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電子發(fā)燒友網(wǎng)>測量儀表>設(shè)計測試>利用不同的安表/電壓源測量離子束

利用不同的安表/電壓源測量離子束

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2009-10-16 09:41:5931

Keithley/2400

吉時利數(shù)字源系列特別適用于需要精密電壓和電流驅(qū)動,同時進(jìn)行電流與電壓測量的測試應(yīng)用。所有源都提供精密的電壓和電流測量能力。每個均由一個高穩(wěn)定的直流和一個真儀器級的5位半多功能組成
2023-03-01 14:14:06

吉時利Keithley 6485皮

以及一種與電容設(shè)備配合使用的阻尼功能。6482 型雙通道皮/電壓提供比 6485 型或 6487 型更高的測量分辨率和雙通道 30V 電壓偏置。&nb
2023-04-20 16:59:39

美國 KRi 射頻離子源 RFICP

, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長! 射頻 RFICP  系列提供完整的系列, 包含離子源本體,
2023-05-11 13:42:32

大面積射頻離子源,KRi 射頻

380, 3層?xùn)艠O設(shè)計, 柵極口徑 38cm, 提供離子動能 100-1200eV 寬離子束, 最大離子束流 > 1000mA, 滿足 300 mm (12英寸)晶
2023-05-11 14:02:30

美國 KRi 大面積射頻離子源

離子源 RFICP 220 高能量柵極離子源, 適用于離子濺鍍, 離子沉積和離子蝕刻. 在離子束濺射工藝中, 射頻離子源 RFICP 220 配有離子光學(xué)元件, 可以
2023-05-11 14:09:08

射頻離子源,真空鍍膜離子源

RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源, 非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕. 在離子束濺射工藝中,射頻離子源 RFICP 140 配有離子光學(xué)元
2023-05-11 14:14:53

美國 KRi 考夫曼離子源,真空鍍膜離子源

75: 緊湊柵極離子源, 離子束直徑 14 cm ,可安裝在 8“CF法蘭. 適用于中小型腔內(nèi), 考夫曼離子源 KDC 75 包含2個陰極燈絲, 其中一個作為備用,
2023-05-11 15:53:50

KRi 霍爾離子源,霍爾,輔助鍍膜離子源

設(shè)計, 高電流低能量寬離子源, 提供原子等級的細(xì)微加工能力, 霍爾離子源 eH 可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業(yè), 半導(dǎo)體應(yīng)用. 霍爾離子源
2023-05-11 16:30:48

大規(guī)模集成技術(shù)5-離子注入ppt

離子注入是另一種對半導(dǎo)體進(jìn)行摻雜的方法。將雜質(zhì)電離成離子并聚焦成離子束,在電場中加速而獲得極高的動能后,注入到硅中(稱為 靶 )而實現(xiàn)摻雜。 離子束的性質(zhì) 離子束是一種
2011-05-22 12:43:520

離子束加工原理

離子束加工原理和離子束加工的應(yīng)用范圍,離子束加工的特點。
2011-05-22 12:48:4116054

離子束注入技術(shù)應(yīng)用

離子束注入技術(shù)概述 基本原理:離子束射到固體材料以后,受到固體材料的抵抗而速度慢慢減低下來,并最終停留在固體材料中,這一現(xiàn)象就叫做離子注入。 用能量為100keV量級的離子
2011-05-22 13:00:550

中國研出1米長電弧等離子束 可用于3D打印

成都一家本土企業(yè)通過自主創(chuàng)新,研制出了可以廣泛應(yīng)用于眾多工業(yè)領(lǐng)域的基礎(chǔ)熱源———層流電弧等離子束,這種等離子束可以產(chǎn)生穩(wěn)定、可控的熱源,溫度可在15000攝氏度至200攝氏度間調(diào)節(jié)。其在3D打印技術(shù)中也可以得到應(yīng)用.
2013-09-24 15:43:381561

離子束加工”引領(lǐng)微納制造產(chǎn)業(yè)下一波突破

在一張頭發(fā)薄厚、米粒大小的透明塑料薄膜上雕刻出復(fù)雜的電路,對離子束加工是小菜一碟。北京埃德萬斯公司,一家不到百人的小公司,不聲不響地持有這一前景無限、體現(xiàn)國家頂級加工能力的利器。 初冬,中關(guān)村環(huán)保園一間工廠里,幾十臺離子束刻蝕機(jī)、鍍膜機(jī)正在運行。
2016-12-13 01:48:111655

中科院在研發(fā)射頻負(fù)離子束源獲得重大突破,推動核聚變事業(yè)

近日,中科院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院等離子體物理研究所在自主發(fā)展聚變工程技術(shù)即研發(fā)射頻負(fù)離子束源方面取得重要進(jìn)展,實現(xiàn)了穩(wěn)定可重復(fù)的百秒量級強(qiáng)流負(fù)離子束引出。
2020-08-06 15:43:13904

一文看懂電子束與離子束加工工藝

電子束加工和離子束加工是近年來得到較大發(fā)展的新型特種加工。他們在精密微細(xì)加工方面,尤其是在微電子學(xué)領(lǐng)域中得到較多的應(yīng)用。通常來說,電子束加工主要用于打孔、焊接等熱加工和電子束光刻化學(xué)加工,而離子束加工則主要用于離子刻蝕、離子鍍膜和離子注入等加工。?
2021-03-17 20:10:4815

