資料介紹
摘要:應(yīng)用X射線衍射儀的薄膜附件對(duì)熱絲化學(xué)氣相沉積金剛石厚膜的成核面和生長(zhǎng)面進(jìn)行分析,結(jié)果表明,金剛石厚膜的晶格常數(shù)從生長(zhǎng)面到形核面沿深度方向是逐漸變小的?;瘜W(xué)氣相沉積金剛石初期生長(zhǎng)的晶體存在大量的空位等缺陷,晶格松弛,在金剛石膜持續(xù)生長(zhǎng)過(guò)程中,形核面和膜內(nèi)部在高溫下發(fā)生長(zhǎng)時(shí)間的自退火,缺陷濃度下降,晶格松弛現(xiàn)象消除,晶格常數(shù)變小并趨于理論值。試驗(yàn)表明,經(jīng)長(zhǎng)時(shí)間高溫自退火的金剛石厚膜比薄膜具有更高的耐磨性。
關(guān)鍵詞:CVD金剛石膜;X射線衍射;晶格松弛;自退火;耐磨性能
化學(xué)氣相沉積(CVD)金剛石厚膜具有廣闊的應(yīng)用前景,如用作機(jī)械加工刀具、電子封裝熱沉材料、光學(xué)窗口材料等[1]。但沉積金剛石過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生大量缺陷,導(dǎo)致CVD金剛石膜性能下降[2],這些缺陷包括雜質(zhì)、空位等,它們?cè)谖⒂^上表現(xiàn)為晶格常數(shù)的變化。本文應(yīng)用X射線衍射儀分析了熱絲CVD法沉積的金剛石厚膜晶格常數(shù)的變化規(guī)律,采用晶格松弛的觀點(diǎn)解釋不同厚度金剛石膜的性能差異。
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