RM新时代网站-首页

電子發(fā)燒友App

硬聲App

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>半導(dǎo)體技術(shù)>工藝/制造>聯(lián)華電子與SuVolta宣布聯(lián)合開發(fā)28納米低功耗工藝技術(shù)

聯(lián)華電子與SuVolta宣布聯(lián)合開發(fā)28納米低功耗工藝技術(shù)

收藏

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴

評論

查看更多

相關(guān)推薦

三星使用EUV成功完成5nm FinFET工藝開發(fā)

16日,三星電子宣布在基于EUV的高級節(jié)點方面取得了重大進展,包括7nm批量生產(chǎn)和6nm客戶流片,以及成功完成5nm FinFET工藝開發(fā)。 三星電子宣布其5納米(nm)FinFET工藝技術(shù)開發(fā)
2019-04-18 15:48:476010

賽靈思(Xilinx)宣布新一代20納米工藝技術(shù)

電子發(fā)燒友網(wǎng)訊: 在28納米產(chǎn)品和新平開發(fā)軟件平臺Vivado發(fā)布后,賽靈思并沒有停止新工藝開發(fā)的腳步。日前賽靈思宣布了其20納米的產(chǎn)品規(guī)劃。 賽靈思全球高級副總裁、亞太區(qū)執(zhí)行總
2012-11-14 10:43:401136

SuVolta發(fā)表電路級DDC技術(shù)效能與功耗優(yōu)勢

SuVolta公司展示其「深度耗盡通道」( Deeply Depleted Channel;DDC )技術(shù)在效能及功耗方面的優(yōu)勢。
2013-01-10 11:36:181040

Cadence和臺積電加強合作,共同為16納米FinFET工藝技術(shù)開發(fā)設(shè)計架構(gòu)

Cadence設(shè)計系統(tǒng)公司(Cadence Design Systems, Inc.)(納斯達克代碼:CDNS)今日宣布與TSMC簽訂了一項長期合作協(xié)議,共同開發(fā)16納米FinFET技術(shù),以其適用于
2013-04-09 11:00:05798

Altera與臺積在55納米嵌入式閃存工藝技術(shù)領(lǐng)域展開合作

Altera公司與臺積公司今日共同宣布在55納米嵌入式閃存 (EmbFlash) 工藝技術(shù)上展開合作,Altera公司將采用臺積公司的55納米前沿嵌入式閃存工藝技術(shù)生產(chǎn)可程序器件,廣泛支持汽車及工業(yè)等各類市場的多種低功耗、大批量應(yīng)用。
2013-04-16 09:05:09925

三星10納米芯片制造工藝助力處理器升級

在國際電子電路研討會大會(ISSCC)上,三星展示了采用10納米FinFET工藝技術(shù)制造的300mm晶圓,這表明三星10納米FinFET工藝技術(shù)最終基本定型。
2015-05-28 10:25:271715

工藝性能大提升 可實現(xiàn)最大6GB內(nèi)存封裝

三星電子公司今天宣布批量生產(chǎn)基于其高級20納米工藝技術(shù)的業(yè)界首款12Gb LPDDR4(低功耗雙數(shù)據(jù)速率4)移動DRAM。
2015-09-11 10:21:011421

聯(lián)電聯(lián)手AVALANCHE 合作開發(fā)28納米MRAM技術(shù)

據(jù)臺灣經(jīng)濟日報最新消息,聯(lián)電(2303)與下一代ST-MRAM(自旋轉(zhuǎn)移力矩磁阻RAM)領(lǐng)導(dǎo)者美商Avalanche共同宣布,合作技術(shù)開發(fā)MRAM及相關(guān)28納米產(chǎn)品;聯(lián)電即日起透過授權(quán),提供客戶具有成本效益的28納米嵌入式非揮發(fā)性MRAM技術(shù)。
2018-08-09 10:38:123129

瑞薩電子宣布開發(fā)支持低功耗藍牙? 5.3的下一代無線MCU

瑞薩電子今日宣布,將開發(fā)全新微控制器(MCU),以支持最近發(fā)布的低功耗(LE)藍牙? 5.3規(guī)范。
2021-10-21 15:34:201291

95納米eNVM工藝安徽平臺制勝8位MCU大時代市場怎么樣

(Microcontroller Unit, MCU)市場,最新推出95納米單絕緣柵非易失性嵌入式存儲器(95納米5V SG eNVM)工藝平臺。在保證產(chǎn)品穩(wěn)定性能的同時,95納米5V SG eNVM工藝平臺以其低功耗、低成本
2017-08-31 10:25:23

低功耗DFM和高速接口

要解決一系列的技術(shù)難題。為此,我們邀請FPGA企業(yè)、EDA企業(yè)、IP企業(yè)、芯片制造企業(yè)共同探討新工藝技術(shù)的研發(fā)關(guān)鍵點。 Altera技術(shù)經(jīng)理相奇博士:40納米技術(shù)應(yīng)對高靜態(tài)功耗和高速I/O挑戰(zhàn)
2019-05-20 05:00:10

