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光刻機(jī)

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光刻機(jī)技術(shù)

? 本文介紹了用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。芯片制造：光刻技術(shù)的演進(jìn) 過(guò)去半個(gè)多世紀(jì)，摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長(zhǎng)...

2024-11-24 標(biāo)簽：芯片制造光刻機(jī)光刻技術(shù) 433 0

光刻機(jī)的工作原理和分類(lèi)

? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類(lèi)。? ? ? ?? 光刻機(jī)：芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)在芯片制造中占...

2024-11-24 標(biāo)簽：芯片制造光刻機(jī)EUV 945 0

一文看懂光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)及雙工件臺(tái)技術(shù)

? 集成電路作為現(xiàn)代信息技術(shù)的核心與基石，其發(fā)展一直遵循著Intel創(chuàng)始人之一戈登·摩爾提出的摩爾定律：價(jià)格不變時(shí)，約每隔18-24個(gè)月，集成度增加一倍...

2024-11-22 標(biāo)簽：集成電路光刻機(jī) 927 0

光刻機(jī)的基本原理和核心技術(shù)

雖然DUVL機(jī)器可以通過(guò)多重曝光技術(shù)將線寬縮小到7-5納米，但如果要獲得更小的線寬，DUVL已經(jīng)達(dá)到了極限。采用EUV作為光源的極紫外光刻（EUVL）成...

2024-04-25 標(biāo)簽：光源晶體管光刻機(jī) 3392 0

光刻機(jī)的常見(jiàn)類(lèi)型解析

光刻機(jī)有很多種類(lèi)型，但有時(shí)也很難用類(lèi)型進(jìn)行分類(lèi)來(lái)區(qū)別設(shè)備，因?yàn)橛行┓诸?lèi)僅是在某一分類(lèi)下的分類(lèi)。

2024-04-10 標(biāo)簽：攝像機(jī)晶體管光刻機(jī) 1857 0

碳化硅晶片C面與硅面的存在原因探究

Si-Si鍵能大小為 310 kJ/mol，可以理解鍵能是把這兩個(gè)原子拉開(kāi)的力度，鍵能越大，需要拉開(kāi)的力越大。 Si-C鍵原子間距為 1.89 ?，...

2024-03-26 標(biāo)簽：SiC 晶片光刻機(jī) 929 0

光刻機(jī)的發(fā)展歷程及工藝流程

光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EU...

2024-03-21 標(biāo)簽：芯片集成電路芯片制造 6212 0

刻蝕機(jī)是干什么用的刻蝕機(jī)和光刻機(jī)的區(qū)別

刻蝕機(jī)的刻蝕過(guò)程和傳統(tǒng)的雕刻類(lèi)似，先用光刻技術(shù)將圖形形狀和尺寸制成掩膜，再將掩膜與待加工物料模組裝好，將樣品置于刻蝕室內(nèi)，通過(guò)化學(xué)腐蝕或物理磨蝕等方式將...

2024-03-11 標(biāo)簽：芯片制造光刻光刻機(jī) 9854 0

淺談不同階段光刻機(jī)工作方式

在曝光過(guò)程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機(jī)的縮放比為1:1，分辨率可達(dá)到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離，隨著曝光次數(shù)...

2024-03-08 標(biāo)簽：芯片制造光刻光刻機(jī) 1273 0

光刻機(jī)精密碳化硅陶瓷部件揭秘

集成電路制造關(guān)鍵裝備要求零部件材料具有高純度、高致密度、高強(qiáng)度、高彈性模量、高導(dǎo)熱系數(shù)和低熱膨脹系數(shù)等特點(diǎn)，且且結(jié)構(gòu)件要具有極高的尺寸精度和結(jié)構(gòu)復(fù)雜性，...

