空間光調(diào)制器是一種可以在外部信號的控制下實時改變?nèi)肷涔獾恼穹?、相位及偏振態(tài)的動態(tài)元器件。將空間光調(diào)制器應用在激光加工領(lǐng)域,可以實現(xiàn)動態(tài)光束整形,并且具有可編程、易操控、易集成、低損耗、刷新頻率高等優(yōu)勢。并且隨著空間光調(diào)制器損傷閾值的提升,激光加工的應用領(lǐng)域也不斷擴大,例如超表面結(jié)構(gòu)制造、微流體、3D打印、光存儲、材料表面改性、量子點等領(lǐng)域。
論文信息
本文提出了一種利用空間光調(diào)制器(SLM)輔助1064nm納秒激光器制備不同厚度鉻(Cr)薄膜上的不同雜化周期結(jié)構(gòu)的有效技術(shù)。對于1000nm的Cr薄膜,通過將SLM生成的周期調(diào)制光柵(MG)與激光誘導的周期表面結(jié)構(gòu)(LIPSS)相結(jié)合,可以制備出規(guī)則的雙尺度MG-LIPSS,其形態(tài)特征受激光通量、有效脈沖數(shù)和MG周期控制。由于MG和LIPSS的衍射效應,MG-LIPSS圖案表面表現(xiàn)出生動的各向異性結(jié)構(gòu)顏色。與MG-LIPSS相比,由于更薄的薄膜具有更顯著的熱應力,因此在200nm的Cr薄膜上形成了由MG和裂紋(MGC)組成的復雜的周期結(jié)構(gòu)。雖然MGC的裂紋是隨機分布的,但MGC具有一定透光率的長階特性,可以作為具有衍射效應的透射光柵。這些結(jié)果表明,基于SLM的光場調(diào)制激光加工為在Cr薄膜上制備大面積周期結(jié)構(gòu)提供了一種高效、經(jīng)濟、可控的方法。此外,薄膜厚度的變化可以用于探索具有特定性能的混合微觀結(jié)構(gòu),從而用于不同的應用,如光學元件和防偽措施等。
部分實驗過程及實驗結(jié)果
光源采用商業(yè)納秒激光器,提供1064nm、50ns的線偏振脈沖激光,實驗時重頻設置為3kHz,對應的激光器最大輸出功率為0.45W。激光器出射的光通過4×擴束鏡,從而使光斑充滿液晶光閥靶面,實驗中使用的是相位型空間光調(diào)制器(FSLM-2K70-VIS),像素大小為8um,分辨率為1920×1080。經(jīng)空間光調(diào)制器調(diào)制后通過透鏡作用在樣品上,通過CCD實時監(jiān)測加工過程,確保樣品表面始終在加工平面。采用Gerchberg Saxton算法生成全息圖。
圖1 (a)實驗裝置(相位型空間光調(diào)制器,型號:FSLM-2K70-VIS);(b)原始光束和調(diào)制光束。
圖2 1000nmCr薄膜隨著激光通量的增加,MG-LIPSS在4個不同的調(diào)制周期Γ下形成的MG-LIPSS的SEM形貌。比例尺:5 μm。
圖3 (a)-(c) 1000nmCr薄膜在不同有效脈沖數(shù)下形成的MG-LIPSS的掃描電鏡形貌。比例尺:5 μm。
圖4 (a)0.27J/cm2和(e)0.32 J/cm2分別對應不同激光照射下MG-LIPSS結(jié)構(gòu)的AFM測量。(b)和(f)分別對應于(a)和(e)的SEM圖像的二維快速傅里葉變換。(c)和(d)對應于(a)的MG-LIPSS的LIPSS和MG橫截面的二維圖。(g)和(h)對應于(e)的MG-LIPSS的LIPSS和MG橫截面的二維圖。比例尺:5 μm。
圖5 (a-b)在不同位置的兩個不同激光通量F下制備的MG-LIPSS的微拉曼光譜。(c-f)在不同激光通量F下制備的MG-LIPSS的EDS結(jié)果(收集點位于圖中紅色標記處)。比例尺:5 μm。
圖6 對于200nm的Cr薄膜,在不同加工條件下形成的MGC的掃描電鏡形貌。(a) Γ2=8 μm,F(xiàn)=0.16 J/cm2。(b) Γ3=9 μm,F(xiàn)=0.16 J/ cm2。(c) Γ4=13 μm,F(xiàn)=0.16 J/cm2。(d) Γ4= 13 μm,F(xiàn)=0.30 J/cm2。比例尺:5 μm。