低功耗戰(zhàn)略優(yōu)勢

上受益于和TSMC的合作。這種緊密的合作關(guān)系使Altera能夠在CycloneIII中充分發(fā)揮TSMC低功耗65nm工藝技術(shù)的優(yōu)勢,和競爭器件相比,大大降低了功耗。我們在45nm產(chǎn)品開發(fā)中也取得了很大進步,將在2008年推出我們的首款45nm產(chǎn)品。
2019-07-16 08:28:35

低功耗藍牙技術(shù)在可穿戴電子中有什么應(yīng)用?

可穿戴設(shè)備可分為哪幾類?低功耗藍牙技術(shù)在可穿戴電子中有什么應(yīng)用?
2021-05-24 07:16:07

EMC設(shè)計、工藝技術(shù)基本要點和問題處理流程

EMC設(shè)計、工藝技術(shù)基本要點和問題處理流程推薦給大家參考。。
2015-08-25 12:05:04

FPGA設(shè)計中常用的低功耗技術(shù)是什么?

結(jié)合采用低功耗元件和低功耗設(shè)計技術(shù)在目前比以往任何時候都更有價值。隨著元件集成更多功能,并越來越小型化,對低功耗的要求持續(xù)增長。當把可編程邏輯器件用于低功耗應(yīng)用時,限制設(shè)計的低功耗非常重要。如何減小動態(tài)和靜態(tài)功耗?如何使功耗最小化?
2019-08-27 07:28:24

MATLAB&STM32CubeMX聯(lián)合開發(fā)

MATLAB&STM32CubeMX聯(lián)合開發(fā)系列——不用手寫一行代碼就能實現(xiàn)CAN通訊從第一次搭建好MATLAB和STM32CubeMX的聯(lián)合開發(fā)環(huán)境有一段時間了,之前已經(jīng)發(fā)布了兩個實例
2021-08-17 08:00:20

MATLAB/RTW與STM32f407的聯(lián)合開發(fā),求助資料?

最近在學(xué)習(xí)MATLAB/RTW與STM32f407,遇到一些問題,請問誰有過類似聯(lián)合開發(fā)的經(jīng)驗或者資料?不勝感謝!!!!
2016-02-01 20:45:21

Sic mesfet工藝技術(shù)研究與器件研究

Sic mesfet工藝技術(shù)研究與器件研究針對SiC 襯底缺陷密度相對較高的問題,研究了消除或減弱其影響的工藝技術(shù)并進行了器件研制。通過優(yōu)化刻蝕條件獲得了粗糙度為2?07 nm的刻蝕表面;犧牲氧化
2009-10-06 09:48:48

下一代的模擬和射頻設(shè)計驗證工具將會是什么樣的?

完全解決的。這些挑戰(zhàn)包括:多于10萬個器件的設(shè)計復(fù)雜度、大于幾GHz的時鐘主頻、納米級的CMOS工藝技術(shù)低功耗、工藝變化、非常明顯的非線性效應(yīng)、極度復(fù)雜的噪聲環(huán)境以及無線/有線通訊協(xié)議的支持問題?! ?
2019-10-11 06:39:24

主流手機芯片性能排行 2021年手機CPU性能前十名

通 驍龍 8 Gen 1:2021年12月1日公布,4納米工藝技術(shù)制造3、蘋果A14 Bionic:2020年9月15日公布,5納米工藝技術(shù)制造4、高通 驍龍 888 Plus:2021年6月28日公布
2021-12-25 08:00:00

剛?cè)嵝訮CB制造工藝技術(shù)的發(fā)展趨勢

PCB部件使用PI膜作為柔性芯板,并覆蓋聚酰亞胺或丙烯酸膜。粘合劑使用低流動性預(yù)浸料,最后將這些基材層壓在一起以制成剛撓性PCB。剛?cè)嵝訮CB制造工藝技術(shù)的發(fā)展趨勢:未來,剛?cè)峤Y(jié)合PCB將朝著超薄,高密度
2019-08-20 16:25:23

半導(dǎo)體工藝技術(shù)的發(fā)展趨勢

  業(yè)界對哪種半導(dǎo)體工藝最適合某一給定應(yīng)用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用,但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP
2019-07-05 08:13:58

半導(dǎo)體工藝技術(shù)的發(fā)展趨勢是什么?

業(yè)界對哪種半導(dǎo)體工藝最適合某一給定應(yīng)用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用,但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP
2019-08-20 08:01:20

基于微捷碼的超低功耗FPGA優(yōu)化

芯片設(shè)計解決方案供應(yīng)公司微捷碼(Magma)設(shè)計自動化有限公司近日宣布,已和專為消費性應(yīng)用提供超低功耗65納米FPGA(現(xiàn)場可編程門陣列)技術(shù)的先驅(qū)者SiliconBlue科技公司正式簽定技術(shù)
2019-07-26 07:29:40

如何利用Freeze技術(shù)的FPGA實現(xiàn)低功耗設(shè)計?

