說(shuō)到芯片,估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么,但說(shuō)到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒(méi)有光刻機(jī)的話,就無(wú)法生產(chǎn)芯片,因此每個(gè)人都知道光刻機(jī)對(duì)芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機(jī)是哪個(gè)國(guó)家的呢?
euv光刻機(jī)許多國(guó)家都有,理論上來(lái)說(shuō),芯片強(qiáng)國(guó)的光刻機(jī)也應(yīng)該很強(qiáng),但是最強(qiáng)的光刻機(jī)制造強(qiáng)國(guó),不是美國(guó)、韓國(guó)等芯片強(qiáng)國(guó),而是荷蘭。
EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺(tái)系統(tǒng)三大核心技術(shù)。
目前,在全世界45nm以下高端光刻機(jī)市場(chǎng),荷蘭ASML的市場(chǎng)份額超過(guò)80%。 由于領(lǐng)先的技術(shù),ASML目前擁有非常大的市場(chǎng)份額。許多世界知名芯片制造商ASML的客戶,比如英特爾、三星、TSMC、SK海力士。
本文綜合百度百科、小薛同學(xué)、CSDN
審核編輯:何安
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
相關(guān)推薦
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)作為芯片制造過(guò)程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV
發(fā)表于 10-17 00:13
?2745次閱讀
據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日?qǐng)?bào)道,Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司,已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個(gè)階段進(jìn)行安裝,設(shè)備安裝預(yù)計(jì)在
發(fā)表于 12-20 13:48
?46次閱讀
? 本文介紹了用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過(guò)去半個(gè)多世紀(jì),摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長(zhǎng)卡在193nm,芯片制程縮小至6
發(fā)表于 11-24 11:04
?436次閱讀
? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī):芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位,被譽(yù)為芯片制
發(fā)表于 11-24 09:16
?974次閱讀
1. 三星將于2025 年初引進(jìn)High NA EUV 光刻機(jī),加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報(bào)道,三星電子正準(zhǔn)備在2025年初引入其首款High NA EUV(極紫外)光刻機(jī)設(shè)備,這標(biāo)
發(fā)表于 10-31 10:56
?807次閱讀
近日,日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)(OIST)發(fā)布了一項(xiàng)重大研究報(bào)告,宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外(EUV)光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越了當(dāng)前半導(dǎo)體制造業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)界限,其設(shè)計(jì)的光刻設(shè)備能夠采用更小巧的
發(fā)表于 08-03 12:45
?984次閱讀
據(jù)外媒報(bào)道,目前,俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測(cè)試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長(zhǎng)瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺(tái)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī),作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線
發(fā)表于 05-28 15:47
?769次閱讀
在全球四大先進(jìn)制程代工巨頭(包括臺(tái)積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)。
發(fā)表于 05-27 14:37
?635次閱讀
disable)臺(tái)積電相應(yīng)機(jī)器,而且還可以包括最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)(EUV)。 這就意味著阿斯麥(ASML)留了后門,隨時(shí)有能力去遠(yuǎn)程癱瘓制造芯片的光刻機(jī)。 要知道我國(guó)大陸市場(chǎng)已經(jīng)連續(xù)三個(gè)季度成為阿斯麥(ASML)最大市場(chǎng),而
發(fā)表于 05-22 11:29
?5756次閱讀
據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計(jì)劃在此階段使用最新的High-N
發(fā)表于 05-17 17:21
?975次閱讀
ASML公司近日宣布發(fā)貨了第二臺(tái)High NA EUV光刻機(jī),并且已成功印刷出10納米線寬圖案,這一重大突破標(biāo)志著半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的技術(shù)革新向前邁進(jìn)了一大步。
發(fā)表于 04-29 10:44
?806次閱讀
英特爾的研發(fā)團(tuán)隊(duì)正致力于對(duì)這臺(tái)先進(jìn)的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行細(xì)致的校準(zhǔn)工作,以確保其能夠順利融入未來(lái)的生產(chǎn)線。
發(fā)表于 04-22 15:52
?916次閱讀
光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)
發(fā)表于 03-21 11:31
?6217次閱讀
3 月 13 日消息,光刻機(jī)制造商 ASML 宣布其首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機(jī)型將帶來(lái)更高的生產(chǎn)效率。 ▲ ASML 在 X 平臺(tái)上的相關(guān)動(dòng)態(tài)
發(fā)表于 03-14 08:42
?544次閱讀
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
發(fā)表于 03-04 17:19
?4693次閱讀
評(píng)論