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SiGe

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sige技術(shù)

SiGe外延工藝及其在外延生長(zhǎng)、應(yīng)變硅應(yīng)用及GAA結(jié)構(gòu)中的作用

SiGe外延工藝及其在外延生長(zhǎng)、應(yīng)變硅應(yīng)用及GAA結(jié)構(gòu)中的作用

本文介紹SiGe外延工藝及其在外延生長(zhǎng)、應(yīng)變硅應(yīng)用以及GAA結(jié)構(gòu)中的作用。 ? 在現(xiàn)代半導(dǎo)體技術(shù)中,隨著器件尺寸的不斷縮小,傳統(tǒng)的硅基材料逐漸難以滿足高...

2024-12-20 標(biāo)簽:半導(dǎo)體工藝SiGe 100 0

源漏嵌入SiGe應(yīng)變技術(shù)簡(jiǎn)介

源漏嵌入SiGe應(yīng)變技術(shù)簡(jiǎn)介

與通過(guò)源漏嵌入 SiC 應(yīng)變材料來(lái)提高NMOS 的速度類似,通過(guò)源漏嵌入 SiGe 應(yīng)變材料可以提高PMOS的速度。源漏嵌入 SiGe 應(yīng)變技術(shù)被廣泛用...

2024-07-26 標(biāo)簽:SiGePMOS晶格 1380 0

硅雙通道光纖低溫等離子體蝕刻控制與SiGe表面成分調(diào)制

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在過(guò)去的幾年中,MOSFET結(jié)構(gòu)從平面結(jié)構(gòu)改變?yōu)轹捫徒Y(jié)構(gòu)(FinFETs ),這改善了短溝道效應(yīng),并導(dǎo)致更高的驅(qū)動(dòng)電流泄漏。然而,隨著柵極長(zhǎng)度減小到小于...

2024-01-15 標(biāo)簽:等離子體光纖SiGe 360 0

利用氧化和“轉(zhuǎn)化-蝕刻”機(jī)制對(duì)富鍺SiGe的熱原子層蝕刻 引言

利用氧化和“轉(zhuǎn)化-蝕刻”機(jī)制對(duì)富鍺SiGe的熱原子層蝕刻 引言

器件尺寸的不斷縮小促使半導(dǎo)體工業(yè)開發(fā)先進(jìn)的工藝技術(shù)。近年來(lái),原子層沉積(ALD)和原子層蝕刻(ALE)已經(jīng)成為小型化的重要加工技術(shù)。ALD是一種沉積技術(shù)...

2023-06-15 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶圓SiGe 866 0

以CMOS技術(shù)實(shí)現(xiàn)的微型化毫米波傳感器

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大多數(shù)商用雷達(dá)系統(tǒng),特別是高級(jí)駕駛員輔助系統(tǒng) (ADAS) 中的雷達(dá)系統(tǒng),均基于鍺硅(SiGe)技術(shù)。目前的高端車輛都有一個(gè)多芯片SiGe雷達(dá)系統(tǒng)。雖然...

2023-04-07 標(biāo)簽:SiGeadas雷達(dá)系統(tǒng) 1597 0

用毫米波傳感器為汽車帶來(lái)高級(jí)視覺

用毫米波傳感器為汽車帶來(lái)高級(jí)視覺

相對(duì)于基于傳統(tǒng)鍺硅(SiGe)的傳感器技術(shù),TI基于RFCMOS的雷達(dá)傳感器引入了更高的數(shù)字和模擬集成度,以實(shí)現(xiàn)高輸出功率、低功耗(比市面上現(xiàn)有解決方案...

2023-04-07 標(biāo)簽:SiGeAPI雷達(dá)傳感器 1433 0

硅鍺技術(shù)增強(qiáng)無(wú)線電前端性能

硅鍺技術(shù)增強(qiáng)無(wú)線電前端性能

本應(yīng)用筆記介紹了硅鍺如何增強(qiáng)RF應(yīng)用中的IC性能。賈科萊托模型用于分析噪聲效應(yīng)。SiGe技術(shù)的更寬增益帶寬表明可提供更低的噪聲性能。探討了SiGe對(duì)線性...

2023-02-24 標(biāo)簽:SiGeRF無(wú)線電 1357 0

用于WCDMA應(yīng)用的MAX2322

用于WCDMA應(yīng)用的MAX2322

MAX2322為高性能SiGe接收器前端IC,優(yōu)化用于PCS (1900MHz)頻段CDMA(碼分多址)應(yīng)用。它包括一個(gè)LNA、一個(gè)混頻器和一個(gè)可選頻率...