圖7 MG-LIPSS的彩虹結(jié)構(gòu)顏色。(a)在1000nmCr薄膜上形成的MG-LIPSS混合周期結(jié)構(gòu)的白光衍射示意圖,由LIPSS和MG分別在兩個正交方向上產(chǎn)生彩虹結(jié)構(gòu)顏色。(b)“中山大學”的漢字圖案用1000nm的Cr涂覆在直徑為100 mm的玻璃晶片上。(c)處理后的樣品。(d)和(e)分別對“中山大學”圖案和龍圖案進行著色。(f)和(g)MG-LIPSS“3″為對不同觀察角度的彩虹色結(jié)構(gòu)顏色的不同呈現(xiàn)。比例尺:5mm。
本實驗中所采用空間光調(diào)制器的參數(shù)規(guī)格如下:
型號 |
FSLM-2K70-P03 |
調(diào)制類型 |
相位型 |
液晶類型 |
反射式 | 灰度等級 |
8位,256階 |
分辨率 |
1920×1080 | 像元大小 | 8μm |
有效區(qū)域 |
0.69" 15.36mm×8.64mm |
填充因子 | 87% |
平整度(PV) |
校準前:5λ 校準后:1λ |
平整度(RMS) |
校準前:1/3λ 校準后:1/10λ |
刷新頻率 | 60Hz | 響應時間 | ≤30ms |
光學利用率 | 75%@1064nm | 配向角 | 0° |
相位范圍 |
2π@1064nm Max:2.1π@1064nm |
光譜范圍 | 450nm-1100nm |
Gamma校正 | 支持 | 相位校正 | 支持(808nm/1064nm) |
線性度 | ≥99% | 相位穩(wěn)定度(RMS) | ≤0.13π |
損傷閾值 |
連續(xù): ≤20W/cm2(無水冷) ≤100W/cm2(水冷) |
衍射效率 |
1064nm 60%@ L8 66%@ L16 75%@ L32 |
為進一步延伸空間光調(diào)制器在工業(yè)方面的應用,特研制推出高損傷、方形大靶面空間光調(diào)制器:
型號 |
FSLM-2K73-P03HP |
調(diào)制類型 |
相位型 |
液晶類型 |
反射式 | 灰度等級 |
8位,256階 |
分辨率 |
2048×2048 | 像元大小 | 6.4μm |
有效區(qū)域 |
0.73" 13.1mm×13.1mm |
填充因子 | 93% |
刷新頻率 | 60 Hz(8bit)* | 輸入電源 | 12V 3A |
配向角 |
0° |
數(shù)據(jù)接口 | HDMI |
相位范圍 |
2π@1064nm Max:3.5π@1064nm |
光譜范圍 | 1000nm-1100nm |
光學利用率 | 95%±5%@1064nm | 響應時間 | ≤30ms |
Gamma校正 | 支持 | 相位校正 | 支持(1064nm) |
線性度 | ≥99% | 相位穩(wěn)定度(RMS) | <0.03π |
損傷閾值 |
連續(xù): ≤1000W/cm2(無水冷) 脈沖:峰值功率密度(10GW/cm2) |
衍射效率 |
1064nm 56%@ L8 72%@ L16 85%@ L32 |
寫在最后
隨著激光加工技術(shù)的深入發(fā)展和對高精度、高效率加工指標需求的增加,空間光調(diào)制器作為一種關(guān)鍵的光學元器件,將發(fā)揮著重要作用??臻g光調(diào)制器在激光加工中的應用并不局限于單一的技術(shù)領(lǐng)域,其廣泛的應用前景涵蓋了多個領(lǐng)域,例如工業(yè)制造、科學研究、光電子學等,為激光加工技術(shù)的進步和創(chuàng)新提供了強大的支持和推動力,有望推動激光加工技術(shù)向更高級、更復雜的方向發(fā)展。
文章鏈接:https://doi.org/10.1016/j.optlaseng.2024.108216
審核編輯 黃宇
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