電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李寧遠(yuǎn)）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻機(jī)和光刻技術(shù)。而眾所周知，EUV光刻機(jī)產(chǎn)能有限而且成本高昂，業(yè)界一直都在探索不完全依賴于EUV光刻機(jī)來生產(chǎn)高端芯片的技術(shù)和工藝。納米
2024-03-09 00:15:00
2912 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李彎彎）近期，各大視頻平臺(tái)瘋傳一條消息，稱清華大學(xué)EUV項(xiàng)目，把ASML的光刻機(jī)巨大化，實(shí)現(xiàn)了光刻機(jī)國產(chǎn)化，并表示這個(gè)項(xiàng)目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地，還在視頻中配了下面這張圖，表示圖片
2023-09-20 08:56:502579 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李寧遠(yuǎn)）提及芯片制造技術(shù)，首先想到的自然是光刻機(jī)和光刻技術(shù)。眾所周知在芯片行業(yè)，光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰(zhàn)也最昂貴的一項(xiàng)工藝步驟。在光刻機(jī)的支持下，摩爾定律
2023-07-16 01:50:153008 
光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒步進(jìn)式投影光刻機(jī)和極紫外式光刻機(jī)。
2024-03-21 11:31:4142 
感謝您一直以來對博達(dá)智聯(lián)自主研發(fā)的遠(yuǎn)程透傳工具的支持與信任！為提升廣大用戶的操作體驗(yàn)，博達(dá)智聯(lián)團(tuán)隊(duì)經(jīng)過不懈努力，不斷優(yōu)化產(chǎn)品功能，將透傳工具進(jìn)行了全面的升級，即刻發(fā)出全新版本。相比于之前的版本
2024-03-19 08:33:3842 
ASML 官網(wǎng)尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁面。 除了正在研發(fā)的 High-NA EUV 光刻機(jī) Twinscan EXE 系列，ASML 也為其 NXE 系列傳統(tǒng)數(shù)值孔徑
2024-03-14 08:42:346 
STM32CubeMX安裝最新版本V6.9,但Motor Control Workbench生成項(xiàng)目工程，總是顯示STM32CubeMX not found？
2024-03-14 07:28:38
據(jù)荷蘭《電訊報(bào)》3月6日報(bào)道，因荷蘭政府的反移民政策傾向，光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）正計(jì)劃搬離荷蘭。
2024-03-08 14:02:15179 在曝光過程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機(jī)的縮放比為1:1，分辨率可達(dá)到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離，隨著曝光次數(shù)的增加，會(huì)引起掩模版和光刻膠膜層損壞、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788 
近日，光刻機(jī)巨頭ASML傳出可能因荷蘭政府的反移民政策傾向而考慮遷離本國的消息，這令業(yè)界嘩然。據(jù)悉，荷蘭政府為阻止這一可能發(fā)生的變故，已專門成立了由首相馬克·呂特親自掛帥的“貝多芬計(jì)劃”特別工作組。
2024-03-07 15:36:51209 1.STMCWB最新版本是否支持絕對值編碼器？只能通過MCLIB庫手動(dòng)增加嗎？
2.基于ST FOC庫的磁編碼器（SPI出絕對角度信息）只跑速度環(huán)和電流環(huán)最簡單
2024-03-07 06:11:23
英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺(tái)高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機(jī)而成為新聞焦點(diǎn)。到目前為止，英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機(jī)的晶圓廠，據(jù)報(bào)道它們的售價(jià)約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01162 
