HDI 技術(shù)的應(yīng)用,有效地降低了PCB板材的厚度、體積,同時(shí)也大大增加了立體布線的密度,成品板在某種意義上來說已不再嚴(yán)格地遵循元件面(Component side )和焊接面(Solder side)的區(qū)分,而是在板的兩面都密密麻麻地裝配著元件。但HDI 板因?yàn)橐笥型?、埋孔、盲孔、盲過孔(Blindvia)等來實(shí)現(xiàn)高密度的內(nèi)部線路連接,因而其制作工藝相對比較復(fù)雜,需多次層壓、鉆孔、孔金屬化和圖形電鍍等。
埋盲孔多層板體積雖小,但它卻是現(xiàn)代高技術(shù)的結(jié)晶,本文通過對一款HDI盲孔線路板的制造工藝的介紹來說明它所蘊(yùn)含的高技術(shù)含量和復(fù)雜的制作工藝。
本文所介紹的為一款八層鍍金手機(jī)板,所有孔內(nèi)銅厚最小1mil, 同時(shí)有阻抗要求,板厚0.8mm,有盲孔、通孔和盲過孔要求,其中1到4層和5到8層分別有盲孔,孔徑0.25mm,1到2層和7到8層有微盲孔,孔徑為4mil,具體結(jié)構(gòu)見下圖所示。
上圖所示:一到四層和五到八層分別有盲孔,并且第四和第五層分別有線路,所以要制作出兩個(gè)4層板L1-L4和L5-L8,然后再將兩個(gè)4層板層壓在一起,具體的工藝流程為:
開料--內(nèi)層曝光蝕刻--形成 L2-L3,L6-L7的內(nèi)層板--內(nèi)層AOI---黑化-層壓形成L1-L4和L5-L8兩個(gè)4層板---鉆孔(形成L1-L4和L5-L8的盲孔)--孔金屬化---外層貼膜曝光(形成L4和L5的線路圖形)---顯影--圖形電鍍-外層蝕刻---外層AOI(L4 和L5)— 內(nèi)層黑化--層壓(形成 L1-L8)--- 鉆孔-外層貼膜曝光(給Blindvia開窗)-顯影蝕刻去膜--AOI--鉆Blind via(L1和L2之 間,L7 和L8之間)--孔金屬化--外層貼膜曝光(形成L1和L8線路)-顯影--圖形電鍍-蝕刻-外層AOI-- 絲印阻焊---絲印字符---鍍金---外形加工---電測試--包裝。
重點(diǎn)管控:
1.內(nèi)層曝光蝕刻工序只有一次,主要要形成L2和L3、L6和 L7兩個(gè)內(nèi)層芯板。該工序要特別注意的是,因?yàn)閮蓚€(gè)內(nèi)層板的厚度都很薄,只有5mil, 所以對設(shè)備要求比較高。形成線路時(shí)采用兩面涂覆感光油墨,全自動(dòng)曝光,但主要在蝕刻褪膜部分,注意藥水和水洗噴嘴的壓力不能太大,因?yàn)楫?dāng)銅被蝕刻后絕緣層的厚度只有2.2 mil, 如壓力較大則有可能破板或者將板卷進(jìn)傳動(dòng)滾輪中形成堵塞,所以開動(dòng)機(jī)器后一定要做首板通過檢查,確保不會(huì)因卡板而導(dǎo)致報(bào)廢。另外考慮到板材較薄在加工中伸縮較大和后工序的工作方便,內(nèi)層板必須要使用同一供應(yīng)商的板材。
2.該板須經(jīng)3 次鉆孔,第一第二次鉆孔為機(jī)械鉆孔,第三次為激光鉆孔,鉆孔文件為:
2.1盲孔 L1-L4和L5-L8鉆孔文件,孔徑0.25mm。
2.2通孔L1-L8鉆孔文件。
2.3微盲孔L1-L2和 L7-L8鉆孔文件,孔徑4.0mil。
3.該板的制作需要兩次孔金屬化,第一次為L1-L4和L5-L8的孔金屬化,因?yàn)榘遄颖?12mil) 并且考慮到鍍銅厚度的均勻性,故采用鈀活化后脈沖電鍍的方式沉銅,而 L1-L8(31mil) 采用化學(xué)沉銅的方 式孔金屬化。
4.該板在制作過程中須經(jīng)過四次圖形轉(zhuǎn)移,第一次為內(nèi)層圖形轉(zhuǎn)移,目的要形成第二第三層和第六第七層的線路圖形,感光膜采用涂覆 感光油墨的方法,第二次圖形轉(zhuǎn)移在外層工序,目的要形成第四和第五層的圖形線路,第三次圖形轉(zhuǎn)移在外層工序,要形成第一和第 八層的 圖形線路,第四次圖形轉(zhuǎn)移亦在外層,但使用的是負(fù)性底片(也可在內(nèi)層做,具體根據(jù)設(shè)備情況確定),目的要給第一和第二層之間、第七和第八層之間的微盲孔開窗,因?yàn)镃O?激光打孔機(jī)不能打通金屬銅層,所以首先要把打孔位的銅蝕刻掉,然后才可打孔。
審核編輯 黃宇
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