2023-02-23 標(biāo)簽:接收器SiGe混頻器 830 0

銅夾片提供高功率整流器

銅夾片提供高功率整流器

從封裝的角度來(lái)看,這些功率二極管一直使用傳統(tǒng)的功率器件封裝,例如DPAK和D2PAK、TO220和TO-247。但是,為了提高系統(tǒng)效率,更好地將器件的熱...

2023-02-09 標(biāo)簽:二極管整流器SiGe 691 0

SiGe整流器:熱穩(wěn)定效率

SiGe整流器:熱穩(wěn)定效率

SiGe整流器集肖特基整流器的效率與快速恢復(fù)二極管的熱穩(wěn)定性于一身,讓工程師能夠優(yōu)化100-200V功率電路的設(shè)計(jì),從而達(dá)到更高的效率。該器件面向汽車、...

2023-02-09 標(biāo)簽:整流器SiGeCFP 747 0

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sige資訊

SiGe與Si選擇性刻蝕技術(shù)

SiGe與Si選擇性刻蝕技術(shù)

文章來(lái)源:半導(dǎo)體與物理 原文作者:jjfly686 本文簡(jiǎn)單介紹了兩種新型的選擇性刻蝕技術(shù)——高氧化性氣體的無(wú)等離子體刻蝕和原子層刻蝕。 全環(huán)繞柵極晶體...

2024-12-17 標(biāo)簽:SiGe刻蝕 92 0

Si/SiGe多層堆疊的干法蝕刻

Si/SiGe多層堆疊的干法蝕刻

引言 近年來(lái),硅/硅鍺異質(zhì)結(jié)構(gòu)已成為新型電子和光電器件的熱門課題。因此,人們對(duì)硅/硅鍺體系的結(jié)構(gòu)制造和輸運(yùn)研究有相當(dāng)大的興趣。在定義Si/SiGe中的不...

2023-12-28 標(biāo)簽:晶圓SiGe蝕刻 644 0

基于SiGe HBT工藝的240GHz芯片的介紹和應(yīng)用

基于SiGe HBT工藝的240GHz芯片的介紹和應(yīng)用

最近合作伙伴發(fā)布了基于SiGe HBT工藝的240GHz芯片,在這里給大家介紹一下參數(shù)和指標(biāo),針對(duì)應(yīng)用會(huì)在文末給大家一些方向性參考。 雷達(dá)前端TRA?2...

2023-11-16 標(biāo)簽:芯片功率放大器振蕩器 1297 0

深入探討封裝基板

來(lái)源:內(nèi)容來(lái)自「馭勢(shì)資本」,謝謝。 半導(dǎo)體封裝基礎(chǔ) 半導(dǎo)體制造工藝流程 半導(dǎo)體制造的工藝過(guò)程由晶圓制造(Wafer Fabr ication)、晶圓測(cè)試...

2021-10-19 標(biāo)簽:芯片半導(dǎo)體SiGe 9238 0

得捷新品Nexperia小型化高效SiGe整流器和PUI微型移動(dòng)揚(yáng)聲器介紹

本期Digi-Key Daily向大家推介兩款產(chǎn)品——Nexperia的CFP封裝SiGe整流器和PUI 12mm x 6mm移動(dòng)系列揚(yáng)聲器。 1 產(chǎn)品...

2021-10-11 標(biāo)簽:整流器SiGe揚(yáng)聲器 3347 0

關(guān)于SiGe HBT 技術(shù)和應(yīng)用的未來(lái)分析和介紹

關(guān)于SiGe HBT 技術(shù)和應(yīng)用的未來(lái)分析和介紹

在雷達(dá)應(yīng)用這塊, 除了早已上市的77-78,79-81GHz雷達(dá),主用于ADAS。同時(shí)94GHz雷達(dá)應(yīng)用也已成熟,用于惡劣天氣,機(jī)場(chǎng)地面監(jiān)測(cè)等。 同時(shí)最...

2019-09-06 標(biāo)簽:SiGe分辨率晶體管 1.8萬(wàn) 0

格芯公布了針對(duì)一系列技術(shù)平臺(tái)而制訂的愿景和路線圖

格芯(GLOBALFOUNDRIES)公布了針對(duì)一系列技術(shù)平臺(tái)而制訂的愿景和路線圖,這些技術(shù)平臺(tái)旨在幫助客戶過(guò)渡到下一代5G無(wú)線網(wǎng)絡(luò)。格芯為多種5G應(yīng)用...