ASML在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中扮演著舉足輕重的角色，其光刻機(jī)技術(shù)和市場地位對于全球半導(dǎo)體制造廠商來說都具有重要意義。
2024-03-05 11:26:00123 光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
2024-03-04 17:19:18400 根據(jù)資料顯示，在2012年，為了支持ASML EUV光刻機(jī)的研發(fā)與商用，并獲得EUV光刻機(jī)的優(yōu)先供應(yīng)，在2012年，英特爾、臺(tái)積電、三星均斥資入股了ASML。2012年7月，英特爾入股ASML獲得15%股權(quán)，并出資10億美元支持研發(fā)。
2024-02-23 17:27:59562 、新增TTS機(jī)箱模塊、新增地圖顯示模塊等。一大波超實(shí)用的新功能，一起來看看吧！體驗(yàn)新功能建議您將軟件更新至最新版本TSMaster下載鏈接01工具箱相關(guān)更新工具箱模
2024-02-19 12:12:58288 
Takeishi向英國《金融時(shí)報(bào)》表示，公司計(jì)劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機(jī)FPA-1200NZ2C，并補(bǔ)充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月，該公司表示該設(shè)備的價(jià)格將比ASML的EUV機(jī)器便宜一位數(shù)。 佳能表示，與利用光曝光電路圖案的傳統(tǒng)光刻技術(shù)不同，納米壓印光刻不需要光源，利用
2024-02-01 15:42:05270 
光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備，廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中，光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
2024-01-29 09:37:24359 
來源：AIot工業(yè)檢測，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 隨著芯片需求的不斷增長，芯片制造商正加大采購晶圓廠設(shè)備的力度，以提高產(chǎn)能。作為EUV光刻機(jī)制造商，ASML受益于這一趨勢，其2023
2024-01-26 09:20:12409 關(guān)于光刻機(jī)，大家還記得美國荷蘭日本的三方協(xié)議嗎？來回憶一下。 隨著芯片在各個(gè)領(lǐng)域的重要性不斷提升，人們對芯片制造的關(guān)注也日益增加。 但半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈非常復(fù)雜，不僅僅涉及到底層的架構(gòu)設(shè)計(jì)，還需要通過
2024-01-17 17:56:59292 linux上更新了最新版本的SDK軟件后，執(zhí)行編譯出現(xiàn)了
riscv-nuclei-elf-objcopy -O verilog “NICE_Test.elf” “NICE_Test.verilog
2024-01-10 06:34:37
在10-11月份中國進(jìn)口ASML的光刻機(jī)激增10多倍后，美國官員聯(lián)系了荷蘭政府。荷蘭外交發(fā)言人表示，出口許可證是根據(jù)荷蘭國家安全逐案評估的。
2024-01-03 15:22:24553 1. ASML 聲明：2050 及2100 光刻機(jī)出口許可證已被部分撤銷 ? ASML日前發(fā)表聲明，稱荷蘭政府最近部分撤銷了此前頒發(fā)的NXT:2050i and NXT:2100i光刻機(jī)在2023
2024-01-02 11:20:33934 
如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元，并且 2024 年 10 個(gè)光刻機(jī)的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39406
總的來說，最新版本的端云一體化模板確實(shí)方便了開發(fā)者自行搭建項(xiàng)目，極大地簡化了開發(fā)者在這上面的時(shí)間浪費(fèi)。同時(shí)對應(yīng)用功能的開發(fā)搭建也縮短了不少時(shí)間。