2024-03-07 標(biāo)簽：集成電路光刻機(jī)光刻技術(shù) 951 0

光刻機(jī)帖子

直線電機(jī)的優(yōu)點(diǎn)是什么

標(biāo)簽：驅(qū)動(dòng)直線電機(jī)光刻機(jī) 2457 0

光刻機(jī)是干什么用的

標(biāo)簽：光刻機(jī) 17317 0

光刻機(jī)工藝的原理及設(shè)備

標(biāo)簽：光刻機(jī) 16364 0

光刻機(jī)資料下載

HVM中用于光刻的EUV源:歷史和前景立即下載

類(lèi)別：IC datasheet pdf 2022-06-13 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV 766 0

EUV照片源立即下載

類(lèi)別：IC datasheet pdf 2022-06-13 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV 328 0

光刻機(jī)E_Pin升降機(jī)構(gòu)的控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)_徐加彥立即下載

類(lèi)別：模擬數(shù)字論文 2017-01-19 標(biāo)簽：光刻機(jī)EPin升降機(jī)構(gòu) 1573 0

高精度光刻機(jī)在大規(guī)模集成電路上的應(yīng)用立即下載

類(lèi)別：半導(dǎo)體技術(shù)論文 2011-10-28 標(biāo)簽：集成電路光刻機(jī) 1932 0

URE-2000系列紫外深度光刻機(jī)立即下載

類(lèi)別：產(chǎn)品手冊(cè) 2009-12-14 標(biāo)簽：光刻機(jī) 1713 0

光刻機(jī)資訊

半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座在 LCD 面板制造曝光機(jī)中的成功應(yīng)用案例

在 LCD（Liquid Crystal Display）面板制造領(lǐng)域，曝光機(jī)是核心設(shè)備之一。它的作用是通過(guò)高精度的光刻技術(shù)，將設(shè)計(jì)好的電路圖案精確地轉(zhuǎn)...

2024-12-20 標(biāo)簽：半導(dǎo)體 lcd 光刻機(jī) 65 0

日本首臺(tái)EUV光刻機(jī)就位

據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日?qǐng)?bào)道，Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司，已經(jīng)開(kāi)始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻...

2024-12-20 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV 39 0

一文看懂光刻技術(shù)的演進(jìn)

光刻機(jī)的分辨率受光源波長(zhǎng)（λ）、工藝因子（k1）和數(shù)值孔徑（NA）三個(gè)主要參數(shù)的影響。根據(jù)瑞利第一公式（CD = k1*λ/NA），這三個(gè)參數(shù)共同決定了...

2024-11-28 標(biāo)簽：芯片制造光刻機(jī) 506 0

一文了解光刻機(jī)成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜技術(shù)

高端光刻機(jī)研發(fā)是一個(gè)系統(tǒng)工程，涉及到各方面技術(shù)的持續(xù)改進(jìn)和突破，在材料科學(xué)方面涉及低吸收損耗石英材料、高純度薄膜材料的開(kāi)發(fā)，在精密光學(xué)領(lǐng)域涉及精密光學(xué)加...

2024-11-21 標(biāo)簽：光學(xué)系統(tǒng)光刻機(jī)半導(dǎo)體集成電路 366 0

光刻機(jī)巨頭拋出重磅信號(hào) 阿斯麥（ASML）股價(jià)大幅上漲

在2024年投資者會(huì)議上，光刻機(jī)巨頭拋出重磅利好；緊接著ASML股價(jià)開(kāi)始大幅拉升；一度上漲超5%。截止收盤(pán)上漲2.9%。阿斯麥在會(huì)議上宣布，預(yù)計(jì)203...

2024-11-15 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASML 5263 0

今日看點(diǎn)丨 2011億元!比亞迪單季營(yíng)收首次超過(guò)特斯拉；三星將于2025年初引進(jìn)High NA EUV光刻機(jī)

1. 三星將于2025 年初引進(jìn)High NA EUV 光刻機(jī)，加快開(kāi)發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報(bào)道，三星電子正準(zhǔn)備在2025年初引入其首款High NA ...

