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      ArF

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      ArF光刻膠材料是集成電路制造領(lǐng)域的關(guān)鍵材料，可用于90nm - 7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝，主要應(yīng)用于高端芯片制造。

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      ArF簡(jiǎn)介

      　　ArF光刻膠材料是集成電路制造領(lǐng)域的關(guān)鍵材料，可用于90nm - 7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝，主要應(yīng)用于高端芯片制造。ArF光刻膠一直是半導(dǎo)體制程領(lǐng)域性能最可靠、使用最廣泛的光刻光源。

      　　半導(dǎo)體光刻膠根據(jù)曝光光源波長(zhǎng)不同來分類，分別是紫外全譜（300～450nm）、G 線（436nm）、 I 線（365nm）、深紫外（DUV，包括248nm和193nm）和極紫外（EUV），相對(duì)應(yīng)于各曝光波長(zhǎng)的光刻膠也由此而生。通常來說，波長(zhǎng)越短，加工分辨率越佳。

      　　目前半導(dǎo)體用光刻膠，主要分為5個(gè)種類：g線光刻膠，i線光刻膠，KrF光刻膠，ArF光刻膠和EUV光刻膠。

      　　g線、i線、ArF、KrF等，是光刻膠不同產(chǎn)品類型的名稱，無需對(duì)名稱意義做過多深究，只需記住它們的名字，了解它們代表的技術(shù)水平就行。

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