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碳化硅(SiC)何以還未能征服市場(chǎng)

Carol Li ? 來(lái)源:電子發(fā)燒友網(wǎng) ? 作者:Carol Li ? 2018-12-13 11:26 ? 次閱讀

碳化硅(SiC)是目前發(fā)展最成熟的寬禁帶半導(dǎo)體材料,世界各國(guó)對(duì)SiC的研究非常重視,紛紛投入大量的人力物力積極發(fā)展,目前國(guó)際上已經(jīng)量產(chǎn)碳化硅(SiC)器件的廠商有ROHM、Infineon和Cree,近日消息,國(guó)內(nèi)比亞迪也已成功研發(fā)可用于電動(dòng)車的SiCMOSFET

與Si功率器件相比,SiC功率器件的優(yōu)勢(shì)在哪里?SiC功率器件的市場(chǎng)空間有多大?前段時(shí)間,在2018年ROHM科技展的SiC功率器件研討會(huì)上,ROHM技術(shù)專家謝健佳先生表示,未來(lái)SiC功率器件在太陽(yáng)能發(fā)電、數(shù)據(jù)中心服務(wù)站和新能源汽車(包括純電動(dòng)和混動(dòng))等領(lǐng)域有很大的應(yīng)用空間。

謝健佳先生將SiC和Si材料做了詳細(xì)對(duì)比,首先碳化硅的擊穿場(chǎng)強(qiáng)是硅的10倍,所以碳化硅可以做更高電壓的產(chǎn)品,或者說(shuō)做更被損耗的產(chǎn)品;其次碳化硅的電子飽和遷移速度是硅的10倍,可以用來(lái)做更高頻率的產(chǎn)品;第三碳化硅的熱傳導(dǎo)率、融點(diǎn)和禁帶間隙(eV)是硅的三倍??偨Y(jié)來(lái)說(shuō),就是碳化硅具有高溫、高頻和耐壓的特性。

從功率半導(dǎo)體的應(yīng)用分布來(lái)看,SiC MOSFET應(yīng)用在頻率和功率比較大的范圍,而Si MOSFET頻率可以很高,功率卻不大,Si IGBT功率很大,頻率卻不高,也就是說(shuō)SiC MOSFET可以兼顧頻率和功率。

同是第三代半導(dǎo)體材料的氮化鎵,與碳化硅相比,氮化鎵的不夠耐壓,謝健佳先生介紹到,市面上有一個(gè)產(chǎn)品工作范圍在650V以下,在實(shí)驗(yàn)室的時(shí)候,最高也只能達(dá)到1200V,但是碳化硅功率器件在650、1200、1700、3300、4500、6600V的電壓下都可以工作,所以如果在650V電壓以下范圍的話,氮化鎵可以應(yīng)用在比碳化硅功率器件頻率更高的場(chǎng)景上。

以5000W的DC/DC電源為例,謝健佳先生介紹到,從SiIGBT方案改成SiC MOSFET方案后,DC/DC電源體積縮小了1/7、重量減輕了1/5、輸出功率從3kW到5kW,頻率從25kHz變大到160kHz,因?yàn)镈C/DC電源的頻率可以很高,所以碳化硅很有優(yōu)勢(shì)。

在研討會(huì)上,謝健佳先生介紹到,羅姆已經(jīng)開(kāi)發(fā)出采用溝槽結(jié)構(gòu)的第3代SiC MOSFET,與第2代平面結(jié)構(gòu)相比,該器件實(shí)現(xiàn)了更低電阻的導(dǎo)通電阻,降低了所有設(shè)備的功率損失。針對(duì)產(chǎn)品緊缺的問(wèn)題,謝健佳先生表示,公司正在建新工廠和產(chǎn)線,預(yù)計(jì)2025的產(chǎn)能將是2017年的16倍。

碳化硅(SiC)器件雖然很多性能優(yōu)于硅基產(chǎn)品,然而其成本卻比硅基產(chǎn)品高,這也致使碳化硅(SiC)器件目前市場(chǎng)滲透率極低,想必在ROHM等廠商對(duì)技術(shù)和產(chǎn)能的投入下,未來(lái)碳化硅(SiC)器件的整體市場(chǎng)使用率將會(huì)逐漸擴(kuò)大,相關(guān)研究機(jī)構(gòu)資料也預(yù)計(jì),未來(lái)技術(shù)進(jìn)步將會(huì)推動(dòng)碳化硅(SiC)成本快速下降,中長(zhǎng)期來(lái)看碳化硅(SiC)器件將會(huì)是功率半導(dǎo)體的市場(chǎng)主流產(chǎn)品。

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