如何利用Freeze技術(shù)的FPGA實現(xiàn)低功耗設(shè)計?
2021-04-29 06:27:52

如何利用賽靈思28納米工藝加速平臺開發(fā)

一半,而性能提高兩倍。通過選擇一個高性能低功耗工藝技術(shù),一個覆蓋所有產(chǎn)品系列的、統(tǒng)一的、可擴展的架構(gòu),以及創(chuàng)新的工具,賽靈思將最大限度地發(fā)揮 28 納米技術(shù)的價值, 為客戶提供具備 ASIC 級功能
2019-08-09 07:27:00

如何實現(xiàn)藍牙技術(shù)低功耗?

和傳統(tǒng)藍牙技術(shù)相比,低功耗藍牙技術(shù)低功耗是如何實現(xiàn)的?
2021-05-18 06:23:30

提高多層板層壓品質(zhì)工藝技術(shù)總結(jié),不看肯定后悔

如何提高多層板層壓品質(zhì)在工藝技術(shù)
2021-04-25 09:08:11

晶圓凸起封裝工藝技術(shù)簡介

工藝技術(shù)可用于晶圓凸起,每種技術(shù)有各自的優(yōu)缺點。其中金線柱焊接凸點和電解或化學(xué)鍍金焊接凸點主要用于引腳數(shù)較少的封裝應(yīng)用領(lǐng)域包括玻璃覆晶封裝、軟膜覆晶封裝和RF模塊。由于這類技術(shù)材料成本高、工序
2011-12-01 14:33:02

芯片設(shè)計中的低功耗技術(shù)介紹

的方法來控制靜態(tài)功耗以及UPF的實現(xiàn)方法,然后描述UPF在設(shè)計流程中的應(yīng)用。  數(shù)字IC設(shè)計面臨的挑戰(zhàn)  制造工藝技術(shù)節(jié)點的發(fā)展比預(yù)期增加了更多的功耗。每一個新工藝都具有固有的更高的動態(tài)和漏電電流密度
2020-07-07 11:40:06

藍牙低功耗有哪些特性和技術(shù)?

低功耗藍牙有哪些特性?低功耗藍牙有哪些技術(shù)?
2021-05-14 07:08:40

請教腐蝕工藝的相關(guān)工藝流程及技術(shù)員的職責

請詳細敘述腐蝕工藝工段的工藝流程以及整個前道的工藝技術(shù)
2011-04-13 18:34:13

請問如何利用FPGA設(shè)計技術(shù)低功耗

如何利用FPGA設(shè)計技術(shù)低功耗?
2021-04-13 06:16:21

中芯國際90納米低功耗集成電路生產(chǎn)工藝技術(shù)

立足自主研發(fā)和技術(shù)創(chuàng)新,企業(yè)才有生命力。2005 年,中芯國際在成功開發(fā)0.25 微米、0.18 微米、0.13微米集成電路生產(chǎn)工藝的基礎(chǔ)上,向90 納米國際主流技術(shù)發(fā)起挑戰(zhàn)。2006 年中芯國
2009-12-14 11:39:0034

高速低壓低功耗BiCMOS邏輯電路及工藝技術(shù)

摘要:介紹了幾種高開關(guān)速度、低電源電壓等極、低功耗的BiCMOS邏輯門電路,并分析了它們的工作原理及其工藝技術(shù)情況。結(jié)果表明,這些電路的電源電壓可達到20V以下,而且信號
2010-05-13 09:59:2919

常用PCB工藝技術(shù)參數(shù)

常用PCB工藝技術(shù)參數(shù).
2010-07-15 16:03:1766

Actel與聯(lián)華電子合作生產(chǎn)65nm eFlash FPGA

低功耗的FPGA芯片領(lǐng)導(dǎo)者Actel公司與全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體晶圓代工廠聯(lián)華電子 (UMC) 宣布,雙方已合作進行Actel次世代以Flash為基礎(chǔ)的FPGA (現(xiàn)場可編程門陣列) 芯片之生產(chǎn)。此FPGA芯片將采用
2008-11-22 18:35:42704

中芯國際將45納米工藝技術(shù)延伸至40納米以及55納米

中芯國際將45納米工藝技術(shù)延伸至40納米以及55納米 上海2009年10月14日電  -- 中芯國際集成電路制造有限公司(“中芯國際”,紐約
2009-10-15 08:22:44793

英飛凌與諾基亞將聯(lián)合開發(fā)4G技術(shù)