關(guān)于聚焦離子束技術(shù)的簡介與淺析

聚焦離子束技術(shù)(Focused Ion beam,F(xiàn)IB)是利用電透鏡將離子束聚焦成非常小尺寸的離子束轟擊材料表面,實現(xiàn)材料的剝離、沉積、注入、切割和改性。隨著納米科技的發(fā)展,納米尺度制造業(yè)發(fā)展迅速,而納米加工就是納米制造業(yè)的核心部分,納米加工的代表性方法就是聚焦離子束
2021-04-03 13:51:003143

聚焦離子束(FIB)技術(shù)介紹

隨著納米科技的發(fā)展,納米尺度制造業(yè)發(fā)展迅速,而納米加工就是納米制造業(yè)的核心部分,納米加工的代表性方法就是聚焦離子束。
2021-03-25 16:40:0814084

吉時利皮安表在離子束測量的應(yīng)用

離子束用于各種應(yīng)用場合,諸如,質(zhì)譜儀和離子注入機(jī)等。離子 束電流通常非常小(mA), 所以需要使用靜電計或皮安表來進(jìn)行測量。今天安泰測試為大家介紹如何使用吉時利皮安表6485 型和 6487 型皮安表來進(jìn)行這種測量工作。在電流靈敏度更高時,可以改用靜電計來進(jìn)行測量。
2021-09-10 14:04:57581

聚焦離子束顯微鏡(FIB-SEM)材料分析

一、FIB設(shè)備型號:Zeiss Auriga Compact 聚焦離子束顯微鏡 (FIB-SEM) 聚焦離子束(FIB)與掃描電子顯微鏡(SEM)耦合成為FIB-SEM雙束系統(tǒng)后,通過結(jié)合相應(yīng)的氣體
2021-11-06 09:43:132785

一文詳解離子束工藝技術(shù)

 二次離子質(zhì)譜(SIMS)是一種分析方法。具有高空間分辨率和高靈敏度的工具。它使用高度聚焦的離子束(通常是氧氣或(無機(jī)樣品用銫離子)“濺射”樣品表面上選定區(qū)域的材料。
2022-11-22 10:44:09651

聚焦離子束技術(shù)介紹

1、聚焦離子束技術(shù)(FIB) 聚焦離子束技術(shù)(Focused Ion beam,F(xiàn)IB)是利用電透鏡將離子束聚焦成非常小尺寸的離子束轟擊材料表面,實現(xiàn)材料的剝離、沉積、注入、切割和改性。隨著納米
2023-01-16 17:10:221890

半導(dǎo)體行業(yè)之離子注入工藝(十)

當(dāng)質(zhì)譜儀選擇了所需的離子后,離子將進(jìn)入后段加速區(qū)域,射束電流與最后的離子能量被控制在該區(qū)內(nèi),離子束電流利用可調(diào)整的葉片控制,而離子能量則由后段加速電極的電位控制。
2023-06-04 16:38:261185

與傳統(tǒng)濺射或熱蒸發(fā)技術(shù)相比,離子束輔助沉積有哪些優(yōu)勢?

離子束輔助沉積 (IBAD) 是一種薄膜沉積技術(shù),可與濺射或熱蒸發(fā)工藝一起使用,以獲得具有出色工藝控制和精度的最高質(zhì)量薄膜。
2023-06-08 11:10:22984

上海伯東大口徑射頻離子源成功應(yīng)用于12英寸IBE 離子束蝕刻機(jī)

上海伯東美國?KRi?考夫曼公司大口徑射頻離子源?RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸?IBE 離子束蝕刻機(jī), 實現(xiàn) 300mm 和 200mm 硅片蝕刻, 刻蝕
2023-06-15 14:58:47665

KRi 射頻離子源應(yīng)用于國產(chǎn)離子束濺射鍍膜機(jī) IBSD

上海伯東客戶某高校使用國產(chǎn)品牌離子束濺射鍍膜機(jī)用于金屬薄膜制備, 工藝過程中, 國產(chǎn)離子源鎢絲僅使用 18個小時就會燒斷, 必須中斷鍍膜工藝更換鎢絲, 無法滿足長時間離子束濺射鍍膜的工藝要求, 導(dǎo)致
2023-05-25 15:53:36770

AMEYA360分析蔡司用于亞10納米級應(yīng)用的離子束顯微鏡

蔡司用于亞10納米級應(yīng)用的離子束顯微鏡ORION NanoFab,集 3 種聚焦離子束于一身的顯微鏡,可以實現(xiàn)亞 10 nm 結(jié)構(gòu)的超高精度加工快速、精準(zhǔn)的亞 10 納米結(jié)構(gòu)加工。借助 ORION
2023-07-19 15:45:07244

雙束聚焦離子束FIBSEM在微電子技術(shù)中的應(yīng)用

博仕檢測聚焦離子束FIB-SEM測試案例
2023-09-04 18:49:41461

美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應(yīng)用

上海伯東美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應(yīng)用上海伯東美國 KRi 霍爾離子源 EH 系列, 提供高電流低能量寬離子束, KRi 霍爾離子源可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種
2023-05-11 13:26:30

KRi 射頻離子源 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用

上海伯東美國 KRi 考夫曼品牌 RF 射頻離子源, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的寬離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積
2023-05-25 10:18:34

KRi 離子源 e-beam 電子蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用

上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 系列, 通過加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強(qiáng)設(shè)計輸出低電流高能量寬離子束, 通過同時的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積
2023-05-25 10:22:37

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