2018-05-03 標(biāo)簽:cmossige5g 1129 0

美高森美推出世界首款單晶片硅鍺RF前端器件LX5586

美高森美公司(Microsemi Corporation,紐約納斯達(dá)克交易所代號(hào):MSCC)日前推出世界首款單晶片硅鍺(SiGe)RF前端(FE)器件L...

2018-04-27 標(biāo)簽:sigewifife 1398 0

下一代高性能晶體管——納米線能否繼任FinFET

據(jù)IEEE報(bào)道,來(lái)自IMEC的Hans Mertens研究小組,使用8納米寬的密集型納米線堆棧在傳統(tǒng)硅表面上成功制作了環(huán)柵式晶體管,未來(lái)經(jīng)過(guò)技術(shù)改進(jìn)有可...

2016-11-23 標(biāo)簽:SiGe晶體管FinFET 4133 0

格羅方德推出性能增強(qiáng)型130nm硅鍺射頻技術(shù),以促進(jìn)下一代無(wú)線網(wǎng)絡(luò)通信發(fā)展

格羅方德半導(dǎo)體(GlobalFoundries)于今日宣布針對(duì)硅鍺(SiGe)高性能技術(shù)組合,推出新一代射頻芯片解決方案。該項(xiàng)技術(shù)專為需要更優(yōu)性能解決方...

2016-06-08 標(biāo)簽:SiGe射頻芯片格羅方德 1653 0

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sige數(shù)據(jù)手冊(cè)

型號(hào) 描述 數(shù)據(jù)手冊(cè) 參考價(jià)格
SE7351L-T SE7351L-T - 3.3-3.8 GHz Front-End Transceiver - SiGe Semiconductor, Inc.
SE7351L-AK3 SE7351L-AK3 - 3.3-3.8 GHz Front-End Transceiver - SiGe Semiconductor, Inc.
SE7265L-R SE7265L-R - 2.3-2.7 GHz WiMAX Power Amplifier Preliminary - SiGe Semiconductor, Inc.
SE7265L-EK1 SE7265L-EK1 - 2.3-2.7 GHz WiMAX Power Amplifier Preliminary - SiGe Semiconductor, Inc.
SE7262L-EK1 SE7262L-EK1 - 2.5-2.7 GHz WiMAX Power Amplifier - SiGe Semiconductor, Inc.

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    工業(yè)4.0是由德國(guó)政府《德國(guó)2020高技術(shù)戰(zhàn)略》中所提出的十大未來(lái)項(xiàng)目之一。該項(xiàng)目由德國(guó)聯(lián)邦教育局及研究部和聯(lián)邦經(jīng)濟(jì)技術(shù)部聯(lián)合資助,投資預(yù)計(jì)達(dá)2億歐元。旨在提升制造業(yè)的智能化水平,建立具有適應(yīng)性、資源效率及基因工程學(xué)的智慧工廠,在商業(yè)流程及價(jià)值流程中整合客戶及商業(yè)伙伴。
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Nexperia Lattice KEMET 順絡(luò)電子 霍尼韋爾 pulse ISSI NXP
Xilinx 廣瀨電機(jī) 金升陽(yáng) 君耀電子 聚洵 Liteon 新潔能 Maxim
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Samsung 風(fēng)華高科 WINBOND 長(zhǎng)晶科技 晶導(dǎo)微電子 上海貝嶺 KOA Echelon
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視頻放大器 功率放大器 頻率轉(zhuǎn)換器 揚(yáng)聲器放大器 音頻轉(zhuǎn)換器 音頻開關(guān) 音頻接口 音頻編解碼器
模數(shù)轉(zhuǎn)換器 數(shù)模轉(zhuǎn)換器 數(shù)字電位器 觸摸屏控制器 AFE ADC DAC 電源管理
線性穩(wěn)壓器 LDO 開關(guān)穩(wěn)壓器 DC/DC 降壓轉(zhuǎn)換器 電源模塊 MOSFET IGBT
振蕩器 諧振器 濾波器 電容器 電感器 電阻器 二極管 晶體管
變送器 傳感器 解析器 編碼器 陀螺儀 加速計(jì) 溫度傳感器 壓力傳感器
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