英飛凌與諾基亞將聯(lián)合開發(fā)4G技術(shù) 芯片廠商英飛凌宣布與諾基亞合作制造用于下一代移動網(wǎng)絡(luò)的芯片,使它向諾基亞高端手機供應(yīng)芯片又邁進了一步。 英飛凌星
2009-11-27 09:02:47269

英飛凌與諾基亞將聯(lián)合開發(fā)4G技術(shù)

英飛凌與諾基亞將聯(lián)合開發(fā)4G技術(shù) 據(jù)國外媒體報道,芯片廠商英飛凌宣布與諾基亞合作制造用于下一代移動網(wǎng)絡(luò)的芯片,使它向諾基亞高端手機供應(yīng)芯片又邁
2009-11-27 15:03:33493

松下與Tesla聯(lián)合開發(fā)新一優(yōu)鋰離子電池技術(shù)

松下與Tesla聯(lián)合開發(fā)新一優(yōu)鋰離子電池技術(shù)     Tesla馬達公司與松下公司于2010年1月8日宣布聯(lián)合開發(fā)新一優(yōu)電動汽車用鋰離子電池技術(shù),Te
2010-01-09 08:34:46753

Telsa宣布和松下聯(lián)合開發(fā)新款車用電池

Telsa宣布和松下聯(lián)合開發(fā)新款車用電池  蓋世汽車訊 綜合外電報道,全球電動車制造商Tesla近日宣布,Tesla將和日本松下公司聯(lián)合
2010-01-11 08:47:34608

高通攜手TSMC,繼續(xù)28納米工藝上合作

高通攜手TSMC,繼續(xù)28納米工藝上合作 高通公司(Qualcomm Incorporated)與其專業(yè)集成電路制造服務(wù)伙伴-TSMC前不久日共同宣布,雙方正在28納米工藝技術(shù)進行密切合作。此
2010-01-13 08:59:23910

賽靈思宣布采用 28 納米工藝加速平臺開發(fā)

賽靈思宣布采用 28 納米工藝加速平臺開發(fā)  全球可編程邏輯解決方案領(lǐng)導(dǎo)廠商賽靈思公司 (Xilinx Inc.  ) 今天宣布,為推進可編程勢在必行之必然趨勢,正對系統(tǒng)工
2010-02-23 11:16:21383

統(tǒng)一工藝和架構(gòu),賽靈思28納米FPGA成就高性能和低功耗的完

統(tǒng)一工藝和架構(gòu),賽靈思28納米FPGA成就高性能和低功耗的完美融合 賽靈思公司(Xilinx)近日宣布,為推進可編程勢在必行之必然趨勢,正對系統(tǒng)工程師在全球發(fā)布賽靈思
2010-03-02 08:48:51576

新思科技與中芯國際合作推出用于中芯65納米低漏電工藝技術(shù)的、

新思科技與中芯國際合作推出用于中芯65納米低漏電工藝技術(shù)的、獲得USB標志認證的DesignWareUSB 2.0 nanoPHY 通過芯片驗證的DesignWare PHY IP
2010-05-20 17:39:09588

采用英特爾22nm工藝技術(shù)的FPGA開發(fā)

  Achronix半導(dǎo)體公司宣布:該公司已經(jīng)戰(zhàn)略性地獲得了英特爾公司22納米工藝技術(shù)的使用權(quán),并計劃開發(fā)最先進的現(xiàn)場可編程門陣列(FPGA)
2010-11-15 09:06:29553

高通首款基于28納米工藝的Snapdragon芯片組MSM8

  近期,高通公司宣布將推出首款基于28納米工藝的Snapdragon芯片組MSM8960并宣布此芯片組將于2011財年開始出樣?;?b class="flag-6" style="color: red">28納米工藝的該芯片組采用新的CPU內(nèi)核為特征,主要針對高端
2010-11-24 09:19:571471

微捷碼32/28納米低功耗工藝層次化參考流程

微捷碼(Magma®)設(shè)計自動化有限公司日前宣布,一款經(jīng)過驗證的支持Common Platform™聯(lián)盟32/28納米低功耗工藝技術(shù)的層次化RTL-to-GDSII參考流程正式面市。
2011-01-26 09:44:09894

中國IC設(shè)計公司聚焦世界領(lǐng)先的28納米技術(shù)

中國頂尖IC設(shè)計公司已經(jīng)采用了28納米尖端技術(shù)開發(fā)芯片,而9.2% 本地無晶圓廠半導(dǎo)體公司亦采用先進的45納米或以下的工藝技術(shù)進行設(shè)計及大規(guī)模量產(chǎn)。
2011-09-07 11:23:501556

中國采用28納米技術(shù)開發(fā)芯片

中國頂尖設(shè)計公司已經(jīng)采用28納米尖端技術(shù)開發(fā)芯片,而本地9.2%無晶圓廠半導(dǎo)體公司亦采用先進的45納米或以下的工藝技術(shù)進行設(shè)計及大規(guī)模量產(chǎn)
2011-09-13 09:00:403212

