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      標(biāo)簽　>　DUV

      DUV

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      duv就是深紫外光，主要是指波長(zhǎng)小于i-line365nm的紫外光，一般工業(yè)上有193arf和248nmkrf的的激光。用的都是化學(xué)增幅型的光刻膠。

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      DUV百科

      　　duv就是深紫外光，主要是指波長(zhǎng)小于i-line365nm的紫外光，一般工業(yè)上有193arf和248nmkrf的的激光。用的都是化學(xué)增幅型的光刻膠。

      　　duv主要利用光的折射原理。其中，浸沒式光刻機(jī)會(huì)在投影透鏡與晶圓之間，填入去離子水，使得193nm的光波等效至134nm。

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      duv知識(shí)

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      duv技術(shù)

      淺談不同階段光刻機(jī)工作方式

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      在曝光過程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機(jī)的縮放比為1:1，分辨率可達(dá)到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離，隨著曝光次數(shù)...

      2024-03-08 標(biāo)簽：芯片制造光刻光刻機(jī) 1278 0

      光刻掩膜版保護(hù)膜常見的類型有哪些？

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      掩膜版保護(hù)膜，mask pellicle，是一種透明的薄膜，在生產(chǎn)中覆蓋在掩膜版的表面。顧名思義，主要對(duì)掩膜版起物理與化學(xué)保護(hù)作用。

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      光刻工藝的基本步驟 ***的整體結(jié)構(gòu)圖

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      光照條件的設(shè)置、掩模版設(shè)計(jì)以及光刻膠工藝等因素對(duì)分辨率的影響都反映在k?因子中，k?因子也常被用于評(píng)估光刻工藝的難度，ASML認(rèn)為其物理極限在0.25，...

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      2023-10-30 標(biāo)簽：芯片設(shè)計(jì)光刻EUV 2724 0

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      2023-10-17 標(biāo)簽：ledDUV 1143 0

      DUV與EUV***的芯片加工流程詳解

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      SSMB就產(chǎn)生了和FEL類似的“微聚束”，但是關(guān)鍵還加上了“穩(wěn)態(tài)”。FEL不是穩(wěn)態(tài)，電子團(tuán)在波蕩器里自由互相作用，最后發(fā)出強(qiáng)光完事。SSMB是讓電子束在...

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      CMOS集成電路芯片加工技術(shù)的幾個(gè)主要發(fā)展發(fā)生在20世紀(jì)90年代。

      2023-07-28 標(biāo)簽：半導(dǎo)體接觸電阻LDD接口 1687 0

      芯片制造和傳統(tǒng)IC封裝的生產(chǎn)有何不一樣

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      DUV是深紫外線，EUV是極深紫外線。從制程工藝來(lái)看，DUV只能用于生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。而只有EUV能滿足7nm晶圓制造，并且還可以向5nm、3n...

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      國(guó)產(chǎn)***EUV與DUV的分類

      DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithogr...

      2023-03-20 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVDUV 1.3萬(wàn) 0

      剖析***的種類與原理

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      2023-03-03 標(biāo)簽：芯片集成電路半導(dǎo)體 7971 0

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      duv資訊

      2023年全球五大晶圓廠設(shè)備制造商收入下滑1%，ASML躋身首位

      其中，ASML及應(yīng)用材料兩家企業(yè)收入呈現(xiàn)正向增長(zhǎng)，而泛林集團(tuán)（Lam Research）、東京電子（TEL）和科磊（KLA）則分別下滑25%、22%和8...

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      荷蘭政府撤銷ASML光刻機(jī)出口許可 中方回應(yīng)美停止對(duì)華供光刻機(jī)

      在10-11月份中國(guó)進(jìn)口ASML的光刻機(jī)激增10多倍后，美國(guó)官員聯(lián)系了荷蘭政府。荷蘭外交發(fā)言人表示，出口許可證是根據(jù)荷蘭國(guó)家安全逐案評(píng)估的。

      2024-01-03 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASMLDUV 1116 0

      用于日盲光通信的高效DUV微型LED和新型光電探測(cè)器的開發(fā)

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      三五族氮化物半導(dǎo)體材料，包括氮化鎵，氮化鋁，氮化銦及其它們的合金，以其獨(dú)特的直接帶隙半導(dǎo)體特性和從0.6eV到6.2eV連續(xù)可調(diào)禁帶寬度特點(diǎn)，非常適用于...

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      ASML監(jiān)事會(huì)擬任命Christophe Fouquet為總裁兼首席執(zhí)行官

      asml首席執(zhí)行官Peter Wennink表示：“很高興能獲得到明年4月為止領(lǐng)導(dǎo)asml的強(qiáng)有力的接班人。christophe在asml工作了15年，...

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      阿斯麥的主要收入來(lái)源仍然是系統(tǒng)銷售，占據(jù)了公司收入的80%。收入同比增長(zhǎng)，主要得益于下游客戶對(duì)ArF產(chǎn)品需求的增加，近兩個(gè)季度ArFi產(chǎn)品的收入占比已經(jīng)...

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      美國(guó)要求荷蘭ASML進(jìn)一步限制DUV***出口到中國(guó)

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      奮斗不息！ ? 美國(guó)芯片法案-2022 1 對(duì)華限制 關(guān)注半導(dǎo)體行業(yè)的小伙伴們都知道，前不久美國(guó)商務(wù)部工業(yè)安全局（BIS）對(duì)中國(guó)實(shí)施了芯片出口管制措施，...

      2023-10-20 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVASML 1535 0

      各種光刻技術(shù)你都了解嗎？

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      當(dāng)制程節(jié)點(diǎn)演進(jìn)到5nm時(shí)，DUV和多重曝光技術(shù)的組合也難以滿足量產(chǎn)需求了，EUV光刻機(jī)就成為前道工序的必需品了，沒有它，很難制造出符合應(yīng)用需求的5nm芯...

      2023-10-13 標(biāo)簽：集成電路光刻機(jī)EUV 2192 0

      ASML：7nm高端DUV***仍可向中國(guó)出口！

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      根據(jù)ASML官網(wǎng)信息顯示，該公司目前在售的主流浸沒式DUV光刻機(jī)產(chǎn)品共有三款，分別是TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2...

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      ASML***出口中國(guó)，拿到許可

      該公司必須根據(jù) 6 月份與美國(guó)達(dá)成的一項(xiàng)協(xié)議引入的許可制度，尋求批準(zhǔn)出口一些最先進(jìn)的技術(shù)——美國(guó)以安全問題為由，試圖通過這種方式阻礙北京制造自己的芯片的能力。

      2023-09-01 標(biāo)簽：芯片光刻機(jī)ASML 1384 0

      ASML：年底前可以向中國(guó)出貨受限芯片制造設(shè)備

      據(jù)彭博社31日?qǐng)?bào)道，美國(guó)對(duì)中國(guó)限制尖端技術(shù)出口的努力正在損害asml的利益。中國(guó)是asml的第三大市場(chǎng)。美國(guó)政府敦促荷蘭政府禁止asml在沒有許可證的情...

      2023-09-01 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASMLDUV 773 0

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      duv數(shù)據(jù)手冊(cè)

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        電子發(fā)燒友網(wǎng)于2006年10月成立， 是一個(gè)以電子技術(shù)知識(shí)為核心，以工程師為主導(dǎo)的平臺(tái)。致立于為中國(guó)電子工程師的電子產(chǎn)品設(shè)計(jì)等做出最大貢獻(xiàn)，促進(jìn)中國(guó)電子科技的穩(wěn)步發(fā)展。
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