RM新时代网站-首页

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

光刻機(jī)的工作原理和分類

中科院半導(dǎo)體所 ? 來(lái)源:半導(dǎo)體工程師 ? 2024-11-24 09:16 ? 次閱讀

本文介紹了光刻機(jī)芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。

光刻機(jī):芯片制造的關(guān)鍵角色

光刻機(jī)在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位,被譽(yù)為芯片制造的核心設(shè)備,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。芯片的加工過(guò)程對(duì)精度要求極高,光刻機(jī)通過(guò)一系列復(fù)雜的技術(shù)手段,將光束透射過(guò)畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖。越復(fù)雜的芯片,線路圖的層數(shù)越多,就需要更精密的光刻機(jī)。 從成本上看,在整個(gè)集成電路的制造過(guò)程中,光刻一般會(huì)耗費(fèi)總成本的 30%,耗費(fèi)時(shí)間約占整個(gè)硅片工藝的 40%-60%。光刻機(jī)的制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ),能夠掌握這項(xiàng)技術(shù)的廠商寥寥無(wú)幾。

光刻機(jī)的工作原理

光刻技術(shù)的基礎(chǔ):

光刻技術(shù)在整個(gè)芯片制造工藝中起著舉足輕重的作用。光刻技術(shù)就如同芯片制造的基石,沒(méi)有它,芯片的生產(chǎn)將無(wú)從談起。 光刻技術(shù)主要通過(guò)光復(fù)印和刻蝕工藝將芯片設(shè)計(jì)圖案印進(jìn)晶圓。光復(fù)印工藝是經(jīng)曝光系統(tǒng)將預(yù)制在掩模版上的器件或電路圖形按所要求的位置,精確傳遞到預(yù)涂在晶片表面或介質(zhì)層上的光致抗蝕劑薄層上。而刻蝕工藝則利用化學(xué)或物理方法,將抗蝕劑薄層未掩蔽的晶片表面或介質(zhì)層除去,從而在晶片表面或介質(zhì)層上獲得與抗蝕劑薄層圖形完全一致的圖形。集成電路各功能層是立體重疊的,因而光刻工藝總是多次反復(fù)進(jìn)行,例如大規(guī)模集成電路要經(jīng)過(guò)約 10 次光刻才能完成各層圖形的全部傳遞。

具體工作流程:

光刻的工作流程十分復(fù)雜且精細(xì)。首先是硅片表面清洗烘干,確保硅片表面的潔凈度,為后續(xù)的工藝步驟奠定基礎(chǔ)。接著進(jìn)行涂底,為旋涂光刻膠做準(zhǔn)備。然后,在硅片上旋涂光刻膠,光刻膠有正性和負(fù)性之分,其作用是在后續(xù)的曝光過(guò)程中,通過(guò)光的照射使光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而形成所需的電路圖形。 軟烘環(huán)節(jié)可以使光刻膠中的溶劑揮發(fā)一部分,增強(qiáng)光刻膠與硅片的附著力。之后進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)曝光,這一步要求極高的精度,將掩模版上的電路圖形精確地投影到涂有光刻膠的硅片上。后烘進(jìn)一步固化光刻膠,提高其穩(wěn)定性。顯影過(guò)程中,被光照到的地方光刻膠會(huì)被溶解,沒(méi)有光照到的地方光刻膠保留下來(lái),從而在光刻膠上刻蝕出所需圖形。硬烘則是為了增強(qiáng)光刻膠的抗刻蝕能力。最后進(jìn)行激光刻蝕,將光刻膠上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。 對(duì)于復(fù)雜的芯片,由于線路圖的層數(shù)更多,需要更精密的曝光控制過(guò)程?,F(xiàn)在先進(jìn)的芯片有 30 多層,每一層的光刻都需要與其前一層進(jìn)行精準(zhǔn)的對(duì)齊,以保證上下層薄膜圖案的相對(duì)位置與設(shè)計(jì)位置相吻合。這就要求光刻機(jī)在每一次光刻過(guò)程中,都要嚴(yán)格控制各種參數(shù),確保精度和穩(wěn)定性。

光刻機(jī)的種類

光刻機(jī)按照用途可以分為用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)、用于封裝的光刻機(jī)和用于 LED 制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。 目前用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)主要分為 EUV 光刻機(jī)和 DUV 光刻機(jī)。DUV 是深紫外線,EUV 是非常深的紫外線。DUV 使用的是極紫外光,而 EUV 光刻機(jī)則采用波長(zhǎng)更短的極紫外光,能夠?qū)崿F(xiàn)更高的分辨率和更小的制程。 用于封裝的光刻機(jī)主要應(yīng)用于高密度異構(gòu)集成領(lǐng)域,具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光視場(chǎng)等特點(diǎn)。 用于 LED 制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)主要用于制造 LED 芯片。它通過(guò)將特定的圖案投影到 LED 晶圓上,實(shí)現(xiàn)對(duì) LED 芯片的制造。 總之,不同用途的光刻機(jī)在各自的領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。 END

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 芯片制造
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    621

    瀏覽量

    28803
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1150

    瀏覽量

    47378
  • EUV
    EUV
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    605

    瀏覽量

    86004

原文標(biāo)題:探秘光刻機(jī):芯片制造的核心利器

文章出處:【微信號(hào):bdtdsj,微信公眾號(hào):中科院半導(dǎo)體所】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    光刻機(jī)工藝的原理及設(shè)備

