最后介紹了電子束焊特點(diǎn)。
2019-12-10 10:18:2613472

電子束焊優(yōu)缺點(diǎn)_電子束焊接工藝

本文首先介紹了電子束焊優(yōu)缺點(diǎn),其次闡述了電子束焊接工藝。最后闡述了電子束焊的基本工藝流程。
2019-12-10 10:37:3829226

KLA公司正式推出了Archer 750套刻量測(cè)系統(tǒng)

KLA公司宣布推出Archer 750基于成像技術(shù)的套刻量測(cè)系統(tǒng)和SpectraShape 11k光學(xué)臨界尺寸(“ CD”)量測(cè)系統(tǒng),它們的主要應(yīng)用是集成電路(“ IC”或“芯片”)制造。在構(gòu)建芯片
2020-03-02 08:47:156664

一文解析什么是表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)

表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)也叫表面質(zhì)量檢測(cè)系統(tǒng)或者表面質(zhì)量檢測(cè)設(shè)備。
2020-08-31 10:18:492734

電子束焊是什么意思_電子束焊的應(yīng)用

電子束焊是指利用加速和聚焦的電子束轟擊置于真空或非真空中的焊接面,使被焊工件熔化實(shí)現(xiàn)焊接。真空電子束焊是應(yīng)用最廣的電子束焊。
2020-09-02 16:42:307863

電子束焊的焊接參數(shù)有哪些_電子束焊的特點(diǎn)

本文首先介紹了電子束焊的焊接參數(shù),其次闡述了電子束焊的技術(shù)要求,最后介紹了電子束焊的特點(diǎn)。
2020-09-02 16:50:2210466

電子束焊分類(lèi)_電子束焊的技術(shù)指標(biāo)

本文首先闡述了電子束焊分類(lèi),其次介紹了電子束焊主要用途,最后介紹了電子束焊的技術(shù)指標(biāo)。
2020-09-03 16:36:067555

表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)是什么,它的作用又是什么

在機(jī)器視覺(jué)行業(yè)中,有一種叫表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)的東西,相信很多朋友都不是很了解。 這個(gè)系統(tǒng)到底有什么作用,其實(shí)表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)也叫外觀缺陷檢測(cè)系統(tǒng),主要應(yīng)用在工業(yè)、紡織、薄膜、3c產(chǎn)品、生物制藥等行業(yè)
2020-10-23 12:00:471296

表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)是什么,它的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)是什么

如今在生產(chǎn)技術(shù)企業(yè)中,為了保障產(chǎn)品的質(zhì)量,在出廠前必須要對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行嚴(yán)格的質(zhì)量檢測(cè)工作,目前,表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)被廣大企業(yè)所應(yīng)用,他的原理主要就是通過(guò)工業(yè)相機(jī)來(lái)進(jìn)行檢測(cè),主要作用就是一個(gè)用來(lái)在線數(shù)據(jù)
2020-11-20 12:15:27771

電子束曝光原理_電子束曝光結(jié)構(gòu)

本文主要闡述了電子束曝光原理及結(jié)構(gòu)。
2020-11-27 15:21:399585

電子束焊接工作原理_電子束焊接應(yīng)用

電子束是從電子槍中產(chǎn)生的。通常電子是以熱發(fā)射或場(chǎng)致發(fā)射的方式從發(fā)射體(陰極)逸出。在25-300kV加速電壓的作用下,電子被加速到0.3-0.7倍的光速,具有一定的動(dòng)能,經(jīng)電子槍中靜電透鏡和電磁透鏡的作用,電子會(huì)聚成功率密度很高的電子束。
2021-03-04 14:43:0615825

凌力爾特在慕尼黑上海電子展上于 BMW i3 車(chē)型中演示了突破性的無(wú)線電池管理系統(tǒng)

凌力爾特在慕尼黑上海電子展上于 BMW i3 車(chē)型中演示了突破性的無(wú)線電池管理系統(tǒng)
2021-03-20 14:11:3814

表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)的應(yīng)用領(lǐng)域有哪些

國(guó)辰表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)能實(shí)時(shí)檢測(cè)、顯示和識(shí)別布匹上的表面缺陷,能檢測(cè)分別出斷經(jīng)/緯、松經(jīng)/緯、孔洞、疵點(diǎn)、臟/污點(diǎn)、破損、蟻蟲(chóng)、塵埃等常見(jiàn)表面缺陷。系統(tǒng)具有實(shí)時(shí)報(bào)警、卷報(bào)表打印等功能。強(qiáng)大的表面缺陷模式識(shí)別功能,根據(jù)表面缺陷的特征,在報(bào)警的同時(shí)會(huì)指出導(dǎo)致該表面缺陷的設(shè)備、工藝問(wèn)題所在,指導(dǎo)工人及時(shí)處理。
2021-09-16 17:11:58792

東方晶源電子束檢測(cè)項(xiàng)目榮登2022“科創(chuàng)中國(guó)”先導(dǎo)技術(shù)榜

電子束缺陷檢測(cè)設(shè)備(EBI)和關(guān)鍵尺寸量測(cè)設(shè)備(CD-SEM)是集成電路制造中用于良率監(jiān)控的關(guān)鍵設(shè)備,對(duì)于提高集成電路制造企業(yè)的產(chǎn)品良率具有重要意義。經(jīng)過(guò)多年技術(shù)攻關(guān),東方晶源突破了集成電路制造檢測(cè)設(shè)備的高速高精度硅片傳輸定位、高速圖像像差補(bǔ)償、自動(dòng)缺陷檢測(cè)和智能分類(lèi)
2023-10-09 14:33:44560

ADI公司突破性的微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)開(kāi)關(guān)技術(shù)

電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《ADI公司突破性的微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)開(kāi)關(guān)技術(shù).pdf》資料免費(fèi)下載
2023-11-27 09:52:201

電子元件缺陷檢測(cè)方法

電子元件是現(xiàn)代科技中不可或缺的一部分,但由于制造過(guò)程中的復(fù)雜性,元件可能出現(xiàn)各種缺陷。為了保證電子元件的質(zhì)量和可靠性,缺陷檢測(cè)是必不可少的過(guò)程。本文將詳細(xì)介紹電子元件缺陷檢測(cè)的不同方法和技術(shù)
2023-12-18 14:46:20373

德累斯頓工廠的電子束光刻系統(tǒng)

來(lái)源:半導(dǎo)體芯科技編譯 投資半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)新的生產(chǎn)設(shè)備 Jenoptik公司計(jì)劃投資數(shù)億歐元,為目前在德累斯頓建設(shè)的高科技工廠建造最先進(jìn)的系統(tǒng)。新型電子束光刻系統(tǒng)(E-Beam)將用于為半導(dǎo)體
2024-01-15 17:33:16178

傳音Infinix在CES 2024上推出最新突破性技術(shù)E-Color Shift

近日,傳音旗下品牌Infinix在CES 2024上推出最新突破性技術(shù)E-Color Shift,可以使手機(jī)背面面板在不消耗電力的情況下改變并保持鮮艷的顏色。
2024-01-23 11:39:10547

氦質(zhì)譜檢漏儀電子束***檢漏

上海伯東客戶某***生產(chǎn)商, 生產(chǎn)的電子束*** Electron Beam Lithography System 最大能容納 300mmφ 的晶圓片和 6英寸的掩模版, 適合納米壓印, 光子器件
2023-06-02 15:49:40

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