ARM與聯(lián)電拓展長期IP合作伙伴關(guān)系至28納米

ARM公司與全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體晶圓代工商聯(lián)電近日共同宣布達成長期合作協(xié)議,將為聯(lián)電的客戶提供已經(jīng)通過聯(lián)電28HPM工藝技術(shù)驗證的ARM Artisan物理IP解決方案。這項最新的28納米工藝技術(shù)
2011-10-13 09:32:44631

瑞薩電子宣布開發(fā)新型近場無線技術(shù)

瑞薩電子株式會社(以下簡稱瑞薩電子) 于2011年6月14日宣布開發(fā)新型超低功耗近場 距離(低于1米的范圍內(nèi))無線技術(shù),通過此技術(shù)實現(xiàn)極小終端設(shè)備(傳感器節(jié)點)即可將各種傳感器信息發(fā)送
2011-10-18 09:38:14480

瑞薩電子和Hilscher聯(lián)合開發(fā)新型片上系統(tǒng)(SoC)

瑞薩電子公司和工業(yè)通信系統(tǒng)設(shè)備供應(yīng)商Hilscher公司今天宣布聯(lián)合開發(fā)新型片上系統(tǒng)(SoC)
2011-11-24 08:43:34545

Synopsys推出可用于TSMC 28納米工藝的DesignWare嵌入式存儲器和邏輯庫

新思科技有限公司(Synopsys, Inc., 納斯達克股票市場代碼:SNPS)日前宣布:即日起推出其用于臺灣積體電路制造股份有限公司(TSMC)28納米高性能(HP)和移動高性能(HPM)工藝技術(shù)
2012-02-22 14:04:27754

降低賽靈思28nm 7系列FPGA的功耗

本白皮書介紹了有關(guān)賽靈思 28 nm 7 系列 FPGA 功耗的幾個方面,其中包括臺積電 28nm高介電層金屬閘 (HKMG) 高性能低功耗28nm HPL 或 28 HPL)工藝的選擇。 本白皮書還介紹了 28 HPL 工藝提供
2012-03-07 14:43:4441

TSMC持續(xù)開發(fā)先進工藝技術(shù)節(jié)點 中國IC設(shè)計發(fā)展可期

隨著芯片微縮,開發(fā)先進工藝技術(shù)的成本也越來越高。TSMC對外發(fā)言人孫又文表示,臺積電會繼續(xù)先進工藝技術(shù)節(jié)點的投入和開發(fā),今年年底臺積電將推出20nm工藝
2012-08-30 14:34:301782

Spansion公司和聯(lián)華電子公司聯(lián)合開發(fā)40nm工藝技術(shù)

聯(lián)華電子與閃存解決方案領(lǐng)導(dǎo)廠商Spansion 4日共同宣布,將展開40納米工藝研發(fā)合作,此份非專屬授權(quán)協(xié)議包含了授權(quán)聯(lián)華電子采用此技術(shù)為Spansion制造產(chǎn)品。
2013-03-06 10:17:34922

聯(lián)華電子28nm節(jié)點采用Cadence物理和電學(xué)制造性設(shè)計簽收解決方案

全球電子設(shè)計創(chuàng)新領(lǐng)先企業(yè)Cadence設(shè)計系統(tǒng)公司(NASDAQ:CDNS)今天宣布,歷經(jīng)廣泛的基準測試后,半導(dǎo)體制造商聯(lián)華電子(NYSE:UMC;TWSE:2303)(UMC)已采用Cadence? “設(shè)計內(nèi)”和“簽收”可制造性設(shè)計(DFM)流程對28納米設(shè)計進行物理簽收和電學(xué)變量優(yōu)化。
2013-07-18 12:02:09905

聯(lián)華電子開始量產(chǎn)德商Lantiq通訊芯片產(chǎn)品

聯(lián)華電子和寬帶存取與家庭網(wǎng)絡(luò)技術(shù)的領(lǐng)先供貨商Lantiq今日(28日)共同宣布,Lantiq應(yīng)用于有線電話的SPT170高壓電源管理芯片產(chǎn)品,已于聯(lián)華電子進入量產(chǎn)。
2014-10-30 09:40:49848

Qorvo采用全新GaAs工藝技術(shù)提高光帶寬

2015年4月27日 – 移動應(yīng)用、基礎(chǔ)設(shè)施與航空航天、國防應(yīng)用中RF解決方案的領(lǐng)先供應(yīng)商Qorvo, Inc.(納斯達克代碼:QRVO)日前宣布推出一項全新的砷化鎵(GaAs)贗晶型高電子遷移率晶體管(pHEMT)工藝技術(shù),與競爭對手的半導(dǎo)體工藝相比,該技術(shù)能夠提供更高的增益/帶寬和更低的功耗。
2015-04-28 11:37:09973