期待后續(xù)更新更多的開發(fā)模板把！
2023-12-05 14:57:39
和法規(guī)的更新正在進(jìn)行。預(yù)計(jì)2023年秋季，GS1電子產(chǎn)品代碼（EPC）全球Gen2規(guī)范將推出新版本（Gen2v3），以進(jìn)一步提高RAIN RFID的部署更快、更準(zhǔn)確。 新版本Gen2v3的推出是為了適應(yīng)
2023-11-30 15:40:04183 
三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
2023-11-23 18:13:02579 
雖然目前在光刻機(jī)市場，還有尼康和佳能這兩大供應(yīng)商，但是這兩家廠商的產(chǎn)品主要都是被用于成熟制程芯片的制造，全球市場份額僅有10%左右，ASML一家占據(jù)了90%的市場份額，并壟斷了尖端的EUV光刻機(jī)的供應(yīng)。
2023-11-23 16:14:45485 
就國別來看，來自荷蘭的進(jìn)口額暴漲了超過6倍。預(yù)估其中大部分為荷蘭光刻機(jī)龍頭艾ASML的光刻機(jī)產(chǎn)品。來自日本的半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口額成長約40%、來自美國的進(jìn)口額則僅增長20%。
2023-11-22 17:09:02419 EUV曝光是先進(jìn)制程芯片制造中最重要的部分，占據(jù)總時(shí)間、總成本的一半以上。由于這種光刻機(jī)極為復(fù)雜，因此ASML每年只能制造約60臺(tái)，而全球5家芯片制造商都依賴ASML的EUV光刻機(jī)，包括英特爾、美光、三星、SK海力士、臺(tái)積電。目前，AMSL約有70%的EUV光刻機(jī)被臺(tái)積電購買。
2023-11-22 16:46:56383 據(jù)悉，谷歌Titan Security Key的最新版本已經(jīng)問世，可以與蘋果、微軟、谷歌和其他許多公司支持推出的新的無密碼密鑰技術(shù)一起使用。從現(xiàn)在開始，谷歌商店將推出兩個(gè)新版本的鑰匙，分別為
2023-11-20 16:55:35354 關(guān)鍵詞：TouchGFX,版本升級 目錄預(yù)覽 1、引言 2、TouchGFX軟件升級安裝 3、工程項(xiàng)目由舊版本遷移到新版本TouchGFX 4、軟件升級遇到的常見問題 01 引言 隨著
2023-11-01 17:15:02312 EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光，涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會(huì)將圖案打印到晶圓上，用于微芯片設(shè)計(jì)過程中的后續(xù)步驟。
2023-10-30 12:22:55615 stc12c5a60s2單片機(jī)，下載程序失敗，用的是最新版本的STC-ISP，出現(xiàn)以下提示，該怎么辦呢？求各位大佬指點(diǎn)！
. 下次冷啟動(dòng)后系統(tǒng)時(shí)鐘源為外部晶體振蕩器
. 當(dāng)前的時(shí)鐘頻率
2023-10-25 06:35:06
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）隨著雙碳目標(biāo)的提出，越來越多的行業(yè)應(yīng)用開始注意到能耗問題，尤其是在半導(dǎo)體制造設(shè)備上。就拿我們常常提及的EUV光刻機(jī)來說，就是一個(gè)不折不扣的耗電大戶，結(jié)合光刻半導(dǎo)體
2023-10-25 01:14:001061 據(jù)外媒透露，ASML的指控基于中國違規(guī)拆解了從荷蘭進(jìn)口的ASML光刻機(jī)。中國方面對此感到不滿，認(rèn)為這是對其科技進(jìn)步的不公平限制。顯然，我們正站在一場關(guān)于技術(shù)保護(hù)、市場份額爭奪的戰(zhàn)場之上。
2023-10-20 15:51:43480 當(dāng)制程節(jié)點(diǎn)演進(jìn)到5nm時(shí)，DUV和多重曝光技術(shù)的組合也難以滿足量產(chǎn)需求了，EUV光刻機(jī)就成為前道工序的必需品了，沒有它，很難制造出符合應(yīng)用需求的5nm芯片，即使不用EUV能制造出一些5nm芯片，其整個(gè)生產(chǎn)線的良率也非常低，無法形成大規(guī)模的商業(yè)化生產(chǎn)。
2023-10-13 14:45:03834 
