基于掩膜的傳統(tǒng)光刻技術(shù),其成本正呈指數(shù)級攀升。而無掩膜的電子束光刻技術(shù)提供了補(bǔ)充性選項(xiàng),可以幫助芯片制造商更快地將產(chǎn)品推向市場。電子束光刻技術(shù)采用電子束在硅晶圓上生成圖案,無需等待掩膜制造過程,進(jìn)而可以更快提升生產(chǎn)速度。此外,鑒于能夠在單個(gè)晶圓上進(jìn)行圖案設(shè)計(jì)迭代,迭代的學(xué)習(xí)周期也得以縮短。
Multibeam Corporation(以下稱Multibeam)是電子束光刻領(lǐng)域的關(guān)鍵創(chuàng)新企業(yè)。其總部位于美國加州圣克拉拉,由硅谷工程協(xié)會(huì)名人堂成員David K. Lam博士創(chuàng)立。Multibeam首先開發(fā)出了適用于晶圓廠量產(chǎn)的電子束光刻技術(shù)。它不僅具有直刻能力,并且兼具高分辨率、高效率等特性。Multibeam的多列電子束光刻(MEBL)系統(tǒng)與新思科技CATS數(shù)據(jù)準(zhǔn)備軟件相集成,為芯片設(shè)計(jì)及制造等流程開辟了一條更輕松、更快捷的道路。
Multibeam和新思科技對行業(yè)發(fā)展方向有著相似的愿景,我們可以攜起手來,共同加快創(chuàng)新周期。我們的光刻系統(tǒng)搭載了新思科技軟件,能夠助力芯片開發(fā)者和制造商加速生產(chǎn)更高性能的芯片,從而滿足當(dāng)今計(jì)算密集型應(yīng)用的需求。
Lam博士
董事長兼首席執(zhí)行官
Multibeam
無掩膜電子束光刻技術(shù)的適用場景
傳統(tǒng)光刻技術(shù)仍然是業(yè)內(nèi)的標(biāo)準(zhǔn)工藝。在大批量生產(chǎn)芯片時(shí),它能夠以精度較高且相對經(jīng)濟(jì)的方式在晶圓上生成圖案。然而,根據(jù)所需掩膜板的制作復(fù)雜程度,生產(chǎn)周期可能會(huì)變得很長。而使用無掩膜電子束光刻技術(shù)時(shí),只需將文件輸入機(jī)器,就能在晶圓上開始直刻的過程。
專用芯片和先進(jìn)封裝是人工智能(AI)和無線通信等高增長應(yīng)用的重要推動(dòng)力量。與目前可供制造商使用的其他光刻技術(shù)相比,高效率電子束光刻技術(shù)大大縮短了產(chǎn)品上市時(shí)間。Multibeam高效率電子束系統(tǒng)的另一項(xiàng)關(guān)鍵特性是可以快速生成多種設(shè)計(jì)迭代。
實(shí)現(xiàn)芯片的先進(jìn)集成
Multibeam的無掩膜電子束系統(tǒng)基于多個(gè)微型電子束陣列,為半導(dǎo)體制造領(lǐng)域開辟了諸多從未有過的可能性。通過縮短學(xué)習(xí)周期,無掩膜電子束系統(tǒng)可以做到:
讓芯片開發(fā)者進(jìn)行晶圓級實(shí)驗(yàn),定制晶圓上的各個(gè)芯片,探索新的想法
立即實(shí)施設(shè)計(jì)變更,無需等待新掩膜板的制造
實(shí)現(xiàn)設(shè)計(jì)反饋與驗(yàn)證之間的快速迭代
在設(shè)計(jì)通過驗(yàn)證后立即快速投產(chǎn)
此外,MEBL系統(tǒng)還通過先進(jìn)的芯片集成加快系統(tǒng)級優(yōu)化。通過使用次世代中介層,芯片開發(fā)者將能夠在每個(gè)封裝中裝入更多芯片,同時(shí)還可提高芯片間帶寬并降低每比特傳輸功耗,這一切對于制造AI芯片都至關(guān)重要。
新思科技CATS軟件是實(shí)現(xiàn)先進(jìn)集成的關(guān)鍵組件。Multibeam將CATS軟件集成到自身系統(tǒng)中,并憑借其在無掩膜和有掩膜芯片生產(chǎn)流程中的超強(qiáng)靈活性,實(shí)現(xiàn)了無縫集成??蓴U(kuò)展的CATS軟件整體解決方案會(huì)將復(fù)雜的芯片設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為機(jī)器可讀的指令,供電子束、激光和多光束掩膜寫入機(jī)使用。CATS軟件整體解決方案提供了多個(gè)數(shù)據(jù)準(zhǔn)備模塊,可用于數(shù)據(jù)分割、數(shù)據(jù)驗(yàn)證、掩膜規(guī)則檢查、掩膜糾錯(cuò)、作業(yè)卡片組處理、層操作和數(shù)據(jù)大小調(diào)整。此外,為改進(jìn)校正功能,它還集成了新思科技Proteus全芯片掩膜綜合智能制造解決方案,從而提高了分辨率以改進(jìn)良率,并支持大容量、高吞吐量的數(shù)據(jù)傳輸。
新思科技的一大目標(biāo)是讓芯片開發(fā)者能夠更輕松、更快捷地將產(chǎn)品推向市場,同時(shí)減少錯(cuò)誤并縮短周期,而這也是我們技術(shù)的主要優(yōu)勢。此外,新思科技讓我們進(jìn)一步完善了電子束專業(yè)知識,領(lǐng)略了全新思維方式,進(jìn)而打造一個(gè)可在生產(chǎn)環(huán)境中良好運(yùn)行的系統(tǒng)。
Ken MacWilliams博士
總裁
Multibeam
首款系統(tǒng)于今年春季上市
Multibeam于今年春季率先推出集成了新思科技技術(shù)的MEBL系統(tǒng)。Multibeam團(tuán)隊(duì)正不斷開發(fā)并改進(jìn)自己的技術(shù),同時(shí)也非常期待與新思科技進(jìn)一步加強(qiáng)協(xié)作。
芯片制造商采用我們的Multibeam系統(tǒng)后,能夠縮短周期、提高良率并提早解決問題,從而快速探索新的設(shè)計(jì)方案,實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品差異化。與新思科技攜手合作,我們將幫助芯片開發(fā)者和芯片制造商更快速、更高效地將新想法變?yōu)楝F(xiàn)實(shí)。
Ken MacWilliams博士
總裁
Multibeam
我們很高興能與Multibeam合作,積極探尋新的契機(jī),以幫助客戶推動(dòng)光刻技術(shù)的進(jìn)步。我們的產(chǎn)品組合包含了覆蓋流片操作各個(gè)階段的全套工具,例如Proteus、CATS、SmartMRC和S-Litho,能夠?yàn)镸ultibeam等合作伙伴創(chuàng)造獨(dú)特的附加價(jià)值,顯著提升其創(chuàng)新硬件工具的能力。
Kostas Adam博士
掩膜解決方案開發(fā)副總裁
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原文標(biāo)題:無需掩膜,更快創(chuàng)新!新思科技x Multibeam推出業(yè)界首款可量產(chǎn)電子束光刻系統(tǒng)
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