ARM與聯(lián)華電子達成最新的28HPC POP工藝合作,擴大28納米IP領(lǐng)先地位

  2016年2月5日,北京訊——ARM 宣布,從即日起全球晶圓專工領(lǐng)導(dǎo)者聯(lián)華電子(UMC)的28納米28HPCU工藝可采用ARM? Artisan? 物理IP平臺和ARM POP? IP。
2016-02-15 11:17:49896

聯(lián)華電子認證Cadence Virtuoso LDE Analyzer適用于其28HPCU制程

, LDE) Analyzer 分析方案通過聯(lián)華電子認證,支援其28納米HPCU(High Performance Compact,高效能精簡型)制程技術(shù)。
2016-04-15 10:09:071939

半導(dǎo)體工藝技術(shù)

半導(dǎo)體的制造流程以及各工位的詳細工藝技術(shù)
2016-05-26 11:46:340

Cadence 與 SMIC 聯(lián)合發(fā)布低功耗 28納米數(shù)字設(shè)計參考流程

“我們與 Cadence 密切合作開發(fā)參考流程,幫助我們的客戶加快其差異化的低功耗、高性能芯片的設(shè)計,”中芯國際設(shè)計服務(wù)中心資深副總裁湯天申博士表示,“Cadence創(chuàng)新的數(shù)字實現(xiàn)工具與中芯國際28納米工藝的緊密結(jié)合,能夠幫助設(shè)計團隊將28納米設(shè)計達到更低的功耗以及更快的量產(chǎn)化。”
2016-06-08 16:09:562242

PCB測試工藝技術(shù)

PCB測試工藝技術(shù),很詳細的
2016-12-16 21:54:480

三星10nm工藝技術(shù)已經(jīng)在Galaxy S8上提供支持

三星10納米工藝技術(shù)公告:全球領(lǐng)先的三星電子先進的半導(dǎo)體元器件技術(shù)正式宣布,其第二代10納米(nm)FinFET工藝技術(shù),10LPP(Low Power Plus)已經(jīng)合格并準備就緒用于批量生產(chǎn)。
2017-05-03 01:00:11580

Cadence數(shù)字、簽核與定制/模擬工具助力實現(xiàn)三星7LPP和8LPP工藝技術(shù)

2017年6月2日,上海——楷登電子(美國 Cadence 公司,NASDAQ: CDNS) 今日宣布其數(shù)字、簽核與定制/模擬工具成功在三星電子公司7LPP和8LPP工藝技術(shù)上實現(xiàn)。較前代高階工藝
2017-06-02 16:04:341237

華虹半導(dǎo)體與晟矽微電聯(lián)合宣布:基于95納米OTP工藝平臺的首顆MCU開發(fā)成功

晟矽微電子股份有限公司(“晟矽微電”,股份代號:430276)今日聯(lián)合宣布,基于95納米單絕緣柵一次性編程MCU(95納米CE 5V OTP MCU)工藝平臺開發(fā)的首顆微控制器(Microcontroller Unit, MCU)(產(chǎn)品型號MC30P6230)已成功驗證,即將導(dǎo)入量產(chǎn)。
2017-11-03 10:37:249818

臺積電tsmc低功耗技術(shù)大進展,極低功耗半導(dǎo)體是電子的關(guān)鍵

臺積電業(yè)務(wù)開發(fā)副總經(jīng)理金平中指出,臺積電的超低功耗平臺包括55納米低功耗技術(shù)、40納米低功耗技術(shù)、22納米低功耗/超低漏電技術(shù)等,都已經(jīng)被各種穿戴式產(chǎn)品和物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用采用,同時,臺積電也把超低功耗
2017-12-11 15:03:291409

CohdaWireless展示聯(lián)合開發(fā)的新型V2X參考設(shè)計方案

大會(ITS World Congress 2016)上展示聯(lián)合開發(fā)的新型V2X參考設(shè)計方案 全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體解決方案供應(yīng)商瑞薩電子株式會社(TSE:6723)和車聯(lián)網(wǎng)(V2X)及聯(lián)網(wǎng)自動駕駛汽車
2018-04-25 22:20:002144

智原科技與聯(lián)華電子共同發(fā)表55納米低功耗工藝(55ULP)的PowerSlash基礎(chǔ)IP方案

于聯(lián)電55納米低功耗工藝(55ULP)的 PowerSlash 基礎(chǔ)IP方案。智原 PowerSlash 與聯(lián)電工藝技術(shù)相互結(jié)合設(shè)計,為超低功耗的無線應(yīng)用需求技術(shù)進行優(yōu)化,滿足無線物聯(lián)網(wǎng)產(chǎn)品的電池長期壽命需求。 智原科技營銷暨投資副總于德洵表示:物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用建構(gòu)過程中,效能往往受制于低功耗技術(shù)。
2018-03-05 15:08:005142

