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現在半導體行業(yè)已經經歷了大規(guī)模的改造，這可以歸因于技術的演進和熱情，以滿足不斷增加的市場預期。傳統上，芯片制造 商依賴于在每個芯片的表面添加更多的晶體管。在當今時代，實現這種發(fā)展變得越來越具有挑戰(zhàn)性。制造商正在關注稱為極紫 外(EUV) 光刻的先進制造技術。 EUV光刻可用于制造比以前更小規(guī)模的芯片。該技術可以導致微處理器的發(fā)展，其速度比目前最強大的芯片快十倍。EUV光刻 的本質也可以歸因于當前芯片印刷技術的物理限制。EUV光刻技術可以使制造商打印寬度為01微米的電路，相當于人類頭發(fā)寬 度的1/1000。 EUV光刻利用波長非常短的光來更快、更準確地生成精細圖案。該技術可以生產更小尺寸的晶體管，使處理器和其他電子設備 更強大、更便宜、更節(jié)能。EUV光刻的兩個關鍵市場包括用于智能手機和服務器的處理器，其中尺寸、功率和效率是必不可少 的因素。
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