新版本GUI Guider發(fā)布 作為恩智浦研發(fā)的一款用戶友好、跨平臺(tái)、支持多語言的嵌入式人機(jī)交互應(yīng)用開發(fā)工具，GUI Guider一經(jīng)推出就受到了廣大開發(fā)者的喜愛。為了更好地回饋大家的厚愛，GUI
2023-10-13 08:10:031445 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）隨著歐美韓等國家均已引進(jìn)EUV光刻機(jī)，為其晶圓代工廠提供最先進(jìn)的工藝支持，日本雖然半導(dǎo)體制造水平這些年來提升不大，卻也計(jì)劃引進(jìn)EUV光刻機(jī)來打破這一困局，重回行業(yè)一流
2023-10-10 01:13:001437 近20年來，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術(shù)挑戰(zhàn)。
2023-09-14 09:45:12562 
早在2015年，中國的長春光機(jī)所就成功研發(fā)出了EUV（極紫外光刻）光刻機(jī)的高精度弧形反射鏡系統(tǒng)。這個(gè)系統(tǒng)的多層層鍍膜面形誤差小于0.1納米，達(dá)到了EUV級光刻機(jī)的標(biāo)準(zhǔn)。這個(gè)成就在國際上已經(jīng)堪稱頂尖水平。
2023-09-11 17:16:489826 EUV光刻膠材料是光敏物質(zhì)，當(dāng)受到EUV光子照射時(shí)會(huì)發(fā)生化學(xué)變化。這些材料在解決半導(dǎo)體制造中的各種挑戰(zhàn)方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用，包括提高靈敏度、控制分辨率、減少線邊緣粗糙度（LER）、降低釋氣和提高熱穩(wěn)定性。
2023-09-11 11:58:42349 
ASML是歐洲最大半導(dǎo)體設(shè)備商，主導(dǎo)全球光刻機(jī)設(shè)備市場，光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造關(guān)鍵步驟，但高數(shù)值孔徑（High NA）EUV，Peter Wennink指有些供應(yīng)商提高產(chǎn)能及提供適當(dāng)技術(shù)遇到困難，導(dǎo)致延誤。但即便如此，第一批產(chǎn)品仍會(huì)在年底推出。
2023-09-08 16:54:10713 P系列直線電機(jī)是一種具有鐵芯的高推力直線電機(jī)。它具有很高的推力密度和較低的停止力。峰值推力可達(dá)450NM峰值加速度可達(dá)5G。它是TPA機(jī)器人的一種高性能的直接驅(qū)動(dòng)線性運(yùn)動(dòng)臺(tái)。常用于高精度直線電動(dòng)機(jī)
2023-09-04 16:14:38
光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造行業(yè)的“心臟”，也是集成電路制造過程中不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備。盡管國在半導(dǎo)體領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)展，但在光刻機(jī)的自主研發(fā)方面仍面臨諸多挑戰(zhàn)。本文旨在分析國產(chǎn)光刻機(jī)研發(fā)中的幾大難點(diǎn)。
2023-08-30 09:42:062096 
體驗(yàn)。歡迎開發(fā)者了解并升級使用，積極反饋寶貴建議、參與貢獻(xiàn)，共同促進(jìn)4.0版本的成熟。 為了方便社區(qū)開發(fā)者了解新版本能力，我們準(zhǔn)備了版本上新內(nèi)容介紹及相關(guān)文檔資源，快來體驗(yàn)吧~ 新增和增強(qiáng)的特性 ArkUI ??支持命名路由的能力，借助此能力可針對不同頁面設(shè)置差異化的切換動(dòng)效。 API參考：
2023-08-28 12:05:07592 了解新版本能力，我們準(zhǔn)備了版本上新內(nèi)容介紹及相關(guān)文檔資源，快來體驗(yàn)吧~ 新增和增強(qiáng)的特性 ArkUI ??支持命名路由的能力，
2023-08-24 21:10:04419 光刻機(jī)有半導(dǎo)體工業(yè)“皇冠上的明珠“之稱，是高速生產(chǎn)芯片所需要的最關(guān)鍵和最復(fù)雜的設(shè)備之一（一臺(tái)光刻機(jī)有10萬個(gè)組件）。目前全世界的高端光刻機(jī)被荷蘭公司ASML壟斷（中低端產(chǎn)品美國、日本和中國均能生產(chǎn)），而絕大部分的組件供應(yīng)商又被美國控制。