中芯國際向ASML預(yù)訂最昂貴和最先進的芯片生產(chǎn)工具

中芯國際仍在努力提升自己的28納米工藝技術(shù),曾在三星電子公司和臺積電擔任高管的梁孟松,去年擔任中芯國際聯(lián)合首席執(zhí)行官,他的加入將有助于中芯國際開發(fā)自己的14納米工藝技術(shù)。三星電子公司和臺積電目前正競相生產(chǎn)7納米工藝技術(shù)芯片。
2018-05-18 08:58:134552

飛騰電子發(fā)布業(yè)界最低功耗的NB-IoT模組

南京飛騰電子近日宣布,正式發(fā)布業(yè)界最低功耗的安全 NB-IoT 模組 FT780,該模組是由飛騰電子和中興微電子基于 RoseFinch7100 超低功耗 NB-IoT 芯片上聯(lián)合開發(fā),尺寸僅為 18mm x16mmx2.3mm,是目前業(yè)界最小的模塊,適用于超低功耗和超小型化的應(yīng)用場景。
2018-10-07 19:16:574276

華力28納米低功耗工藝平臺芯片進入量產(chǎn)階段

近日,華虹集團旗下中國領(lǐng)先的12英寸晶圓代工企業(yè)上海華力與全球IC設(shè)計領(lǐng)導(dǎo)廠商---聯(lián)發(fā)科技股份有限公司(以下簡稱“聯(lián)發(fā)科技”)共同宣布,在兩家公司的互相信任及持續(xù)努力下,近日雙方合作成果之一---基于上海華力28納米低功耗工藝平臺的一顆無線通訊數(shù)據(jù)處理芯片成功進入量產(chǎn)階段。
2018-12-12 15:15:012029

基于上海華力28納米低功耗工藝平臺處理芯片成功量產(chǎn)

12月11日,華虹集團旗下中國領(lǐng)先的12英寸晶圓代工企業(yè)上海華力與全球IC設(shè)計領(lǐng)導(dǎo)廠商---聯(lián)發(fā)科技股份有限公司(以下簡稱“聯(lián)發(fā)科技”)共同宣布,在兩家公司的互相信任及持續(xù)努力下,近日雙方合作成果之一---基于上海華力28納米低功耗工藝平臺的一顆無線通訊數(shù)據(jù)處理芯片成功進入量產(chǎn)階段。
2018-12-14 15:47:303159

上海華力28納米低功耗工藝進入量產(chǎn)

華虹集團旗下中國領(lǐng)先的12英寸晶圓代工企業(yè)上海華力與全球IC設(shè)計領(lǐng)導(dǎo)廠商---聯(lián)發(fā)科技股份有限公司(以下簡稱“聯(lián)發(fā)科技”)共同宣布,在兩家公司的互相信任及持續(xù)努力下,近日雙方合作成果之一---基于上海華力28納米低功耗工藝平臺的一顆無線通訊數(shù)據(jù)處理芯片成功進入量產(chǎn)階段。
2019-01-01 15:13:003780

基于上海華力28納米低功耗工藝平臺的芯片進入量產(chǎn)

華虹集團旗下上海華力與聯(lián)發(fā)科技股份有限公司共同宣布,在兩家公司的互相信任及持續(xù)努力下,近日雙方合作成果之一——基于上海華力28納米低功耗工藝平臺的一顆無線通訊數(shù)據(jù)處理芯片成功進入量產(chǎn)階段。
2019-01-07 14:15:453224

曝寶馬與戴姆勒(奔馳母公司)商談聯(lián)合開發(fā)電動車平臺

繼寶馬與戴姆勒(奔馳母公司)宣布成立合資出行集團之后,寶馬戴姆勒商談聯(lián)合開發(fā)電動車平臺。
2019-03-21 16:47:403702

三星宣布已完成5納米FinFET工藝技術(shù)開發(fā)

4月16日,三星官網(wǎng)發(fā)布新聞稿,宣布已經(jīng)完成5納米FinFET工藝技術(shù)開發(fā),現(xiàn)已準備好向客戶提供樣品。
2019-04-16 17:27:233008

新思科技成為首個獲得三星EUV技術(shù)5LPE工藝認證的平臺

低功耗,簡稱“LPE”)工藝。人工智能(AI)增強型云就緒Fusion Design Platform提供前所未有的全流程設(shè)計實現(xiàn)質(zhì)量和設(shè)計收斂速度,實現(xiàn)三星5LPE工藝技術(shù)提供的超高性能和低功耗,加速新一波半導(dǎo)體設(shè)計的開發(fā),包括高性能計算(HPC)、汽車、5G和人工智能細分市場。
2019-06-12 13:48:353552

東芝推出第二代工藝技術(shù) 采用新型嵌入式NAND閃存模塊

東京日前宣布推出新型嵌入式NAND閃存模塊(e·MMC),該模塊整合了采用19納米第二代工藝技術(shù)制造的NAND芯片。
2019-06-12 17:13:58660

