空間光調(diào)制器LCOS-SLM的衍射效率作用
空間光調(diào)制器(Spatial Light Modulator,簡稱SLM)是一種能夠?qū)膺M(jìn)行實(shí)時(shí)控制的光學(xué)器件,常用于光學(xué)圖像處理、光學(xué)通信、光學(xué)計(jì)算、光學(xué)傳感等領(lǐng)域。SLM的衍射效率是指SLM輸出的光束中,能夠被轉(zhuǎn)換為所需光學(xué)信息的比例。衍射效率的高低對于SLM的應(yīng)用性能和效率有著重要影響。
SLM的衍射效率受多種因素影響,主要包括以下幾個(gè)方面:
像素尺寸和填充因子:SLM上的像素越小,其所能控制的波長范圍越寬,從而可以實(shí)現(xiàn)更高的衍射效率。同時(shí),填充因子也會(huì)影響SLM的衍射效率,填充因子越高,衍射效率越高。
光學(xué)系統(tǒng)的分辨率:SLM的衍射效率還受到光學(xué)系統(tǒng)分辨率的影響。在光學(xué)系統(tǒng)分辨率足夠高的情況下,SLM的衍射效率會(huì)更高。
SLM的偏振狀態(tài):SLM的偏振狀態(tài)也會(huì)影響其衍射效率。如果SLM的偏振方向與輸入光的偏振方向不同,會(huì)導(dǎo)致光的損失,從而影響SLM的衍射效率。
光束的波長和入射角:光束的波長和入射角也會(huì)影響SLM的衍射效率。通常來說,較短波長和較小入射角可以實(shí)現(xiàn)更高的衍射效率。
空間光調(diào)制器一級衍射效率。
空間光調(diào)制器(Spatial Light Modulator,簡稱SLM)的一級衍射效率是指SLM輸出的光束中,被轉(zhuǎn)換成所需光學(xué)信息的比例。一級衍射效率通常是指SLM的空間光調(diào)制能力,即在一個(gè)像素大小為λ/2的SLM上,能否有效地實(shí)現(xiàn)衍射。
在一個(gè)像素大小為λ/2的SLM上,如果每個(gè)像素只能夠控制一個(gè)相位值,那么SLM的一級衍射效率將非常低。為了提高SLM的一級衍射效率,可以采用多級位相調(diào)制技術(shù),即將每個(gè)像素劃分為多個(gè)子像素,每個(gè)子像素可以控制不同的相位值。通過多級位相調(diào)制,可以大大提高SLM的空間光調(diào)制能力,從而提高SLM的一級衍射效率。
此外,還有其他一些因素也會(huì)影響SLM的一級衍射效率,例如SLM的像素填充因子、SLM的偏振狀態(tài)、光束的波長和入射角等。因此,在實(shí)際應(yīng)用中,需要根據(jù)具體情況對SLM進(jìn)行優(yōu)化,以獲得更高的一級衍射效率。
一級衍射效率是LCOS真正的“衍射效率”,是通過加載閃耀光柵時(shí)(將LCOS作為光柵使用)一級衍射光的能量占不加光柵時(shí)的零級光能量的百分比來定義的。
Diffraction efficiency = I1st/Iave[%]
其中,I1st是加光柵時(shí)一級光的能量,Iave是不加光柵時(shí)零級光的能量。
空間光調(diào)制器衍射效率的測試方法。
衍射效率測試是評估SLM性能的一項(xiàng)重要指標(biāo)。常用的測試方法包括以下幾種:
偏振衍射法:該方法是將SLM作為衍射光柵使用,通過測量衍射光的偏振狀態(tài)來計(jì)算衍射效率。這種方法需要使用偏振器和偏振分束器等光學(xué)元件,比較復(fù)雜。
相位衍射法:該方法是通過將SLM作為一個(gè)透明相位光柵,將輸入光束衍射后的衍射圖案與期望的衍射圖案進(jìn)行比較,從而計(jì)算衍射效率。這種方法需要使用相位測量儀等測量設(shè)備,比較精確,但需要預(yù)先知道期望的衍射圖案。
波前傳輸法:該方法是通過將SLM作為一個(gè)透鏡或光學(xué)系統(tǒng)的一部分,測量光束經(jīng)過SLM后的波前變化,從而計(jì)算SLM的衍射效率。這種方法需要使用自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)或者自適應(yīng)光學(xué)干涉術(shù)等設(shè)備,能夠?qū)LM進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測和調(diào)整。
濱松 空間光調(diào)制器應(yīng)用 相位衍射法對衍射效率進(jìn)行測試;
在空間光調(diào)制器上加載光柵的相位圖,產(chǎn)生閃耀光柵的調(diào)制效果,衍射光柵可以設(shè)置為2階、4階、8階、16階,如下圖所示:
根據(jù)相位調(diào)制和灰度值的關(guān)系,可以制作出以下幾個(gè)光柵相位圖。
將這些光柵相位圖分別加載到SLM上,就可以得到經(jīng)過光柵分光的光斑。
經(jīng)計(jì)算可以看到,濱松的LCOS-SLM一級衍射效率是非常接近理論值的。
最新新聞——濱松SLM助力突破光學(xué)衍射極限。
繼Science,濱松SLM參與飛秒激光極端制造新突破之后,濱松空間光調(diào)制器(SLM)又一次成為浙江大學(xué)、之江實(shí)驗(yàn)室超分辨雙光子聚合系統(tǒng)光場調(diào)控的核心器件,研究成果以“Direct laser writing breaking diffraction barrier based on two-focus parallel peripheral-photoinhibition lithography”為題發(fā)表在Advanced Photonics 上。
最近,浙江大學(xué)、之江實(shí)驗(yàn)室劉旭教授和匡翠方教授團(tuán)隊(duì)基于前期遠(yuǎn)場超分辨技術(shù)的研究經(jīng)驗(yàn),提出了一種新型的雙通道激光納米直寫方法。該方法突破了光學(xué)衍射極限,提高了激光直寫“打印”的精度和速度。
團(tuán)隊(duì)深入研究發(fā)展了暗斑調(diào)控技術(shù)、雙通道調(diào)控技術(shù)、邊緣光抑制技術(shù)、防漂移技術(shù)、三維模型解析技術(shù)和新型光刻膠技術(shù)。所研制的裝置刻寫效率比市面上的單通道裝置產(chǎn)品提升一倍,最小二維線寬達(dá)到40 nm,空間懸浮線橫向線寬穩(wěn)定在20-30 nm?;谄癃?dú)立調(diào)控技術(shù),實(shí)現(xiàn)了通道間的獨(dú)立控制,雙通道可以并行打印不同的任務(wù)。突破了傳統(tǒng)并行方法局限于周期性結(jié)構(gòu)打印的問題,能廣泛應(yīng)用于制造非周期性結(jié)構(gòu)和高度復(fù)雜結(jié)構(gòu)。這進(jìn)一步擴(kuò)展了激光直寫光學(xué)制造的潛在應(yīng)用范圍,使該裝置有望成為可支持眾多領(lǐng)域發(fā)展的實(shí)用支撐設(shè)備。
本文“ 濱松空間光調(diào)制器應(yīng)用 相位衍射法對衍射效率進(jìn)行測試”部分摘抄于濱松官網(wǎng)http://share.hamamatsu.com.cn/specialDetail/799.html
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