2024-10-31 標(biāo)簽：比亞迪特斯拉光刻機(jī) 807 0

股價(jià)26年來(lái)最大跌幅！ASML后悔了嗎？

ASML因?yàn)榧夹g(shù)故障提前公布第三季度財(cái)報(bào)，其股價(jià)遭遇了26年來(lái)的最大跌幅，ASML后悔了嗎? 北京時(shí)間10月15日(周二)晚間22點(diǎn)左右，ASML提前在...

2024-10-21 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASML 226 0

光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績(jī)暴雷，芯片迎來(lái)新一輪“寒流”？

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/黃山明）作為芯片制造過(guò)程中的核心設(shè)備，光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片（7nm及以下）芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵...

2024-10-17 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASML 2742 0

光刻機(jī)巨頭阿斯麥業(yè)績(jī)爆雷 ASML股價(jià)暴跌16.26%創(chuàng)最大的單日跌幅

在當(dāng)?shù)貢r(shí)間周二，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥公布了一份不及預(yù)期的第三季度業(yè)績(jī)報(bào)告；訂單量環(huán)比下降53%，?業(yè)績(jī)爆雷第一時(shí)間反應(yīng)到ASML公司的股價(jià)暴跌。在美股...

2024-10-16 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASML 804 0

今日看點(diǎn)丨英特爾確認(rèn) ASML 第二臺(tái) High NA EUV 光刻機(jī)完成安裝；榮耀 X60 系列手機(jī)官宣支持衛(wèi)星通信技術(shù)

1. 三星加速先進(jìn)制程投資明年Q1 建成月產(chǎn)能7000 片晶圓2nm 產(chǎn)線 ? 據(jù)業(yè)內(nèi)人士透露，三星電子正在加快建立用于量產(chǎn)2nm工藝的生產(chǎn)設(shè)施。該公...

2024-10-10 標(biāo)簽：英特爾衛(wèi)星通信光刻機(jī) 427 0

光刻機(jī)數(shù)據(jù)手冊(cè)

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Wi-Fi模塊又名串口Wi-Fi模塊，屬于物聯(lián)網(wǎng)傳輸層，功能是將串口或TTL電平轉(zhuǎn)為符合Wi-Fi無(wú)線網(wǎng)絡(luò)通信標(biāo)準(zhǔn)的嵌入式模塊，內(nèi)置無(wú)線網(wǎng)絡(luò)協(xié)議IEEE802.11b.g.n協(xié)議棧以及TCP/IP協(xié)議棧。傳統(tǒng)的硬件設(shè)備嵌入Wi-Fi模塊可以直接利用Wi-Fi聯(lián)入互聯(lián)網(wǎng)，是實(shí)現(xiàn)無(wú)線智能家居、M2M等物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用的重要組成部分。
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UHD是”超高清“的意思UHD的應(yīng)用在電視機(jī)技術(shù)上最為普遍，目前已有不少?gòu)S商推出了UHD超高清電視。
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STEP 7是一款編程軟件，廠商是西門(mén)子，用于西門(mén)子系列工控產(chǎn)品包括SIMATIC S7、M7、C7和基于PC的WinAC的編程、監(jiān)控和參數(shù)設(shè)置，是SIMATIC工業(yè)軟件的重要組成部分。
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熱塑性聚氨酯彈性體又稱(chēng)熱塑性聚氨酯橡膠，簡(jiǎn)稱(chēng)TPU，是一種（AB）n型嵌段線性聚合物，A為高分子量（1000~6000）的聚酯或聚醚，B為含2~12直鏈碳原子的二醇，AB鏈段間化學(xué)結(jié)構(gòu)是二異氰酸酯。熱塑性聚氨酯橡膠靠分子間氫鍵交聯(lián)或大分子鏈間輕度交聯(lián)，隨著溫度的升高或降低，這兩種交聯(lián)結(jié)構(gòu)具有可逆性。
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