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詳解半導(dǎo)體前端工藝之沉積工藝

閃德半導(dǎo)體 ? 來源:閃德半導(dǎo)體 ? 2023-07-02 11:36 ? 次閱讀

壓力與溫度

和在刻蝕工藝中一樣,半導(dǎo)體制造商在沉積過程中也會通過控制溫度、壓力等不同條件來把控膜層沉積的質(zhì)量。例如,降低壓強,沉積速率就會放慢,但可以提高垂直方向的沉積質(zhì)量。因為,壓強低表明設(shè)備內(nèi)反應(yīng)氣體粒子的數(shù)量少,粒子之間發(fā)生沖撞的概率就少,不會妨礙粒子的直線運動。施加高溫則可以提高膜層的純度。當(dāng)然,這樣一來就無法使用鋁(其熔點為550度)等熔點低的金屬材料。

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▲ 圖7:壓強對沉積工藝的影響

因此,在不同需求下,沉積相同材料也可采用完全不同的沉積方式。例如,同樣是沉積二氧化硅(SiO2),柵極絕緣層與STI所需特性就不同,其沉積的方式也不同。柵極絕緣層是核心元件區(qū)域,要求較高的沉積質(zhì)量,應(yīng)采用高溫低壓的方式;STI則不然,它只要起到兩個元件間的絕緣作用即可,通過低溫高壓的方式加快沉積速率才是關(guān)鍵。

材料選擇上的難題

您或許常會在新聞中看到這樣的報道:“發(fā)現(xiàn)了性能高出XX倍的新材料”。只看新聞內(nèi)容,會感覺一場翻天覆地的半導(dǎo)體革命似乎即將來臨。但在所謂的“新材料”中,真的能派上用場的卻寥寥無幾。因為,材料本身的特性好,并不代表它一定能制成高性能的半導(dǎo)體。對沉積材料的要求可不比沉積設(shè)備低。下面,我們來看一看材料的特性會對半導(dǎo)體制程產(chǎn)生什么樣的影響。

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▲ 圖8:加熱導(dǎo)致圖形損壞

物體遇熱體積會變大,這種現(xiàn)象被稱作熱膨脹。鐵軌之間留有縫隙就是為了防止鐵軌在炎熱的夏天因膨脹變形。半導(dǎo)體制程中也會出現(xiàn)這種熱膨脹現(xiàn)象。問題在于,每一種材料的熱膨脹程度不同,例如鋁的熱膨脹系數(shù)是氧化硅的40倍之多。舉個比較極端的例子:如果在氧化硅上沉積了鋁薄膜,即便鋁薄膜沉積很成功,一旦進入后續(xù)的高溫工藝,其內(nèi)部結(jié)構(gòu)就會完全被破損。換句話說,如果采用膨脹系數(shù)完全不同的材料替代之前的沉積材料,會嚴(yán)重影響高溫條件下的產(chǎn)品良率。

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▲ 圖9:電遷移現(xiàn)象

除此之外,還要考慮材料的電遷移(EM,Electromigration)現(xiàn)象。電遷移是指在金屬布線上施加電流時,移動的電荷撞擊金屬原子,使其發(fā)生遷移的現(xiàn)象。鋁等輕金屬很容易發(fā)生這種電遷移現(xiàn)象。為防止鋁的電遷移現(xiàn)象,半導(dǎo)體制造商們開始用銅布線替代鋁,結(jié)果是又多了一道防止銅擴散的阻擋層沉積工藝。隨著半導(dǎo)體不斷微細化發(fā)展,銅布線也開始出現(xiàn)電遷移現(xiàn)象。為攻克這一難關(guān),英特爾又用鈷布線取代了銅。而既然核心金屬布線層的材料發(fā)生了變化,上下層的工藝也肯定要跟著變。可見,想解決材料的電遷移現(xiàn)象,前后方的工藝也要隨之發(fā)生很大變化。

要始終銘記:半導(dǎo)體制程是數(shù)百個工藝錯綜復(fù)雜緊密連接而成的,牽一發(fā)而動全身。新材料是好是壞,不能單看材料本身的特性,還要看能不能與前后方工藝相連,畢竟沉積材料不能獨立存在。

結(jié)論:一種材料,多種方法

讀到這兒,估計讀者們已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了幾點有趣之處了:首先,同樣的材料可以通過不同的方法制成。例如,二氧化硅(SiO2)可以通過氧化工藝,也可以通過沉積工藝形成。即便是相同的材料,如果通過不同工藝涂敷到半導(dǎo)體上,其物理特性也會截然不同。

其次,氧化、刻蝕、沉積等看似完全不同的工藝其實有很多共同之處。比如,物理刻蝕中采用的濺射方法,在沉積工藝中同樣也會使用,區(qū)別在于“是濺射要刻蝕的晶圓本身”,還是“把濺射出來的粒子沉積到晶圓上”?;瘜W(xué)刻蝕中最重要的一點就是刻蝕氣體與反應(yīng)源生成的廢氣是否易于排放,化學(xué)氣相沉積也同樣如此。CVD過程中生成的副產(chǎn)物也要易于揮發(fā)、易于排放,這樣后續(xù)工藝才會變得更容易。

可見,受半導(dǎo)體制造商青睞的新材料,并不是其本身特性有多優(yōu)秀的材料,而是其沉積速率、純度等特性易于控制的材料。而且,沉積材料還要易于通過刻蝕或CMP7等工藝去除。如果采用需要過高溫度的材料,可能會因高溫改變已沉積的其他材料。而若采用對溫度非常敏感的材料,又會出現(xiàn)在下一道工藝中無法加熱的問題。

化學(xué)機械拋光(CMP,Chemical Mechanical Polishing):通過物理、化學(xué)反應(yīng)研磨, 去除非所需物質(zhì),使半導(dǎo)體晶圓表面變得平坦。

如上文所述,“半導(dǎo)體制程由數(shù)百個制造工藝緊密連接而成”。想做好每一道工藝,對其他相關(guān)部門的業(yè)務(wù)也要有很好的把握。要擅于與同事溝通,更要懂得準(zhǔn)確無誤地傳達自己的想法。一個半導(dǎo)體產(chǎn)品需要多人合作才可以完成,雖然過程有些辛苦,但也很值得。(回顧上一期)

審核編輯:湯梓紅

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原文標(biāo)題:半導(dǎo)體前端工藝:沉積——“更小、更多”,微細化的關(guān)鍵(下)

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