2023-08-21 16:09:33472 EC-Master協(xié)議棧是一個(gè)經(jīng)過精心設(shè)計(jì)和優(yōu)化的主站協(xié)議棧產(chǎn)品，方便客戶朋友更好地完成EtherCAT主站控制器的開發(fā)工作，支持在不同的嵌入式或非嵌入式(實(shí)時(shí))操作系統(tǒng)上運(yùn)行?，F(xiàn)迎來最新版本V3.2更新
2023-08-18 14:00:00749 
EUV掩膜，也稱為EUV掩?；?b class="flag-6" style="color: red">EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進(jìn)光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進(jìn)技術(shù)，用于制造具有更小特征尺寸和增強(qiáng)性能的下一代半導(dǎo)體器件。
2023-08-07 15:55:02396 在 Oracle，我們不斷尋找方法來改進(jìn)產(chǎn)品，以更好地滿足您的需求。我們很高興地推出 MySQL 創(chuàng)新版（Innovation）和長期支持版（LTS，Long-Term Support），這是 MySQL 版本模型中的一個(gè)重要改進(jìn)。
2023-08-01 16:41:25435 
隨著制程工藝的進(jìn)步，DRAM內(nèi)存芯片也面臨著CPU/GPU一樣的微縮難題，解決辦法就是上EUV光刻機(jī)，但是設(shè)備實(shí)在太貴，現(xiàn)在還要榨干DUV工藝最后一滴，DDR5內(nèi)存有望實(shí)現(xiàn)單條1TB。
2023-07-31 17:37:07875 
EUV（Extreme Ultraviolet）光刻機(jī)是一種高級光刻設(shè)備，用于半導(dǎo)體制造業(yè)中的微電子芯片生產(chǎn)。EUV光刻機(jī)是目前最先進(jìn)的光刻技術(shù)之一，它采用極端紫外光作為曝光光源，具有更短的波長
2023-07-24 18:19:471095 光刻機(jī)。然而在龐大的光刻機(jī)中，由于包含了生成光、投射光的過程，同時(shí)又要精細(xì)控制光線，自然也就需要一套復(fù)雜無比的光學(xué)系統(tǒng)。 ? EUV 光學(xué)系統(tǒng)唯一指定供應(yīng)商——蔡司 ? 提到蔡司這個(gè)名號大家都不陌生了，小到眼鏡鏡片，大到醫(yī)學(xué)顯
2023-07-14 09:09:031690 
ASML：沒向中國推出特別版光刻機(jī) 就是荷蘭出臺(tái)光刻機(jī)限制出口禁令后ASML給出了回應(yīng)，ASML：沒向中國推出特別版光刻機(jī)。ASML表示ASML一致都遵守所適用的法律條例，并沒有面向中國市場推出
2023-07-07 12:32:371112 光刻機(jī)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要設(shè)備之一。網(wǎng)傳荷蘭ASML（阿斯麥）試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令，向中國推出特別版DUV光刻機(jī)，但ASML據(jù)報(bào)否認(rèn)這一行動(dòng)，并指一直都遵守所適用的法律條例。
2023-07-07 11:50:521351 
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
2023年9月1日生效。 由于美國長期以來一直想盡辦法的限制中國芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，并限制荷蘭ASML向中國出售光刻機(jī)，但是這一點(diǎn)會(huì)促使我們研發(fā)出國產(chǎn)光刻機(jī)，從而打破了這種技術(shù)封鎖。 編輯：黃飛
2023-07-06 17:15:2678105 荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源產(chǎn)品介紹：ISTEQ公司開發(fā)了一種基于激光產(chǎn)生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有極高的亮度和極高的穩(wěn)定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒
2023-07-05 16:16:48
荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源產(chǎn)品介紹：ISTEQ公司開發(fā)了一種基于激光產(chǎn)生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有極高的亮度和極高的穩(wěn)定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒
2023-07-05 16:06:24
ASML強(qiáng)調(diào)，這些新的出口管制條例針對對象為先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng)，并非所有浸潤式DUV光刻系統(tǒng)。ASML表示其EUV光刻系統(tǒng)在此前已經(jīng)受到限制。ASML其他系統(tǒng)的發(fā)運(yùn)未受荷蘭政府管控。
2023-07-03 15:38:34713 荷蘭實(shí)施半導(dǎo)體出口管制 ASML光刻機(jī)DUV系統(tǒng)需要許可證 芯片戰(zhàn)愈演愈烈。荷蘭正式實(shí)施半導(dǎo)體出口管制條款，這將對光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）產(chǎn)生更多影響。ASML的EUV光刻系統(tǒng)在此前已經(jīng)
2023-07-01 17:38:19669 
報(bào)道稱，ASML 量產(chǎn)尖端半導(dǎo)體工藝所需的 EUV 光刻機(jī)。Rapidus 計(jì)劃利用經(jīng)產(chǎn)省提供的補(bǔ)貼，采購 EUV 光刻設(shè)備。IT之家注意到，EUV 光刻機(jī)在全球范圍內(nèi)較為短缺，面臨著臺(tái)積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報(bào)道指出，如果 Rapidus 和 ASML 展開合作，有望強(qiáng)化供應(yīng)鏈。
2023-06-27 16:08:05498 
euv極紫外光刻機(jī)是目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造設(shè)備，用于7納米以下工程的半導(dǎo)體制造。荷蘭對這種尖端設(shè)備實(shí)施出口控制，限制對中國的出口。據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》報(bào)道，日本和荷蘭決定一致控制尖端產(chǎn)品制造設(shè)備的出口是在美國的壓力下做出的決定。
2023-06-26 10:28:08396 因此光刻機(jī)對芯片制造非常重要，它是影響芯片制造質(zhì)量和效率的重要因素。縱觀全球光刻機(jī)市場，荷蘭ASML公司一家獨(dú)大，占據(jù)全球80%的光刻機(jī)市場份額，高端EUV光刻機(jī)的市占比更是達(dá)到100%。
2023-06-20 11:42:271258 技術(shù)升級階段 (2007 至今)：該階段公司技術(shù)不斷升級，推出一系列創(chuàng)新產(chǎn)品， 于 2010 年推出全球首臺(tái) EUV 光刻機(jī) NXE3100，并于 2016 年推出首臺(tái)可量產(chǎn)光刻 機(jī) NXE3600B（2017 年開始上量），由此確立高端光刻機(jī)系統(tǒng)龍頭地位。
2023-06-19 11:27:413484 
M451的NuMicro ICP Programming Tool燒錄工具新版本時(shí)鐘源選項(xiàng)不見了,是否能加上這個(gè)選項(xiàng),沒有外加石英晶振時(shí)無法使用。
2023-06-13 06:00:33
TPT是控制軟件所有開發(fā)階段的完美測試工具，無論您是單元測試、集成測試還是系統(tǒng)測試，TPT都能直觀、靈活地完成這些測試。現(xiàn)在TPT迎來了全新版本——TPT19，那么新版本都有哪些驚喜呢？本期將為大家一一進(jìn)行介紹。
2023-06-12 16:44:02446 
光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對較小。
2023-06-09 10:49:205857 
夠高同樣以3400B來說，該EUV光刻機(jī)的生產(chǎn)效率是每小時(shí)125片晶圓，還不到DUV光刻機(jī)生產(chǎn)效率的一半。
隨機(jī)效應(yīng)嚴(yán)重DUV時(shí)代就存在，但對芯片制造影響不大，因此被芯片代工廠忽略。但在EUV時(shí)代，該問題開始嚴(yán)重影響芯片的良率，隨芯片工藝尺寸越來越小，隨機(jī)效應(yīng)越發(fā)明顯
2023-06-08 15:56:42283 