瑞薩與臺積電將合作開發(fā)28nm納米嵌入式閃存制程技術(shù)

瑞薩電子與臺積電共同宣布,雙方合作開發(fā)28納米嵌入式閃存(eFlash)制程技術(shù),以生產(chǎn)支持新一代環(huán)保汽車與自動駕駛汽車的微控制器(MCU)。
2019-11-29 11:13:162164

聯(lián)華電子宣布22納米制程技術(shù)就緒 擁有更好的功率效能比以及強化射頻性能

聯(lián)華電子2日表示,在使用USB 2.0測試載具并成功通過硅驗證之后,正式宣布更先進的22納米制程技術(shù)就緒。
2019-12-03 15:40:342106

法拉第宣布與飛利浦達成一項聯(lián)合開發(fā)協(xié)議

12月16日消息,據(jù)國外媒體報道,周二,由賈躍亭創(chuàng)辦的美國電動汽車初創(chuàng)企業(yè)法拉第未來(Faraday Future,簡稱FF)宣布與飛利浦知識產(chǎn)權(quán)與標準公司達成一項聯(lián)合開發(fā)協(xié)議。
2020-12-16 10:15:581536

報道稱聯(lián)華電子正提高 12 英寸晶圓代工廠產(chǎn)能,主要滿足 28nm 工藝產(chǎn)能需求

,以提高產(chǎn)能。 而從英文媒體最新的報道來看,聯(lián)華電子也在提高 12 英寸晶圓代工廠的產(chǎn)能,以滿足相關(guān)制程工藝的需求。 英文媒體是援引產(chǎn)業(yè)鏈人士透露的消息,報道聯(lián)華電子正提高 12 英寸晶圓代工廠的產(chǎn)能的,主要是滿足 28nm 工藝的產(chǎn)能需求。
2021-01-18 17:11:282288

三星宣布其基于柵極環(huán)繞型晶體管架構(gòu)的3nm工藝技術(shù)已經(jīng)正式流片

目前從全球范圍來說,也就只有臺積電和三星這兩家能做到5納米工藝以下了。6月29日晚間,據(jù)外媒報道,三星宣布其基于柵極環(huán)繞型 (Gate-all-around,GAA) 晶體管架構(gòu)的3nm工藝技術(shù)已經(jīng)
2021-07-02 11:21:542254

西門子與聯(lián)華電子合作開發(fā)面向汽車和電源應(yīng)用的設(shè)計套件

西門子數(shù)字化工業(yè)軟件與聯(lián)華電子 (UMC) 近日達成合作,共同開發(fā)適用于聯(lián)華電子 110 納米和 180 納米 BCD 技術(shù)平臺的工藝設(shè)計套件 (PDK)。
2022-02-17 10:43:201132

西門子與聯(lián)華電子合作開發(fā)適用于BCD技術(shù)平臺的工藝設(shè)計套件

西門子數(shù)字化工業(yè)軟件與聯(lián)華電子 (UMC) 近日達成合作,共同開發(fā)適用于聯(lián)華電子 110 納米和 180 納米 BCD 技術(shù)平臺的工藝設(shè)計套件 (PDK)。聯(lián)華電子為全球半導(dǎo)體晶圓專工業(yè)業(yè)者,專注
2022-04-02 09:54:041687

全面解讀電子封裝工藝技術(shù)

全面解讀電子封裝工藝技術(shù)
2022-10-10 11:00:51876

歐陸通和意法半導(dǎo)體攜手設(shè)立數(shù)字電源聯(lián)合開發(fā)實驗室

國內(nèi)知名電源品牌歐陸通與意法半導(dǎo)體(ST)宣布,雙方將在歐陸通子公司上海安世博及杭州云電科技兩地分別設(shè)立針對數(shù)字電源應(yīng)用的聯(lián)合開發(fā)實驗室,擬在服務(wù)器電源及新能源技術(shù)及產(chǎn)品開發(fā)領(lǐng)域探索更多可能性。兩個
2023-04-29 14:35:241751

2006電子元器件搪錫工藝技術(shù)要求

2006電子元器件搪錫工藝技術(shù)要求
2023-08-23 16:48:033

電子產(chǎn)品裝聯(lián)工藝技術(shù)詳解

電子產(chǎn)品裝聯(lián)工藝技術(shù)詳解
2023-10-27 15:28:22373

三菱電機與安世宣布聯(lián)合開發(fā)高效的碳化硅(SiC)功率半導(dǎo)體

2023年11月,日本三菱電機、安世半導(dǎo)體(Nexperia)宣布,將聯(lián)合開發(fā)高效的碳化硅(SiC)MOSFET分立產(chǎn)品功率半導(dǎo)體。
2023-11-25 16:50:53451

已全部加載完成

RM新时代网站-首页