    實(shí)際過(guò)程肯定沒(méi)這么簡(jiǎn)單,上圖是ASML典型的沉浸式步進(jìn)掃描光刻機(jī)為例來(lái)看下光刻機(jī)是怎么工作的——首先是激光器發(fā)光,經(jīng)過(guò)矯正、能量控制器、光束成型裝置等之后進(jìn)入光掩膜臺(tái),上面放的就設(shè)計(jì)公司做好的光掩膜
    發(fā)表于 07-07 14:22

    光刻機(jī)是干什么用的

    !光刻機(jī)本身的原理,其實(shí)和相機(jī)非常相似,同學(xué)們可以把光刻機(jī)就想成是一臺(tái)巨大的單反相機(jī)。相機(jī)的原理,是被攝物體被光線照射所反射的光線,透過(guò)相機(jī)的鏡頭,將影像投射并聚焦在相機(jī)的底片(感光元件)上,如此便可
    發(fā)表于 09-02 17:38

    魂遷光刻,夢(mèng)繞芯片,中芯國(guó)際終獲ASML大型光刻機(jī) 精選資料分享

    據(jù)羊城晚報(bào)報(bào)道,近日中芯國(guó)際從荷蘭進(jìn)口的一臺(tái)大型光刻機(jī),順利通過(guò)深圳出口加工區(qū)場(chǎng)站兩道閘口進(jìn)入廠區(qū),中芯國(guó)際發(fā)表公告稱該光刻機(jī)并非此前盛傳的EUV光刻機(jī),主要用于企業(yè)復(fù)工復(fù)產(chǎn)后的生產(chǎn)線擴(kuò)容。我們知道
    發(fā)表于 07-29 09:36

    光刻機(jī)結(jié)構(gòu)組成及工作原理

    本文以光刻機(jī)為中心,主要介紹了光刻機(jī)分類光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)組成、光刻機(jī)的性能指標(biāo)、光刻機(jī)的工藝流程
    發(fā)表于 12-19 13:33 ?16.4w次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>結(jié)構(gòu)組成及<b class='flag-5'>工作原理</b>

    一文詳解光刻機(jī)工作原理

    光刻機(jī)(Mask Aligner) 又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等。
    的頭像 發(fā)表于 10-16 10:33 ?31.4w次閱讀
    一文詳解<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的<b class='flag-5'>工作原理</b>

    光刻機(jī)工作原理以及關(guān)鍵技術(shù)

    導(dǎo)讀:光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù),在整個(gè)芯片制造工藝中,幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施,都離不開光刻的技術(shù)。 光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 12-23 13:34 ?8344次閱讀

    光刻機(jī)原理介紹

    光刻機(jī),是現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花,是半導(dǎo)體行業(yè)中的核心技術(shù)。 ? ? ? ?可能有很多人都無(wú)法切身理解光刻機(jī)的重要地位,光刻機(jī),是制造芯片的機(jī)器,要是沒(méi)有了光刻機(jī),我們就沒(méi)有辦法造出芯片,自
    的頭像 發(fā)表于 07-07 14:31 ?12.8w次閱讀

    刻蝕機(jī)能替代光刻機(jī)

    刻蝕機(jī)不能代替光刻機(jī)光刻機(jī)的精度和難度的要求都比刻蝕機(jī)高出很多,在需要光刻機(jī)加工的時(shí)候刻蝕機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 02-05 15:47 ?4.3w次閱讀

    光刻機(jī)干啥用的

    光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機(jī),有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機(jī),還有用于封裝的光刻機(jī)。光刻機(jī)是采用類似照片沖印的技術(shù),
    的頭像 發(fā)表于 02-05 16:03 ?8.9w次閱讀

    euv光刻機(jī)可以干什么 光刻工藝原理

    光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)
    發(fā)表于 07-06 11:03 ?7644次閱讀

    duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是什么

    目前,光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻
    的頭像 發(fā)表于 07-10 14:53 ?8.3w次閱讀

    euv光刻機(jī)原理是什么

    光刻機(jī)的原理是接近或接觸光刻,通過(guò)無(wú)限接近,將圖案復(fù)制到掩模上。直寫光刻是將光束聚焦到一個(gè)點(diǎn)上,通過(guò)移動(dòng)工作臺(tái)或透鏡掃描實(shí)現(xiàn)任意圖形處理。投影光刻
    的頭像 發(fā)表于 07-10 15:28 ?1.6w次閱讀

    一文詳解光刻機(jī)工作原理

      是的!光刻機(jī)本身的原理,其實(shí)和相機(jī)非常相似,同學(xué)們可以把光刻機(jī)就想成是一臺(tái)巨大的單反相。機(jī)。相機(jī)的原理,是被攝物體被光線照射所反射的光線,透過(guò)相機(jī)的鏡頭,將影像投射并聚焦在相機(jī)的底片(感光元件)上, 如此便可把被攝物體的影像
    發(fā)表于 11-21 10:03 ?7847次閱讀

    全面解析***結(jié)構(gòu)及工作原理

    光刻光刻機(jī) ?對(duì)準(zhǔn)和曝光在光刻機(jī)(Lithography Tool)內(nèi)進(jìn)行。 ?其它工藝在涂膠顯影機(jī)(Track)上進(jìn)行。 光刻
    發(fā)表于 12-19 09:28 ?705次閱讀
    全面解析***結(jié)構(gòu)及<b class='flag-5'>工作原理</b>

    光刻機(jī)的發(fā)展歷程及工藝流程

    光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)
    發(fā)表于 03-21 11:31 ?6215次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的發(fā)展歷程及工藝流程
    RM新时代网站-首页