光刻機(jī)技術(shù)有多難搞？有人將它與核彈相提并論：目前，全球光刻機(jī)已由荷蘭ASML、日本尼康和佳能公司完全壟斷。10nm節(jié)點(diǎn)以下，ASML穩(wěn)穩(wěn)占據(jù)100%的市場，佳能和尼康等同業(yè)競爭對手難以打破這樣的局面
2023-06-08 14:55:0020068 
asml是euv技術(shù)開發(fā)的領(lǐng)先者。asml公司是半導(dǎo)體領(lǐng)域光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)的領(lǐng)頭羊，也是全球市場占有率最大的光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)。2012年，asml推出了世界上第一個(gè)euv試制品，并于2016年推出了euv第一個(gè)商用顯卡制造機(jī)asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:553202 光刻機(jī)需要采用全反射光學(xué)元件，掩模需要采用反射式結(jié)構(gòu)。
這些需求帶來的是EUV光刻和掩模制造領(lǐng)域的顛覆性技術(shù)。EUV光刻掩模的制造面臨著許多挑戰(zhàn)，包括掩?；椎牡蜔崤蛎洸牧系拈_發(fā)、零缺陷襯底拋光、多層膜缺陷檢查、多層膜缺陷修復(fù)等。
2023-06-07 10:45:541008 
極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當(dāng)今使用的最先進(jìn)的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項(xiàng)重要但復(fù)雜的技術(shù)。
2023-06-06 11:23:54688 
上海伯東客戶日本某生產(chǎn)半導(dǎo)體用光刻機(jī)公司, 光刻機(jī)真空度需要達(dá)到 1x10-11 pa 的超高真空, 因?yàn)樵O(shè)備整體較大, 需要對構(gòu)成光刻機(jī)的真空相關(guān)部件進(jìn)行檢漏且要求清潔無油, 滿足無塵室使用要求, 為了方便進(jìn)行快速檢漏, 采購伯東 Pfeiffer 便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 310.
2023-06-02 15:53:52396 
由于美國的干涉，asml的極紫外線光刻機(jī)無法出口到中國，甚至深度紫外線光刻機(jī)也受到了限制。很明顯，美國不會(huì)放松對 EUV光刻機(jī)的出口限制。
2023-06-01 10:43:441552 西門子EDA全球客戶支持部門從2023年3月份開始推出客戶關(guān)懷系列技術(shù)文章。本系列，我們的產(chǎn)品技術(shù)專家將結(jié)合電子系統(tǒng)設(shè)計(jì)軟件的新功能和應(yīng)用熱點(diǎn)進(jìn)行選題，本期主題為新版本HyperLynx VX.2.13速覽，敬請參閱！
2023-05-25 17:37:491807 
新版本kicad中的包含圖層與繪制所有圖層有什么區(qū)別？
2023-05-22 14:31:20
需要明確什么是EUV光刻機(jī)。它是一種采用極紫外線光源進(jìn)行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機(jī)相比，EUV光刻機(jī)可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別，從而實(shí)現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 EUV光刻技術(shù)仍被認(rèn)為是實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關(guān)鍵途徑。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟，預(yù)計(jì)EUV光刻將在未來繼續(xù)推動(dòng)芯片制程的進(jìn)步。
2023-05-18 15:49:041790 
GitHub 項(xiàng)目，他們說它是通過包裝器集成為動(dòng)態(tài)庫 `librpmsg_lite-imx.so`，位于 `BSP/sr/lib/rpmsg_lite `文件夾。
如何獲得為在 Cortex-A53 上運(yùn)行的 QNX 編譯的最新版本？
2023-05-17 06:48:49
支持RT-Thread最新版本的瑞薩RA2E1開發(fā)板終于要大展身手了
2023-05-16 15:30:56464 
