據(jù)工信部網(wǎng)站11月16日消息,工信部公開征集了《半導體設(shè)備 集成電路制造用干法刻蝕設(shè)備測試方法》等196個行業(yè)標準、1個行業(yè)標準外文版、38個推薦性國家標準計劃項目的意見。根據(jù)標準化工作的總體安排,公信部將公布目前申請項目批準的《半導體設(shè)備 集成電路制造用干法刻蝕設(shè)備測試方法》等196個行業(yè)標準,《雪蓮養(yǎng)護貼》等1個行業(yè)標準外文版項目和《環(huán)境污染防治設(shè)備術(shù)語》等38個推薦性國家標準計劃項目。截止日期為2023年12月16日。
其中《半導體設(shè)備 集成電路制造用干法刻蝕設(shè)備測試方法》對主要起草單位中國電子科技集團公司第48研究所、中國電子技術(shù)標準化研究院、湖南楚微半導體科技有限公司,中芯國際集成電路制造有限公司,北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司,中微半導體設(shè)備(上海)有限公司,合肥晶合集成電路股份有限公司等。
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
相關(guān)推薦
什么是刻蝕?刻蝕是指通過物理或化學方法對材料進行選擇性的去除,從而實現(xiàn)設(shè)計的結(jié)構(gòu)圖形的一種技術(shù)。蝕刻是半導體制造及微納加工工藝中相當重要的步驟,自1948年發(fā)明晶體管到現(xiàn)在,在微電子學和半導體領(lǐng)域
發(fā)表于 12-20 16:03
?130次閱讀
離子轟擊的不均勻性 干法刻蝕通常是物理作用和化學作用相結(jié)合的過程,其中離子轟擊是重要的物理刻蝕手段。在刻蝕過程中,離子的入射角和能量分布可能不均勻. 如果離子入射角在側(cè)壁的不同位置存在差異,那么
發(fā)表于 12-17 11:13
?110次閱讀
在芯片制造過程中的各工藝站點,有很多不同的工藝名稱用于除去晶圓上多余材料,如“清洗”、“刻蝕”、“研磨”等。如果說“清洗”工藝是把晶圓上多余的臟污、particle、上一站點殘留物去除掉,“刻蝕
發(fā)表于 12-16 15:03
?293次閱讀
本文簡單介紹了芯片制造過程中的兩種刻蝕方法 ? 刻蝕(Etch)是芯片制造過程中相當重要的步驟。 刻蝕主要分為干刻蝕和濕法
發(fā)表于 12-06 11:13
?217次閱讀
本文介紹了干法刻蝕側(cè)壁彎曲的原因及解決方法。 什么是側(cè)壁彎曲? 如上圖,是典型的干法刻蝕時,側(cè)壁彎曲的樣子,側(cè)壁為凹形或凸形結(jié)構(gòu)。而正常的側(cè)壁幾乎是垂直的,角度接近 90°。 ?什么原因?qū)е铝藗?cè)壁
發(fā)表于 12-03 11:00
?196次閱讀
本文介紹晶圓表面溫度對干法刻蝕的影響 表面溫度對干法刻蝕的影響主要包括:聚合物沉積,選擇性,光刻膠流動、產(chǎn)物揮發(fā)性與刻蝕速率,表面形貌等。 ? 聚合物沉積?:工藝過程中產(chǎn)生的聚合物會在
發(fā)表于 12-03 10:48
?226次閱讀
? ? ? 本文介紹了干法刻蝕工藝的不同參數(shù)。 干法刻蝕中可以調(diào)節(jié)的工藝參數(shù)有哪些?各有什么作用? 1,溫度:晶圓表面溫度,溫度梯度 晶圓表面溫度:控制刻蝕表面的化學反應(yīng)速率和產(chǎn)物的揮發(fā)性 溫度梯度
發(fā)表于 12-02 09:56
?313次閱讀
本文介紹了為什么干法刻蝕又叫低溫等離子體刻蝕。 什么是低溫等離子體刻蝕,除了低溫難道還有高溫嗎?等離子體的溫度?? ? 等離子體是物質(zhì)的第四態(tài),并不是只有半導體制造或工業(yè)領(lǐng)域中才會有等離子體
發(fā)表于 11-16 12:53
?219次閱讀
主要介紹幾種常用于工業(yè)制備的刻蝕技術(shù),其中包括離子束刻蝕(IBE)、反應(yīng)離子刻蝕(RIE)、以及后來基于高密度等離子體反應(yīng)離子的電子回旋共振等離子體刻蝕(ECR)和電感耦合等離子體
發(fā)表于 10-18 15:20
?547次閱讀
今天我們要一起揭開一個隱藏在現(xiàn)代電子設(shè)備背后的高科技秘密——干法刻蝕工藝。這不僅是一場對微觀世界的深入探秘,更是一次對半導體芯片制造藝術(shù)的奇妙之旅。
發(fā)表于 08-26 10:13
?1335次閱讀
工信部正積極有序推進衛(wèi)星互聯(lián)網(wǎng)業(yè)務(wù)準入制度改革;8月6日工信部印發(fā)《關(guān)于創(chuàng)新信息通信
發(fā)表于 08-08 15:19
?1259次閱讀
據(jù)悉,為了推動鋰離子電池行業(yè)向更高層次發(fā)展,工業(yè)和信息化部電子信息司已對現(xiàn)行的《鋰離子電池行業(yè)規(guī)范條件》和《鋰離子電池行業(yè)規(guī)范公告管理辦法》進行了修改并
發(fā)表于 05-08 16:01
?362次閱讀
刻蝕可以分為濕法刻蝕和干法刻蝕。濕法刻蝕各向異性較差,側(cè)壁容易產(chǎn)生橫向刻蝕造成刻蝕偏差,通常用于
發(fā)表于 04-12 11:41
?4950次閱讀
。常見的干法刻蝕設(shè)備有反應(yīng)離子刻蝕機(RIE)、電感耦合等離子體刻蝕機(ICP)、磁性中性線等離子體刻蝕機(NLD)、離子束
發(fā)表于 01-20 10:24
?7347次閱讀
為引導產(chǎn)業(yè)發(fā)展、樹立標桿效應(yīng),工信部綜合評審相關(guān)企業(yè)的技術(shù)、環(huán)保和安全狀況,2023年11月,工信部發(fā)布就符合《新能源汽車廢舊動力蓄電池綜合
發(fā)表于 01-18 16:28
?1186次閱讀
評論