新版本持續(xù)為軟件開發(fā)測試帶來系列化的新功能：SIL全面支持DevOps和CI/CT流程中的工具功能、全新的10MB/s總線CANXL和10BASE-T1S解決方案、全新的IO測試硬件
2023-05-12 10:24:054321 
2023年中國光刻機(jī)現(xiàn)狀是什么樣的呢？自從2018年以來，我國開始被美國各種手段制裁，光刻機(jī)被卡脖子，美國不讓荷蘭賣先進(jìn)的光刻機(jī)給我們，這也讓這些年來無數(shù)國人關(guān)注光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)度。
2023-05-10 16:24:1521221 總而言之，
我有一個(gè)在 ESP8266 上使用 painlessMesh 的項(xiàng)目。
已經(jīng)工作了好幾個(gè)月了。
不幸的是，最新版本的 8266 內(nèi)核導(dǎo)致 painlessMesh 編譯錯(cuò)誤。
有沒有一種方法可以在“附加板管理器 URL”中指定舊版本
2023-05-08 08:25:01
本課程基于CadenceAllegroPCB最新版本AllegroX進(jìn)行RK3588實(shí)例項(xiàng)目設(shè)計(jì)，是一個(gè)完整的項(xiàng)目設(shè)計(jì)過程，力求通過實(shí)例項(xiàng)目的操作演示，將軟件新的功能和技巧融入到工程師的設(shè)計(jì)中去
2023-05-06 09:55:50934 
2023年4月9日，OpenAtom OpenHarmony（以下簡稱“OpenHarmony”）3.2 Release的新版本的發(fā)布。相比之前的版本，新版本的系統(tǒng)能力、系統(tǒng)整體性能、穩(wěn)定性和安全性
2023-04-18 15:00:57
作為一家專為本地市場量身打造智能聯(lián)網(wǎng)電視操作系統(tǒng)的領(lǐng)先供應(yīng)商，VIDAA宣布推出其創(chuàng)新平臺(tái)的最新版本。新版本讓各品牌和廠商能夠獲得通常僅應(yīng)用于高端品牌的最先進(jìn)技術(shù)。新版本VIDAA操作系統(tǒng)比以往任何
2023-04-15 19:04:181988 openEuler RISC-V 23.03 創(chuàng)新版本正式發(fā)布。openEuler RISC-V SIG 作為 openEuler 系統(tǒng)在 RISC-V 架構(gòu)上的維護(hù)組織，主要致力于
2023-04-15 13:55:40
近日，openEuler RISC-V 23.03 創(chuàng)新版本正式發(fā)布。openEuler RISC-V SIG 作為 openEuler 系統(tǒng)在 RISC-V 架構(gòu)上的維護(hù)組織，主要致力于
2023-04-14 16:16:24849 我正在使用帶有為 MCUXpresso IDE 生成的 SDK 的 FRDM-K66F 板。我看到當(dāng)我生成 SDK 時(shí)，CMSIS DSP 庫的包含版本是 V1.4.5 b。在 SDK 構(gòu)建過程中如何將其更新到最新版本或選擇替代版本？
2023-04-14 07:10:52
新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開發(fā)，必須通過精心設(shè)計(jì)的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進(jìn)行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn)，imec 最近開發(fā)了一個(gè)新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121164 香港2023年4月12日?/美通社/ --?今天，以"共成長，贏未來"為主題的2023華為港澳伙伴峰會(huì)上，華為面向亞太市場正式發(fā)布華為云Stack 8.2新版本，通過可信的云原生底座、豐富的云服務(wù)
2023-04-12 21:41:48417 
光刻機(jī)是芯片智造的核心設(shè)備之一，也是當(dāng)下尤為復(fù)雜的精密儀器之一。正因?yàn)榇耍?b class="flag-6" style="color: red">荷蘭光刻機(jī)智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機(jī)才會(huì)“千金難求”。 很多人都對光刻機(jī)有所耳聞，但其實(shí)不同光刻機(jī)的用途并不
2023-04-06 08:56:49679 
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